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Le Vide

Le Vide

中文名称：虚空

ISSN：1266-0167
出版周期：Quarterly

发文量：123

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1.Les processus d'ionisation

机译：电离过程
- 作者：J. Arianer
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1997年第286期
- ionisation;
- sources d'ions;
2.MBMS Sampling from Highly Heated Gas Mixtures (1000-3000 K) and Weakly lonized RF Plasmas (800-2800 K) or Laser Plasmas (5000-20000 K)

机译：从高温气体混合物（1000-3000 K）和弱电离RF等离子体（800-2800 K）或激光等离子体（5000-20000 K）进行MBMS采样
- 作者：R. Campargue;A. Lebéhot
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1997年第286期
- faisceau moléculaire;
- spectrométrie de masse;
- prélèvement;
- jet libre;
- analyse par temps de vol;
- plasma entretenu par laser;
3.AES and XPS depth profile analysis. A critical review

机译：AES和XPS深度剖面分析。严格审查
- 作者：H. J. Mathieu
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
- AES and XPS profiles;
- lambda-correction;
- preferential sputtering;
- depth resolution;
- standard reference material;
- Ta_2O_5/Ta;
- Ni/Cr multilayer;
- zaler rotation;
4.Effets instrumentaux et normalisation des spectres

机译：仪器效果和光谱归一化
- 作者：G.Lorang
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
- AES;
- XPS;
- effets instrumentaux;
- calibrage des spectromètres;
- spectres de référence;
5.Traitement informatique des spectres

机译：光谱的计算机处理
- 作者：M. Repoux
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
- AES-XPS;
- bases de données;
- tissage;
- déconvolution;
- analyse factorielle;
- analyse quantitative;
6.L'analyse de facteurs communs appliquée à la spectroscopie d'électrons Auger

机译：公因子分析应用于俄歇电子能谱
- 作者：R. Sporken
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
- analyse de facteurs (ou factorielles);
- spectre Auger;
- AES;
7.Analyses Auger et XPS de l'interface de TiO/Si

机译：TiO / Si界面的俄歇和XPS分析
- 作者：K.Grigorov;R.Sporken;J.Riga;R. Caudano;D.Bouchier;G.I.Grigorov
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
8.Analyse des isolants par XPS et AES

机译：通过XPS和AES进行绝缘分析
- 作者：J. Cazaux
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
- effets de charge;
- effets d'irradiation;
- matériaux isolants;
9.Profil des raies en Auger et XPS

机译：俄歇（Auger）和XPS中的线轮廓
- 作者：D. Spanjaard
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
10.Microscopie Auger à balayage principe et artefacts

机译：扫描原理俄歇显微镜和人工制品
- 作者：J. Cazaux
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
- microscopie auger à balayage;
- artefacts;
- instrument;
11.Etude, par XPS, des zones interfaciales fibre/matrice dans des matériaux composites modèles

机译：模型复合材料中纤维/基质界面区域的XPS研究
- 作者：J.F. Silvain;J.C. Bihr
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
12.Décomposition des pics XPS à composantes multiples

机译：多组分XPS峰的分解
- 作者：E. Ollivier
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
- XPS;
- décomposition de pic;
- synthèse de pic;
13.Collisions inélastiques et élastiques, transport et échappement des électrons en spectrométries AES et XPS

机译：AES和XPS光谱中的非弹性和弹性碰撞，电子的传输和逸出
- 作者：A. Dubus
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第279期
- impact électron-surface : émission auger;
- phoémission et spectres de photoétectrons (matière condensée);
14.Preparation and characterization of cubic boron nitride and carbon nitride films

机译：立方氮化硼和氮化碳膜的制备与表征
- 作者：K. Bewilogua
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第280期
- superhard materials;
- cubic boron nitride (c-BN);
- carbon nitride;
- CVD technique;
- PVO technique;
- ion assisted deposition;
- sputter deposition;
15.Modelling of plasma surface interactions

机译：等离子体表面相互作用的建模
- 作者：A. Rhallabi;E. Gogolides;G. Turban
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第280期
- modelling;
- plasma;
- surface;
- deposition;
- etching;
- thin films;
16.Binary thin films deposited by ion beams ; simple estimate of the near-surface and bulk composition

机译：离子束沉积的二元薄膜;简单估算近地表和松散成分
- 作者：G.I.Grigorov;K.G.Grigorov;J.L.Vignes;J.P.Langeron;R.Sporken
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第280期
- thin films deposited by ions;
- binary films;
- concentration profiles;
17.Asymmetric bipolar pulsed power. A new power technology

机译：非对称双极性脉冲功率。新电源技术
- 作者：R.A. Scholl
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第280期
- PVD;
- reactive;
- insulator;
- dielectric;
- pulsed sputtering;
18.Real time control of plasma deposited multilayers by ellipsometry

机译：椭圆偏振法实时控制等离子体沉积的多层膜
- 作者：M. Kildemo;B. Drevillon;R. Benferhat
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第280期
- real time control;
- elfipsometry;
- plasma deposition;
19.Polymers used as biomaterials. Surfaces and interfaces

机译：用作生物材料的聚合物。表面和界面
- 作者：G. Legeay;F. Poncin-Epaillard
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第280期
- polymer;
- surface;
- surface treatment;
- biocompatibility;
20.Influence of the wall material on N atom density in a downstream nitrogen plasma

机译：壁材料对下游氮等离子体中N原子密度的影响
- 作者：A. Ricard;A. Popescu;A. Baltog;C.P. Lungu
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第280期
- rowing afterglow;
- N atoms;
- surface wall recombination;
21.Excitation transferts

机译：激励转移
- 作者：A. Ricard
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第280期
- penning effect;
- charge exchanges;
- non reactive and reactive transfers plasma;
22.Cr-N hard coatings deposited by reactive magnetron sputtering : application to forming tools

机译：反应磁控溅射沉积的Cr-N硬质涂层：在成型工具上的应用
- 作者：P. Terrat;J.J. Reymond
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第280期
- chromium nitride;
- hard coatings;
- sputtering;
- tools;
23.Ecrans à cristaux liquides La course à la dimension et la complexité

机译：液晶显示器争夺尺寸和复杂性
- 作者：J.P. Baranes
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第281期
- marché des afficheurs;
- écrans à cristaux liquides;
- LCD : STN;
- DSTN;
- CPCL;
24.RF vacuum microelectronics

机译：射频真空微电子学
- 作者：R.K. Parker
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第281期
25.Position de l'Europe sur le marché des écrans plats à cristaux liquides

机译：欧洲在液晶平板屏幕市场的地位
- 作者：A. Boissier
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第281期
26.Le Vide et les écrans à micropointes

机译：真空和微尖端筛
- 作者：Robert Meyer
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第281期
- ecrans plats;
- effet de champ;
- micropointes;
- cathodoluminescence;
- luminophores;
- vide;
27.Vide et panneaux à plasma couleur

机译：真空和彩色等离子面板
- 作者：H. Doyeux;G. Baret
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第281期
28.Technologies de fabrication des écrans à cristal liquide et matrice active

机译：液晶显示器和有源矩阵的制造技术
- 作者：N. Szydlo
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第281期
- AMLCD;
- matrice active;
- TFT a-Si;
- TFT poty-Si;
- PECVD;
- écrans à cristal liquide;
- écrans à vision directe;
- valves de projection;
29.La technique des dépôts par décharge d'arc anodique

机译：阳极电弧放电沉积技术
- 作者：S. Neuville
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第281期
30.Trends and developments of vacuum Microelectronics in Europe

机译：欧洲真空微电子的趋势和发展
- 作者：R. Baptist
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第282期
- microtips;
- field effect emission;
- microtips cathodes;
- field emission displays;
- FED's;
- vacuum microelectronics;
31.Sources d'électrons de dimensions atomiques: nouveaux concepts et nouvelles applications

机译：原子尺寸电子的来源：新概念和新应用
- 作者：Vu Thien Binh;S.T. Purcell;V. Semet
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第282期
- emission de champ;
- nanopointes;
- microscopie à projection interférences;
- micro-canons;
32.Procédés de fabrication de micropointes métalliques

机译：金属微尖端制造工艺
- 作者：Robert Meyer
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第282期
- cathodes à micropointes;
- émission de champ;
- écrans plats à micropointes;
33.Procédés de fabrication de micropointes en silicium

机译：硅微尖端制造工艺
- 作者：D. Moreau;R. Baptist;L. Peccoud
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第282期
- emission de champ;
- microcathodes;
- micro-pointes;
- silicium;
- gravure;
- oxydation;
34.Etude de microcathodes froides sur AsGa profilées en pointes ou lames pour applications hyperfréquences

机译：用于微波的点状或叶片状AsGa冷阴极的研究
- 作者：P. Kropfeld;A. Vanoverschelde;F. Ducroquet;P. Godts
- 期刊名称：《Le Vide》 | 1996年第282期
- microcathodes;
- microstructures;
- emission de champ;
- AsGa;

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