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【24h】

マスクブランクス欠陥検査装置を受注 14-7ナノ世代 最先端半導体フォトマスク対応

机译:接受掩模坯料缺陷检查设备的订单14-7纳米级尖端半导体光掩模支持

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摘要

レーザーテックは、設計ルール14ナノから7ナノ世代(ナノ=10億分の1)の最先端半導体フォトマスク用マスクプランクス欠陥検査装置の受注を開始した。既に多数の引き台いを得ており、今年中に複数台の納人を予定している。新製品は、「MAGICSシリーズM8350/M8351」(税別価格8億-9億円、モデルや仕様で異なる)。年間販売目標は4-6台。M8351は、ライン&スぺースのモニターパターン検査に対応。マスクショップの各種プロセス管理に適している。同社のマースクブランクス(パターニングされる前のフォトマスク製造用基板)欠陥検査装置MAGICSシリーズは、長年にわたり高い評価と信頼を得ている。同社によると、業界標準機として、マスクプランクスメーカーの全数検査やマスクショップでの受け入れ検査、プロセス管理で活用されているという。一方、EUV(極紫外線)リソグラフィ実用化の遅延により、光リソグラフィによるフォトマスクの微細化が進み、マスクブランクスでも、さらなる高感度検査による品質の管理、向上が急務となっている。
机译:Lasertec已开始接受14纳米至7纳米世代(纳米= 1/10亿纳米)的设计规则,用于尖端半导体光掩模的掩模板缺陷检测设备的订单。我们已经有很多赌注,并且我们计划在今年交付多个。新产品为“ MAGICS系列M8350 / M8351”(税后价格为800-900百万日元,具体取决于型号和规格)。年度销售目标是4-6个单位。 M8351支持行和空间监视器图案检查。适用于面膜车间的各种工艺管理。该公司的MAGICS系列掩模坯料(图案化前用于光掩模制​​造的基材)已受到高度评价和信赖。据该公司称,它被用作行业标准机器,用于对口罩板制造商进行100%检查,口罩车间的验收检查以及过程控制。另一方面,由于EUV(极紫外)光刻的实际使用的延迟,通过光学光刻的光掩模的小型化正在发展,并且即使在掩模坯料中,也迫切需要通过进一步的高灵敏度检查来控制和改善质量。

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    《电波新闻》 |2014年第15期|5-5|共1页
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