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エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究（第2報）: 定在エバネッセント光を利用した微細周期構造創製

机译：使用e逝光的纳米立体光刻研究（第二次报告）：使用using逝光创建精细的周期性结构

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三次元マイクロ加工の分野で注目を集めるマイクロ光造形法は， ビームスポット走査やマスク変調による面露光により液状の光硬 化性樹脂に対してレーザを照射し，樹脂を硬化させることによっ て所望の三次元構造を創製する方法である．その中でも生産 性の高い一括面露光型マイクロ光造形法は，ミリメートルスケ ールの領域に対して分解能数マイクロメートルが達成され，様々 なアプリケーションが実現している．%Micro-fabrication technologies have recently developed dramatically and fabrication methods have become much-needed with which devices on the order of micrometer can be fabricated precisely. In particular, methods of fabricating MEMS and microscopic optical devices as typified by a photonic crystal are in huge demand. In this study, we propose a novel stereolithography method using evanescent light instead of propagating light to realize a 100-nanometer resolution. With this method, we intend to establish the nano-stereolithography with higher accuracy and flexibility. In the second report, we performed the fabrication of in-plane lattice structures, which is strongly required as diffraction grating, diffractive optics, photonic crystals, etc. Theoretical and experimental analyses suggest that the proposed stereolithography method using evanescent light has a potential to fabricate micro three-dimensional objects with a resolution of sub-micrometer.
机译：通过在激光束上通过点斑扫描或掩模调制进行表面曝光并在液体可光固化树脂上照射激光并固化该树脂，期望在三维微细加工领域中引起关注的微立体光刻。是创建三维结构的一种方法。其中，高生产率的单面曝光型微立体光刻方法已经在毫米级区域实现了几微米的分辨率，并且实现了多种应用。 ％最近，微制造技术得到了飞速发展，并且迫切需要能够精确地制造微米级器件的制造方法。特别是，以光子晶体为代表的MEMS和显微光学器件的制造方法非常庞大。在这项研究中，我们提出了一种使用e逝光而不是传播光来实现100纳米分辨率的新颖的立体光刻方法，该方法旨在建立具有更高准确性和灵活性的纳米立体光刻技术。我们进行了平面晶格结构的制造，这是衍射光栅，衍射光学，光子晶体等的强烈要求。理论和实验分析表明，所提出的利用using逝光的立体光刻方法具有制造微型三维物体的潜力。具有亚微米级的分辨率。

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