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机译:GaAs(111)B上的MBE生长和稀释的氮化物量子阱激光器的加工
Departamento de Ingenieria Electronica, ISOM: Institute for Systems Based on Optoelectronics and Microtechnology and Universidad Politecnica de Madrid, ETSI Telecomunicacion, Ciudad Universitaria s/n 28040 Madrid, Spain;
MBE; diluted nitrides; (111)B; laser diodes;
机译:MBE在GaAs上生长稀氮化物和1.3μm边缘发射激光器
机译:自组装InGaAs量子点的MBE生长在邻近(111)B GaAs表面上沿准周期多原子步骤排列
机译:氮化物半导体GaAsN的MBE生长的氮ECR等离子体源的表征
机译:在{111}和100 GaAs衬底上生长的稀氮化物之间的比较:N掺入和量子阱光学性质
机译:MBE生长和III / V氮化物半导体薄膜结构的加工:氮化镓铟镓的生长以及离子束和电子束聚焦的纳米加工。
机译:InGaAs / InAlAs / InP量子级联激光器的In0.52Al0.48As波导层MBE生长条件的优化
机译:GaAs / AlGaAs($ 〜$ 9.4 $ mu $ m)室温工作量子级联激光器的多步中断生长MBE技术