首页> 外文期刊>日経マイクロデバイス >微細化から逃げず研究開発投資は絞らない
【24h】

微細化から逃げず研究開発投資は絞らない

机译:在不背离微型化的前提下,不要缩小研发投入

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

われわれは今後も,半導体デバイスのrn微細化に必要な露光技術への対応に注rn力し続けていく。このためには,2009年rnのような経営環境が厳しい状況になってrnも,研究開発投資を続ける必要がある。rn例えば,2009年第2四半期は,売上高がrn2億2700万ユーロで,1億2500万ユーロrnの純損失を計上した。にもかかわらず,1rn億1800万ユーロの研究開発投資を行っrnた。われわれが研究開発投資を絞ってしrnまったら,例えば,EUV(extreme ultra-rnviolet)露光装置の開発が遅れ,半導体rnメーカーの事業計画に影響を与えかねなrnい。
机译:我们将继续关注半导体器件小型化所需的曝光技术。为此,即使在商业环境如2009年那样严峻的情况下,也必须继续进行研发投资。例如,2009年第二季度的销售额为2.27亿欧元,净亏损为1.25亿欧元。尽管如此,它仍在研发方面投资了1.18亿欧元。例如,如果缩小研发投入,EUV(极紫外)曝光设备的开发可能会延迟,这可能会影响半导体制造商的业务计划。

著录项

  • 来源
    《日経マイクロデバイス》 |2009年第294期|79|共1页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号