• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>Le Vide >Procédés de fabrication de micropointes en silicium
【24h】

Procédés de fabrication de micropointes en silicium

机译：硅微尖端制造工艺

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

L 'état actuel des technologies de réalisation des micropointes en silicium est présenté. L 'évolution progressive de la technologie est revue : on passe progressivement d'une technologie simple dans laquelle le silicium est rapporté, à des assemblages technologiques plus complexes sur substrat de silicium avec des grilles non-autoalignées, puis à des grilles autoalignées. L'introduction des techniques les plus récentes, comme la gravure sèche par plasma et le polissage mécano-chimique CMP, ouvre des perspectives nouvelles pour la réalisation de micropointes très performantes.%In this paper we review the different processes to fabricate silicon microtips. We present successively the simple process where silicon is deposited, then the more complex processes on silicon substrates with non aligned extraction gate and finally self-aligned gate. The introduction of more recent techniques such as Reactive Ion Etching RIE and Chemical Mecano Polishing CMP open the way to the industrial fabrication of reliable microcathodes.
机译：介绍了生产硅微尖端的技术现状。回顾了技术的逐步发展：我们逐渐从添加硅的简单技术，过渡到具有非自对准网格的硅基板上更复杂的技术组件，然后转向自对准网格。等离子干法刻蚀和化学机械抛光CMP等最新技术的引入，为实现非常高效的微针尖开辟了新的前景。％本文概述了制造硅微针尖的不同工艺。我们依次介绍了沉积硅的简单工艺，然后是具有未对准的提取栅和最终具有自对准栅的硅基板上的更复杂的工艺。诸如反应离子刻蚀RIE和化学Mecano抛光CMP等最新技术的引入为可靠的微阴极的工业制造开辟了道路。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号