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22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)
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1.
Mask Industry Assessment Trend Analysis
机译:
口罩行业评估趋势分析
作者:
Gilbert Shelden
;
Scott Hector
;
Patricia Marmillion
;
Michael Lercel
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
mask industry;
photomask;
industry;
mask yield;
photomask yield;
mask quality;
photomask quality;
2.
Mask absorber material dependence of 2D OPC in ArF high NA lithography
机译:
ArF高NA光刻中2D OPC的掩模吸收剂材料依赖性
作者:
Wen-Hao Cheng
;
Jeff Farnsworth
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
ArF immersion lithography;
topography;
polarization;
mask absorber material;
off axis illumination;
shadowing;
3.
Iso-sciatic point: novel approach to distinguish 3-D mask effects from scanner aberrations in extreme ultraviolet lithography
机译:
等坐点:在极端紫外线光刻中区分3D掩模效果与扫描仪像差的新颖方法
作者:
Leonardus H.A. Leunissen
;
Roel Gronheid
;
Weimin Gao
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
4.
Consequences of Plasmonic Effects in Photomasks
机译:
光掩模中等离子效应的后果
作者:
F.M. Schellenberg
;
K. Adam
;
J. Matteo
;
L. Hesselink
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
surface plasmons;
photomask;
reticle;
lithography;
RET;
polarization;
MoSi;
5.
Characterizing the Response of an EUV Reticle during Electrostatic Chucking
机译:
表征静电吸盘期间EUV标线的响应
作者:
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
;
rew R. Mikkelson
;
Madhura Nataraju
;
Vasu Ramaswamy
;
Jaewoong Sohn
;
Gerald A. Dicks
;
Amr Y. Abdo
;
Richard O. Tejeda
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
6.
Data Prep - The Bottleneck of Future Applications?
机译:
数据准备-未来应用程序的瓶颈?
作者:
Juergen Gramss
;
Hans Eichhorn
;
Melchior Lemke
;
Renate Jaritz
;
Volker Neick
;
Dirk Beyer
;
Bertram Buerger
;
Ulrich Baetz
;
Klaus Kunze
;
Nikola Belic
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
linux cluster computer;
mask;
wafer;
PEC;
LINDA;
OASIS;
distributed computing;
SB351;
SB3050;
45nm node;
7.
CD and Profile Metrology of Embedded Phase shift masks using Scatterometry
机译:
使用散射法的嵌入式相移掩模的CD和轮廓计量学
作者:
Kyung man Lee
;
Sanjay Yedur
;
Dave Hetzer
;
Malahat Tavassoli
;
Kiho Baik
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
scatterometry;
EPSM;
CD metrology;
8.
Assist Feature Placement Analysis Using Focus Sensitivity Models
机译:
使用焦点敏感度模型辅助特征放置分析
作者:
Lawrence S. Melvin III
;
Jeffrey P. Mayhew
;
Benjamin D. Painter
;
Levi D. Barnes
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
focus sensitivity model;
sub-resolution assist features;
resolution enhancement technique;
9.
A technique to determine capability to detect adjacent defects during the die-to-database inspection of reticle patterns
机译:
确定标线图案的芯片到数据库检查期间检测相邻缺陷的能力的技术
作者:
Syarhei Avakaw
;
Aliaksr Komeliuk
;
Alena Tsitko
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
10.
A New Generation of Progressive Mask Defects on the Pattern Side of Advanced Photomasks
机译:
先进光掩模图案一侧的新一代渐进掩模缺陷
作者:
Brian J. Grenon
;
Kaustuve Bhattacharyya
;
Benjamin Eynon
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
reticle defect;
mask inspection;
crystal growth;
on chrome;
on half tone;
STAR light™;
11.
Through-pitch and through-focus characterization of AAPSM for ArF immersion lithography
机译:
ArF浸没式光刻AAPSM的间距和焦点对准特性
作者:
Toshio Konishi
;
Yosuke Kojima
;
Yoshimitsu Okuda
;
Vicky Philipsen
;
Leonardus H.A. Leunissen
;
Lieve Van Look
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
alternating aperture phase-shift mask;
image placement error;
rigorous 3D mask simulation;
immersion lithography;
12.
The Magic of 4X Mask Reduction
机译:
减少4倍蒙版的魔力
作者:
Michael Lercel
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
13.
Spot sensor Enabled Reticle Uniformity Measurements for 65nm CDU analysis with Scatterometry
机译:
启用斑点传感器的光罩均匀度测量,用于采用散射法的65nm CDU分析
作者:
Maurice Janssen
;
Koen van Ingen Schenau
;
Hans van der Laan
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
14.
Polarization effects: EAPSM vs TT EAPSM
机译:
极化效应:EAPSM与TT EAPSM
作者:
Nicolo Morgana
;
Will Conley
;
Michael Cangemi
;
Marc Cangemi
;
Bryan S. Kasprowicz
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
15.
Plasma deposited and evaporated thin resists for template fabrication
机译:
等离子沉积和蒸发的薄抗蚀剂,用于模板制造
作者:
Eric Lavallee
;
Jacques Beauvais
;
Bertr Takam Mangoua
;
Dominique Drouin
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
16.
Rigorous Mask Modeling beyond the Hopkins Approach
机译:
霍普金斯方法之外的严格蒙版建模
作者:
J. Schermer
;
P. Evanschitzky
;
A. Erdmann
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
17.
Recent Application Results from the novel e-beam based mask repair system MeRiT™ MG
机译:
基于新型电子束的面膜修复系统MeRiT™MG的最新应用结果
作者:
Christian Ehrlich
;
Klaus Edinger
;
Thorsten Hofmann
;
Wolfgang Degel
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
mask repair;
MeRiT™photomask;
reticle;
electron beam;
binary mask;
PSM;
phase shift;
automation;
18.
Multi-Project Reticle Design and Wafer Dicing under Uncertain Demand
机译:
不确定需求下的多项目标线设计和晶圆切割
作者:
rew B. Kahng
;
Ion Moiu
;
Xu Xu
;
Alex Z. Zelikovsky
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
19.
The first full-field EUV masks ready for printing
机译:
第一个可打印的全视场EUV掩模
作者:
Uwe Mickan
;
Rogier Groeneveld
;
Marcel Demarteau
;
Jan Hendrik Peters
;
Uwe Dersch
;
Guenter Hess
;
Holger Seitz
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
20.
Systematic investigation of CD metrology tool response to sidewall profile variation on a COG test mask
机译:
CD计量工具对COG测试掩模上侧壁轮廓变化的响应的系统研究
作者:
F. Gans
;
R. Liebe
;
Th. Heins
;
J. Richter
;
W. Haessler-Grohne
;
C.G. Frase
;
B. Bodermann
;
S. Czerkas
;
K. Dirscherl
;
H. Bosse
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
CD metrology;
sidewall angle;
edge profile;
signal modeling;
cross calibration;
21.
The Status of LEEPL: Can it be an alternative solution?
机译:
LEEPL的现状:可以作为替代解决方案吗?
作者:
Takao Utsumi
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
22.
The Performance of Positive and Negative CAR Mask Exposed by Leica 20 KeV Writing System
机译:
Leica 20 KeV书写系统曝光的正负CAR面罩的性能
作者:
Chen-Rui Tseng
;
Eng-Ann Gan
;
David Lee
;
Chun-Hung Wu
;
Shiuh-Bin Chen
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
chemically amplified resist;
global CD uniformity;
CD linearity;
ZEP;
PBS;
23.
Printability study with polarization based AIMS™ fab 193i to investigate mask polarization effects
机译:
基于偏振的AIMS™fab 193i的可印刷性研究,以研究掩模的偏振效应
作者:
Axel Zibold
;
Ulrich Stroessner
;
Eric Poortinga
;
Rainer Schmid
;
Thomas Scheruebl
;
Norbert Rosenkranz
;
Wolfgang Harnisch
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
aerial image;
AIMS;
immersion;
polarization;
numerical aperture;
hyper NA;
24.
ORC and LfD as First Steps towards DfM
机译:
ORC和LfD是迈向DfM的第一步
作者:
Reinhard Maerz
;
Kai Peter
;
Wilhelm Maurer
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
25.
Nanoimprint lithography techniques - an introduction
机译:
纳米压印光刻技术-简介
作者:
H.-C. Scheer
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
nanoimprint lithography;
thermal NIL;
UV-NIL;
microcontact printing;
26.
Mask Costs, A New Look
机译:
面膜成本,新面貌
作者:
Brian J. Grenon
;
Scott Hector
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
mask cost;
mask quality;
193nm masks;
phase shift masks;
mask repair;
27.
Mask Data Volume - Historical Perspective and Future Requirements
机译:
遮罩数据量-历史观点和未来要求
作者:
Chris Spence
;
Scott Goad
;
Peter Buck
;
Richard Gladhill
;
Russell Cinque
;
Juergen Preuninger
;
Uewe Griesinger
;
Martin Bloecker
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
optical proximity correction (OPC);
mask data prep (MDP);
variable shaped beam (VSB);
28.
Manufacturability and printability of AAPSM with transparent etch stop layer
机译:
具有透明蚀刻停止层的AAPSM的可制造性和可印刷性
作者:
Michael Cangemi
;
Vicky Philipsen
;
Rudi De Ruyter
;
Leonardus Leunissen
;
Nicolo Morgana
;
Pierre Sixt
;
Marc Cangemi
;
R Cottle
;
Bryan Kasprowicz
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
29.
How Refractive Microoptics Enable Lossless Hyper-NA Illumination Systems for Immersion Lithography
机译:
折射微光学如何实现浸没式光刻的无损Hyper-NA照明系统
作者:
H. Ganser
;
M. Darscht
;
Y. Miklyaev
;
D. Hauschild
;
L. Aschke
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
30.
Design for Manufacturing Validation Tool - Fast and Reliable Conversion of SEM Images to GDS Images
机译:
制造验证工具的设计-将SEM图像快速可靠地转换为GDS图像
作者:
D. Ronning
;
D. Ducharme
;
R. Selzer
;
B. Boerger
;
M. Yu
;
B. Xing
;
M. Trybendis
;
B. Grenon
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
scanning electron microscope;
SEM;
TEM;
x-ray;
GDS;
nanometer;
RET;
defect;
simulation;
DFM;
yield management;
31.
Analysis method to determine and characterize the mask mean-to-target and uniformity specification
机译:
确定和表征掩模均值和均匀度规格的分析方法
作者:
Sung-Woo Lee
;
Leonardus H.A. Leunissen
;
Jeroen Van de Kerkhove
;
Vicky Philipsen
;
Rik Jonckheere
;
Suk-Joo Lee
;
Sang-Gyun Woo Han-Ku Cho
;
Joo-Tae Moon
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
32.
Calibration of test masks used for lithography lens systems
机译:
用于光刻镜头系统的测试掩模的校准
作者:
M. Arnz
;
W. Haessler-Grohne
;
B. Bodermann
;
H. Bosse
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
optical projection lithography;
qualification masks;
magnification;
CD metrology;
signal modeling;
33.
Advanced processes for photomask damage-free cleaning and photoresist removal
机译:
光掩模无损清洁和去除光刻胶的先进工艺
作者:
James S. Papanu
;
Roman Gouk
;
Han-Wen Chen
;
Pieter Boelen
;
Phillip Peters
;
Michael Belisle
;
Steven Verhaverbeke
;
Alexer Ko
;
Kent Child
;
Elias Martinez
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
photomasks;
wet cleaning;
ozonated DI;
dry strip;
34.
A new life for a 10-year old MueTec2010, CD measurement system: the ultimate precision upgrade, with additional film thickness measurement capability
机译:
CD测量系统具有十年历史的MueTec2010重新焕发了生命:终极精度升级,并具有额外的膜厚测量功能
作者:
Gian Luca Cassol
;
Giovanni Bianucci
;
Shiaki Murai
;
Guenther Falk
;
Gerd Scheuring
;
Stefan Doebereiner
;
Hans-Juergen Brueck
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
关键词:
critical dimension;
CD measurement;
resist thickness measurement;
film thickness measurement;
35.
A Correlation for Predicting Film-Pulling Velocity in Immersion Lithography
机译:
浸没式光刻术中拉膜速度预测的相关性
作者:
Scott Schuetter
;
Timothy Shedd
;
Keith Doxtator
;
Gregory Nellis
;
Chris Van Peski
会议名称:
《22nd European Mask and Lithography Conference(EMLC 2006)》
|
2006年
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