机译:硅,氧化物和碳化物表面的微摩擦学
Technische Universitaet Ilmenau, Institut fuer Physik und Institut fuer Mikro-und Nanotechnologien, Postfach 100565, 98684, Ilmenau, Germany;
microtribology; microelectromechanical systems; contact angles; adhesion; stiction; microfriction;
机译:反应烧结碳化硅和单晶4H碳化硅阳极氧化抛光表面性能的比较分析
机译:碳化硅表面上硅纳米团簇的原子尺度氧化
机译:碳化硅碳化硅和氧化硅涂层高温氧化行为,提高其对高温氧化的抗性
机译:碳化硅的被动氧化过程中表面氧化物层的演化和氧化诱导的尺寸变化
机译:研究4H-碳化硅-碳化硅上低温原子沉积的氧化物及其对碳化硅/二氧化硅界面的影响。
机译:挪威碳化硅行业中纤维结晶二氧化硅碳化硅和二氧化硫的暴露
机译:反应烧结碳化硅和单晶4H碳化硅阳极氧化抛光表面性能的比较分析
机译:碳化硅的表面科学研究:氧化,晶体生长和表面结构分析。