Usuwanie zalewek z części precyzyjnych

首页> 外文期刊>Mechanik >Usuwanie zalewek z części precyzyjnych

【24h】

Usuwanie zalewek z części precyzyjnych

机译：清除精密零件中的陷阱

获取原文

获取原文并翻译 | 示例

掌桥外文数据库（机构版） >>

开具论文收录证明 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

Przedsiębiorstwo Benseler ma ponad 50 lat doświadczenia w dziedzinie usług dla przemysłu, przede wszystkim powlekania oraz usuwania zalewek dla dostawców z branży samochodowej.

机译：Benseler在行业服务方面拥有超过50年的经验，主要为汽车供应商提供涂层和诱集技术。

著录项

来源
《Mechanik》 |2015年第9期|597-597|共1页
作者

展开▼
作者单位

展开▼
收录信息
原文格式 PDF
正文语种 pol
中图分类
关键词

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Optymalizacja produkcji części precyzyjnych z platformą 3DEXPERIENCE [J] . Mechanik . 2020,第7期

机译：具有3DEXIPET平台的精密零件优化
2. Rewolucyjne rozwiązanie w dziedzinie frezowania w produkcji małych, precyzyjnych części [J] . Mechanik . 2013,第12期

机译：一种革命性的铣削解决方案，用于生产小型精密零件
3. Automatyczny prober do precyzyjnych pomiarów właściwości elektromagnetycznych materiałów przy częstotliwościach mikrofalowych [J] . MARCIN KARLIŃSKI, MARCIN KIEŁBASIŃSKI, JANUSZ WÓJCIK, Elektronika . 2011,第7期

机译：自动探头可精确测量微波频率下材料的电磁性能
4. Badania cz?stotliwo?ci modów drgań zjawisk o zbli?onej lokalizacji [C] . Polish-Czech-Slovakian symposium . 1999

机译：振动模式现象对特写位置的研究参与
5. CI values: The relationship between e-business information and competitive intelligence (CI) in the digital era: Studying the CI speed, width, and depth of intelligence in five digital networks. [D] . Lee, Vivian Wing-Yan. 2004

机译：CI值：数字时代电子商务信息与竞争情报（CI）之间的关系：研究五个数字网络中CI的速度，宽度和深度。
6. Comparative Transcriptomic and Molecular Pathway Analyses of HL-CZ Human Pro-Monocytic Cells Expressing SARS-CoV-2 Spike S1 S2 NP NSP15 and NSP16 Genes [O] . Anshika Sharma, Joe W. Ong, Mun Fai Loke, 2021

机译：表达SARS-COV-2穗S1S2NPNSP15和NSP16基因的HL-CZ人型单核细胞的比较转录组和分子途径分析
7. Rozumienie godności człowieka i jej znaczenie w procesie stanowienia i stosowania prawa. Propozycja testu zgodności regulacji prawnych z zasadą godności człowieka [O] . Sebastian Zieliński 2019

机译：了解人类尊严及其在制定和应用法律过程中的重要性。法律规定与人尊严原则的提案
8. Electron Attachment to Halomethanes at High Temperature: CH2CI2, CF2CI2, CH3CI, and CF3CI Attachment Rate Constants up to 1100 K [R] . Miller, T. M., Friedman, J. F., Schaffer, L. C., 2009

机译：高温下卤素的电子附着：CH 2 Cl 2，CF 2 Cl 2，CH 3 Cl和CF 3 Cl附着速率常数高达1100 K

Usuwanie zalewek z części precyzyjnych

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅