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Holographic microlithography

机译：全息微光刻

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Holographic mask aligners represent the latest addition to commercially available lithographic technologies. Their combination of very high resolution ( < 0.5 μm) and very large exposure field brings a new capability to the microelectronics industry, especially for the manufacture of flat panel displays. The machine is fully automated and includes a scanning laser illumination system, a dynamic focus system permitting patterns to be printed over poor-flatness substrates, and an alignment system providing 0.3-μm overlay accuracy. A higher-accuracy alignment system under development demonstrates 50-nm measurement accuracy. A step-and-repeat hologram recording method enables tighter control of feature linewidth.
机译：全息掩模对准器代表了商用光刻技术的最新成员。它们具有极高的分辨率（<0.5μm）和非常大的曝光场的组合为微电子工业带来了新的功能，特别是在制造平板显示器方面。该机器是全自动的，包括扫描激光照明系统，允许在不平坦的基材上印刷图案的动态聚焦系统以及提供0.3μm覆盖精度的对准系统。正在开发的高精度对准系统证明了50 nm的测量精度。分步重复全息图记录方法可以更严格地控​​制特征线宽。

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