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X線光電子分光分析法と飛行時間型二次イオン質量分析法におけるアルゴンガスクラスターイオンビームの応用

机译:氩气团簇离子束在X射线光电子能谱和飞行时间二次离子质谱中的应用

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摘要

Ar-GCIBの表面分析への応用について,有機材料の深さ方向分析を中心として紹介した.また,XPSおよびTOF-SIMSの原理や特徴について典型的な測定例とともに紹介した.Ar-GCIBは,有機材料の低損傷スパッタリングが可能な新たな技術としてその応用範囲が急速に拡大しており,今後の表面分析装置には必要不可欠な技術になると考えられる.本稿では触れなかったが,無機物や有機•無機複合材料に対する低損傷深さ方向分析への適用など新たな課題も存在する.これらの要求に応えるため,筆者らは今後も表面分析ならびにクラスターイオンビームの適用範囲拡大に努めたい.
机译:介绍了Ar-GCIB在表面分析中的应用,重点介绍了有机材料的深度方向分析,并介绍了XPS和TOF-SIMS的原理和特性以及典型的测量示例。作为能够实现有机材料的低损伤溅射的新技术,应用范围正在迅速扩展,并且被认为是未来表面分析仪必不可少的技术。 •诸如在无机复合材料的低损伤深度方向分析中的应用等新挑战。为满足这些要求,作者将继续进行表面分析,并扩大簇离子束的应用范围。

著录项

  • 来源
    《精密工学会誌》 |2016年第4期|320-324|共5页
  • 作者

    宮山卓也;

  • 作者单位

    アルバック•フアイ㈱(神奈川県茅ケ崎巿円蔵370);

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
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