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九州大学大学院工学研究院(福岡市西区元岡744);
机译:半导体工艺中的平面化CMP技术
机译:半导体过程中的平坦化CMP技术
机译:第42届有机合成研讨会(2010年)-化学技术的变化时代-标题研讨会分别于2010年10月27日(星期三)和28日(星期四)举行,为期两天(德国)大阪市工业研究所它在大型礼堂举行,有43人参加。在本次研讨会中,支持有机合成,氧化反应,光学活性物质生产,药物工艺开发,工艺化学的当前和未来前景,分子电子,液晶有机半导体,有机n型半导体,染料的有机分子催化剂的工业化专注于敏化太阳能电池的开发,自组织空间中的未来化学等方面,在该领域的前线发挥积极作用的三名大学教授,四家公司和产业研究。我们由Tokoro等政府部门的三人讲课。参加者对聆听和
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