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【24h】

Development of GaAs-on-Si wafers using high-speed rotating-substrate-type MOCVD system

机译:使用高速旋转基板型MOCVD系统开发硅上GaAs晶片

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摘要

GaAs-on-Si wafers having GaAs-AlGaAs epitaxial layers grown on a Si substrate have been developed by using a metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) system of the high-speed rotating substrate type. High-Electron mobility transistor (HEMT) and metal-semiconductor field Effect transistor (MESFET) devices have been test-fabricated to evaluate The performance of the GaAs-On-Si wafers.
机译:通过使用高速旋转基板类型的金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统,已经开发了具有在Si基板上生长的GaAs-AlGaAs外延层的GaAs-on-Si晶片。高电子迁移率晶体管(HEMT)和金属半导体场效应晶体管(MESFET)器件已经过测试制造,以评估GaAs-On-Si晶片的性能。

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