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Asymmetric bipolar pulsed power. A new power technology

机译：非对称双极性脉冲功率。新电源技术

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While excellent films can be made by monotarget reactive deposition using current-source pulsed sputtering, problems in large area coalers and continuous systems direct the process engineer to dual target approaches. The great flexibility and simplicity of the asymmetric bipolar current-source pulsed power approach has great appeal for the next generation of difficult thin film processes, particularly those using reactive sputtering. With industrial power of levels greater than 60 kW coming available late this year, one can expect to see applications of commercial importance emerging early in 1997.%Des films d'excellente qualité peuvent être déposés en utilisant une seule cible en mode réactif, puisée : par contre, des problèmes seront rencontrés lors des dépôts en mode réactif dans des grands systèmes ou des systèmes en ligne. Pour résoudre ces problèmes, les ingénieurs de développement de procédés optent pour l'utilisation de deux magnétrons. La déposition de nouveaux films complexes en procédés réactifs appellent à l'utilisation de sources de courant asymétrique bipolaire puisées qui offrent une flexibilité et une simplicité pour l'utilisateur. La disponibilité de puissance de 60 kW fin d'année permet d'utiliser des procédés réactifs pour le dépôt de films à l'échelle industrielle en début de 1997.
机译：尽管可以使用电流源脉冲溅射通过单靶反应沉积来制备出色的薄膜，但大面积聚煤器和连续系统中的问题却使工艺工程师转向了双靶方法。非对称双极电流源脉冲功率方法的巨大灵活性和简便性，对于下一代困难的薄膜工艺，尤其是使用反应溅射的薄膜工艺，具有极大的吸引力。随着今年晚些时候将提供超过60 kW的工业功率，人们有望在1997年初看到具有商业重要性的应用。％可以使用单一靶以反应模式沉积具有脉冲的高质量薄膜：另一方面，在大型系统或在线系统中以反应模式进行沉积时会遇到问题。为了解决这些问题，过程开发工程师选择使用两个磁控管。在反应过程中沉积新的复杂薄膜需要使用脉冲不对称双极电流源，这为用户提供了灵活性和简便性。到了年底，60 kW的功率可供使用，使得在1997年初以工业规模使用反应性工艺沉积薄膜成为可能。

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