Breakdown of the electron-spin motion upon reflection at metal-organic or metal-carbon interfaces. Ⅱ

著录项

• 来源
  《Physical review》 |2016年第17期|174411.1-174411.7|共7页
• 作者

  M. Ochapski; E. Urbain; F. Djeghloul; V. Speisser; H. Majjad; D. Spor; A. D. Vu; J. Coraux; N. Rougemaille; G. Chen; A. K. Schmid; M. Suzuki; T. Yasue; T. Koshikawa; H. Bulou; W. Weber;

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• 作者单位

  Institut de Physique et Chimie des Materiaux de Strasbourg, UMR 7504, CNRS-UdS, 23 rue du Loess, BP 43, 67034 Strasbourg Cedex 2, France;

  Institut de Physique et Chimie des Materiaux de Strasbourg, UMR 7504, CNRS-UdS, 23 rue du Loess, BP 43, 67034 Strasbourg Cedex 2, France;

  Institut de Physique et Chimie des Materiaux de Strasbourg, UMR 7504, CNRS-UdS, 23 rue du Loess, BP 43, 67034 Strasbourg Cedex 2, France,Universite de Ferhat Abbas Setif 1, Faculte de Technologie, Setif, Algeria;

  Institut de Physique et Chimie des Materiaux de Strasbourg, UMR 7504, CNRS-UdS, 23 rue du Loess, BP 43, 67034 Strasbourg Cedex 2, France;

  Institut de Physique et Chimie des Materiaux de Strasbourg, UMR 7504, CNRS-UdS, 23 rue du Loess, BP 43, 67034 Strasbourg Cedex 2, France;

  Institut de Physique et Chimie des Materiaux de Strasbourg, UMR 7504, CNRS-UdS, 23 rue du Loess, BP 43, 67034 Strasbourg Cedex 2, France;

  CNRS, Institut NEEL, F-38000 Grenoble, France,Universite Grenoble Alpes, Institut NEEL, F-38000 Grenoble, France;

  CNRS, Institut NEEL, F-38000 Grenoble, France,Universite Grenoble Alpes, Institut NEEL, F-38000 Grenoble, France;

  CNRS, Institut NEEL, F-38000 Grenoble, France,Universite Grenoble Alpes, Institut NEEL, F-38000 Grenoble, France;

  NCEM, Molecular Foundry, Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA;

  NCEM, Molecular Foundry, Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA;

  Fundamental Electronics Research Institute, Osaka Electro-Communication University, Neyagawa, Osaka 572-8530, Japan;

  Fundamental Electronics Research Institute, Osaka Electro-Communication University, Neyagawa, Osaka 572-8530, Japan;

  Fundamental Electronics Research Institute, Osaka Electro-Communication University, Neyagawa, Osaka 572-8530, Japan;

  Institut de Physique et Chimie des Materiaux de Strasbourg, UMR 7504, CNRS-UdS, 23 rue du Loess, BP 43, 67034 Strasbourg Cedex 2, France;

  Institut de Physique et Chimie des Materiaux de Strasbourg, UMR 7504, CNRS-UdS, 23 rue du Loess, BP 43, 67034 Strasbourg Cedex 2, France;

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