机译:增益饱和的10.9 nm台式激光器,重复频率为1 Hz
D. Alessi,1,2,* D. H. Martz,1,2 Y. Wang,1,2 M. Berrill,1,2 B. M. Luther,1,2 and J. J. Rocca1,2,31National Science Foundation Engineering Research Center for Extreme Ultraviolet Science and Technology,Colorado State University, Fort Collins 80523, Colorado, USA2Electrical and Computer Engineering Department, Colorado State University, Fort Collins 80523, Colorado, USA3Physics Department, Colorado State University, Fort Collins 80523, Colorado, USA*Corresponding author: dalessi@engr.colostate.edu;
机译:以5 Hz重复频率工作的饱和18.9 nm台式激光器的特性
机译:15纳米以下波长的高平均功率,重复频率为100 Hz的台式软X射线激光器
机译:X射线激光:8.8 nm台式X射线激光以1 Hz工作
机译:增益饱和的10.9 nm台式激光器的工作频率为1 Hz
机译:增益饱和重复性软X射线激光器,其波长范围为9-30 nm,并且发射到7.4 nm
机译:使用高脉冲重复频率的CO2激光消融后的牙本质粘合强度
机译:以5 Hz重复率运行的饱和18.9mm桌面激光器的特征