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Realization of ultra dense arrays of vertical silicon nanowires with defect free surface and perfect anisotropy using a top-down approach

机译:使用自上而下的方法实现具有无缺陷表面和完美各向异性的垂直硅纳米线的超高密度阵列

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摘要

The routine synthesis of ultra dense nanowires arrays appears as an inescapable requirement to implement future generations of nanodevices. In this study, we demonstrate the fabrication of vertical of ultra dense (4 x 10~(10) cm~(-2)) Si NWs arrays using a top-down fabrication strategy. The developed process also feature nearly perfect anisotropy (98.5%), 100% yield and an excellent surface cleanliness based a self-limiting oxidation mechanism that develops in 1D nanostructure.
机译:超致密纳米线阵列的常规合成似乎是实现下一代纳米器件的必然要求。在这项研究中,我们证明了使用自顶向下的制造策略制造垂直的超高密度(4 x 10〜(10)cm〜(-2))Si NWs阵列。所开发的工艺还具有近乎完美的各向异性(98.5%),100%的产率以及基于一维纳米结构中形成的自限氧化机制的出色表面清洁度。

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