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机译:化学沉积法低温生长锰酸镍钴薄膜
National Laboratory for Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, 500 Yu Tian Road, Shanghai, 200083, People's Republic of China;
manganese cobalt nickelate film; x-ray diffraction; atomic force microscopy; infrared spectroscopic ellipsometry;
机译:采用双(三甲基)甲硅烷基酰胺基络合物M(N(SiMe_3)_2)_n的铁,锰,钴,铜,锗和锡金属膜的低压化学气相沉积
机译:使用脉冲激光沉积技术在较低温度下生长晶体钴铁氧体薄膜
机译:发光锰掺杂氮化铝膜的低温金属有机化学气相沉积
机译:化学沉积制备的锰钴镍酯薄膜的结晶
机译:通过化学气相沉积法在透明基板上低温直接生长石墨烯薄膜。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:使用脉冲激光沉积技术在较低温度下生长晶体钴铁氧体薄膜
机译:金属有机化学气相沉积法测定RuO(sub 2)薄膜的低温生长和取向控制