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Characteristics of pulse plated ZnTe films

机译：脉冲电镀ZnTe薄膜的特性

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Stoichiometric films of ZnTe are electrodeposited on stainless steel and conducting glass substrates from an aqueous solution consisting of ZnSO4 (50 mM), TeO2 (17 mu M) and H2SO4 to maintain a pH of 2.5. Structure, morphology, composition, and optical are studied using XRD, SEM, EDAX and optical transmittance spectroscopy The films are composed of small crystallites (50 nm) with cubic crystal structure. The films were polycrystalline in nature with peaks corresponding to the cubic phase. Direct band gap of 2.30 eV was observed. XPS studiers indicated the formation of ZnTe. EDAX measurements were made on the films and it was found that there was a slight excess of Te. AFM studies indicated a surface roughness of 15 nm and a crystallite size of 10-50 nm.
机译：ZnTe的化学计量薄膜被电沉积在不锈钢上，并从由ZnSO4（50 mM），TeO2（17μM）和H2SO4组成的水溶液中导电玻璃衬底，以保持pH值为2.5。使用XRD，SEM，EDAX和光学透射光谱学研究了结构，形态，组成和光学性质。膜由具有立方晶体结构的小微晶（50 nm）组成。膜本质上是多晶的，具有对应于立方相的峰。观察到直接带隙为2.30 eV。 XPS研究人员指出了ZnTe的形成。在膜上进行EDAX测量，发现Te略有过量。 AFM研究表明表面粗糙度为15 nm，微晶尺寸为10-50 nm。

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