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机译:用于解释熔融石英背面湿法蚀刻的实验和数值计算
Department of Optics and Quantum Electronics, University of Szeged, Dom ter 9, H-6720 Szeged, Hungary;
wet etching; excimer laser; fused silica; absorption coefficient measurement; piano-concave microcuvette;
机译:金属激光诱导的背面湿法蚀刻技术对熔融石英纤维的蚀刻
机译:液体环境对激光诱导熔融石英背面湿蚀刻的影响
机译:用烃类液体激光诱导熔融石英背面湿蚀刻的模拟
机译:飞秒激光诱导背面湿法刻蚀石英玻璃的烧蚀阈值研究
机译:使用准分子激光(248 nm)对硼硅酸盐玻璃进行微加工,并通过激光诱导对石英进行背面湿蚀刻。
机译:通过组合激光诱导的背面湿法蚀刻和激光诱导的化学液相沉积方法将耐用的微铜图案沉积到玻璃中
机译:液体环境对熔化二氧化硅激光诱导的背面湿法蚀刻的影响