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技術,学術,ならびに産業の発展に寄与することを目指して

机译:旨在为技术,科学和工业的发展做出贡献

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摘要

CMP は古くて新しい技術である.そもそも研磨技術,すなわち物を磨くという技術は勾玉などに見られるように,有史以前から人間が経験で手に入れて久しい古くて身近な技術である.それが,近年(1990 年ごろ)に半導体の製造技術に採用され始めたのをきっかけに,にわかに先端技術として脚光を浴びるようになった.
机译:CMP是新技术。首先,抛光技术,即抛光物体的技术,是人类从史前时代开始就通过经验获得的古老而熟悉的技术,如在《 magatama》中所见。近年来(1990年左右),当它被用于半导体制造技术时,它突然成为一种引人注目的先进技术。

著录项

  • 来源
    《精密工学会誌》 |2012年第10期|833-835|共3页
  • 作者单位

    (株)荏原製作所(東京都大田区羽田旭町11-1);

    日立化成工業(株)山崎事業所(茨城県日立市東町4-13-1);

    九州大学大学院工学研究院(福岡県福岡市西区元岡744);

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