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International Symposium on Semiconductor Manufacturing
International Symposium on Semiconductor Manufacturing
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1.
Control rule of metrology tool alignment for semiconductor cross FABs
机译:
半导体交叉FAB的计量工具对准控制规则
作者:
Tang-Chi Wang
;
Ya-Chuan Chan
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Production facilities;
Semiconductor device measurement;
Time measurement;
Monitoring;
Position measurement;
Next generation networking;
2.
A CNN-based Transfer Learning Method for Defect Classification in Semiconductor Manufacturing
机译:
一种基于CNN的传输学习方法,用于半导体制造中的缺陷分类
作者:
Kazunori Imoto
;
Tomohiro Nakai
;
Tsukasa Ike
;
Kosuke Haruki
;
Yoshiyuki Sato
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Training;
Manuals;
Inspection;
Deep learning;
Task analysis;
Monitoring;
Manufacturing;
3.
Secondary electron spectroscopy for imaging semiconductor materials
机译:
用于成像半导体材料的二次电子光谱
作者:
Toshihide Agemura
;
Takashi Sekiguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Detectors;
Scanning electron microscopy;
Brightness;
Semiconductor materials;
P-n junctions;
Electric potential;
Spectroscopy;
4.
Using Full Trace Analytics to Simplify Root Cause Analysis
机译:
使用完整的跟踪分析来简化根原因分析
作者:
Mark Yelverton
;
Tom Ho
;
Joe Lee
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Maintenance engineering;
Software;
Manufacturing processes;
Computer aided software engineering;
Tools;
Plasmas;
5.
Outlier Screening for Advanced Automotive Applications
机译:
高级汽车应用的异常值筛选
作者:
Cinti Chen
;
Po-Hsien Chang
;
Xiao-Yu Li
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Anomaly detection;
Temperature measurement;
Databases;
Heuristic algorithms;
Monitoring;
Reliability;
Automotive engineering;
6.
Materials Informatics for Process and Material Co-optimization
机译:
用于过程和材料共同优化的材料信息学
作者:
Fumiaki Tanaka
;
Hiroshi Sato
;
Naoki Yoshii
;
Hidefumi Matsui
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Etching;
Predictive models;
High-k dielectric materials;
Bayes methods;
Optimization;
Hafnium compounds;
Films;
7.
Novel CMP technology for removal rate control of SiN
机译:
新型CMP技术,用于犯下仙
作者:
Toshio Shinoda
;
Akira Endou
;
Kazumi Sugai
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Silicon compounds;
Additives;
Chemicals;
Silicon;
Substrates;
Computational modeling;
8.
Gas Phase Pore Stuffing for the protection of organo-silicate glass dielectric materials
机译:
气相孔填充用于保护有机硅酸盐玻璃介质材料
作者:
M. Fujikawa
;
J. -F. de Marneffe
;
R. Chanson
;
K.Babaei Gavan
;
A. Rezvanov
;
F. Lazzarino
;
Z. Tokei
;
T. Yamaguchi
;
S. Nozawa
;
N. Sato
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Plasmas;
Plastics;
Atomic measurements;
Dielectrics;
Annealing;
Nitrogen;
Plasma measurements;
9.
Feature Extraction from Equipment Sensor Signals with Time Series Clustering and Its Application to Defect Prediction
机译:
具有时间序列聚类的设备传感器信号的特征提取及其在缺陷预测中的应用
作者:
Daisuke Hamaguchi
;
Tomonari Masada
;
Takumi Eguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Semiconductor device measurement;
Clustering methods;
Time series analysis;
Probability;
Feature extraction;
Data mining;
10.
High- Throughput Direct Adaptive Imaging System with Novel Measurement Tool for Heterogeneous Integration
机译:
具有新型测量工具的高通量直接自适应成像系统,用于异构集成
作者:
S. Majima
;
A. Hatano
;
S. Takada
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device measurement;
Lithography;
Imaging;
Tools;
Position measurement;
Packaging;
Throughput;
11.
Reliability and High-Frequency Filter Characteristics of a Low-Loss Material for 5G RF Modules
机译:
5G RF模块的低损耗材料的可靠性和高频滤波器特性
作者:
Takenori Kakutani
;
Yuya Suzuki
;
Muhammad Ali
;
Serhat Erdogan
;
Mohanalingam Kathaperumal
;
Madhavan Swaminathan
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
5G mobile communication;
Dielectric materials;
Dielectric losses;
Materials reliability;
Propagation losses;
Integrated circuit reliability;
Substrates;
12.
Using Quartz Crystal Microbalance to Provide Real-Time Process Monitoring
机译:
使用石英晶体微稳定提供实时过程监控
作者:
Hirofumi Tsuchiyama
;
Steven Lakeman
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Process monitoring;
Semiconductor device measurement;
Manufacturing processes;
Maintenance engineering;
Real-time systems;
Quartz crystals;
Manufacturing;
13.
A Statistical Study on Highly Accurate Quality Prediction for High-mix Low-Volume Semiconductor Products
机译:
高混合低批量半导体产品高准确质量预测的统计研究
作者:
Kosuke Okusa
;
Toshiya Okazaki
;
Shunsaku Yasuda
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Analytical models;
Computational modeling;
Production;
Predictive models;
Real-time systems;
Bayes methods;
Manufacturing;
14.
FDC Based on Neural Network with Harmonic Sensor to Prevent Error of Robot
机译:
基于谐波传感器的神经网络的FDC防止机器人误差
作者:
Kenta Kamizono
;
Kazutaka Ikeda
;
Hiroaki Kitajima
;
Satoshi Yasuda
;
Tomoya Tanaka
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Degradation;
Productivity;
Neural networks;
Robot sensing systems;
Harmonic analysis;
Manufacturing;
Monitoring;
15.
Planned Maintenance Schedule Update Method for Predictive Maintenance of Semiconductor Plasma Etcher
机译:
计划维护时间表更新方法,用于预测半导体等离子体蚀刻器的预测性维护
作者:
Shota Umeda
;
Kenji Tamaki
;
Masahiro Sumiya
;
Yoshito Kamaji
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Schedules;
Statistical analysis;
Maintenance engineering;
Probabilistic logic;
Plasmas;
Timing;
Predictive maintenance;
16.
Ar/N2-plasma Sputtering Pressure Dependence on Electrical Characteristics of HfON Tunneling Layer Formed by the Plasma Oxidation of HfN for Hf-Based MONOS Diodes
机译:
AR / N2-等离子溅射压力依赖于由基于HFN的血浆氧化形成的HFON隧道层的电特性,用于HFN基于HF的MONOS二极管
作者:
Jooyoung Pyo
;
Hiroki Morita
;
Akio Ihara
;
Ohmi Shun-ichiro
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Tunneling;
Oxidation;
Plasmas;
Hafnium compounds;
Semiconductor diodes;
MONOS devices;
Sputtering;
17.
Investigation of high-k HfN multilayer gate dielectrics for MISFET fabricated with Si surface flattening
机译:
用Si表面扁平化制造MISFET的高k HFN多层栅极电介质研究
作者:
Akio Ihara
;
Jooyoung Pyo
;
R. M. D. Mailig
;
Hiroki Morita
;
Shun-Ichiro Ohmi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
MISFETs;
Logic gates;
Nonhomogeneous media;
Silicon;
Dielectrics;
Surface treatment;
Hysteresis;
18.
Taking Engineering Automation to the Next Level with Artificial Intelligence
机译:
用人工智能将工程自动化带到一个新的水平
作者:
Peter Barar
;
Kim Kok Gan
;
Joe Lee
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Automation;
Transforms;
Production facilities;
Artificial intelligence;
Task analysis;
Floors;
Smart manufacturing;
19.
Minimization of CNN Training Data by using Data Augmentation for Inline Defect Classification
机译:
通过使用数据增强来最小化CNN培训数据,用于内联缺陷分类
作者:
Akihiro Fujishiro
;
Yoshikazu Nagamura
;
Tatsuya Usami
;
Masao Inoue
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Training;
Scanning electron microscopy;
Quality assurance;
Planarization;
Training data;
Silicon;
Manufacturing;
20.
Reduction of harmful effect due to by-product in CVD reactor for 4H-SiC epitaxy
机译:
CVD反应器中的副产物对4H-SIC外延的副产物降低有害作用
作者:
Yoshiaki Daigo
;
Toru Watanabe
;
Akio Ishiguro
;
Shigeaki Ishii
;
Mitsuhiro Kushibe
;
Yoshikazu Moriyama
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Heating systems;
Fluctuations;
Films;
Maintenance engineering;
Silicon;
Epitaxial growth;
Inductors;
21.
Impact of precise temperature control for 4H-SiC epitaxy on large diameter wafers
机译:
精确温度控制对大直径晶圆的4H-SIC外延的影响
作者:
Yoshiaki Daigo
;
Toru Watanabe
;
Akio Ishiguro
;
Shigeaki Ishii
;
Mitsuhiro Kushibe
;
Yoshikazu Moriyama
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Temperature sensors;
Temperature measurement;
Temperature distribution;
Fluctuations;
Films;
Doping;
Monitoring;
22.
Development of a Xenon Recycling and Supply System for Plasma Process
机译:
等离子体过程的氙回收源和供应系统的开发
作者:
M. Yamawaki
;
T. Urakami
;
Y. Ishihara
;
Y. Shirai
;
A. Teramoto
;
T. Ohmi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
23.
Process start/end event detection and dynamic time warping algorithms for run-by-run process fault detection
机译:
流程开始/结束事件检测和动态时间翘曲算法,用于运行逐行过程故障检测
作者:
Ja Young Choi
;
Jong Myoung Ko
;
Chang Ouk Kim
;
Yoon Seong Kang
;
Seung Jun Lee
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
24.
Application of cathodoluminescence to SiGe epitaxial process control
机译:
阴极发光在SiGe外延过程控制中的应用
作者:
Tatsuhiko Koide
;
Ryuichi Sugie
;
Yoshikazu Ibara
;
Yoshio Miyai
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
25.
Using Electrostatic Repulsion to Prevent Adhesion of Infinitesimal Particles
机译:
利用静电排斥以防止无限粒子的粘附性
作者:
Junji Oikawa
;
Terumi Yamashita
;
Hidefumi Matsui
;
Akitake Tamura
;
Teruyuki Hayashi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
26.
Analysis of balance management at the leading edge #x2014; competition and collaboration for semiconductor industry
机译:
领先优势的平衡管理分析 - 半导体产业竞争与合作
作者:
Masayuki Iino
;
Yojiro Matsumoto
;
Sumika Arima
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
27.
Novel dispatching rule of phase-mix and product-mix for cost-free productivity improvement
机译:
相位混合和产品混合的新型调度规则,无需生产效率提高
作者:
Tomoya Saito
;
Yuta Satou
;
Sumika Arima
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
28.
Application of robust design for the tuning of resistance-temperature characteristics in diodes
机译:
鲁棒设计在二极管中调整电阻温度特性的应用
作者:
Kuramochi N.
;
Mochiduki K.
;
Tsuchitani M.
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
29.
Analysis of the front-end wet strip efficiency performance for productivity
机译:
生产力前端湿带效率性能分析
作者:
Paht Te Quek
;
Boon Ping Gan
;
Song Lian Tan
;
Chan Lai Peng
;
Bart vd Heijden
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
30.
Investigation of PDA Process to Improve Electrical Characteristics of HfO{sub}xN{sub}y High-k Dielectric Formed by ECR Plasma Oxidation of HfN
机译:
PDA工艺改善HFR等氧化物氧化HFN的HFO {Sub} y高k电介质电特性的研究
作者:
Shun-ichiro Ohmi
;
Yusuke Nakano
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
31.
Extending the Life of TTL-Alignment Steppers to 65-nm Technology
机译:
将TTL对准步骤的寿命扩展到65纳米技术
作者:
Nabil R. Yazdani
;
Eric M. Apelgren
;
Richard D. Edwards
;
Michelle A. Simmons
;
Stuart E. Brown
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
32.
Update of the EPSON method for PFC measurement using FT-IR
机译:
使用FT-IR更新PFC测量的EPSON方法
作者:
Isamu Namose
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
33.
A New Process and Tool for Metal/High-K Gate Dielectric Stack for sub-45nm CMOS Manufacturing
机译:
用于子45nm CMOS制造的金属/高k栅极介质堆的新工具
作者:
A. Venkateshan
;
R. Singh
;
K. F. Poole
;
H. Senter
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
34.
Yield prediction techniques based on DFM rules and criticality for 65nm technology and beyond
机译:
基于DFM规则和65nm技术及以后的临界的产量预测技术
作者:
Tsutomu Kojima
;
Kyou S.
;
Murakami H.
;
Honda K.
;
Nakayama T.
;
Matsuoka F.
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
35.
A Sensitive Technique to Enable Technology Transfer and Fab Matching in Deep Sub-Micron Technologies
机译:
一种敏感的技术在深次微米技术中实现技术转移和FAB匹配
作者:
Bin Wang
;
Ron Paulsen
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
36.
An approach of dynamic bottleneck machine dispatching for semiconductor wafer fab
机译:
一种用于半导体晶片Fab的动态瓶颈机的方法
作者:
Zhang Huai
;
Jiang Zhibin
;
Lee Yen-Fei
;
Ko Chen-Pin
;
Luke Choo Ooi Tuck
;
Lim Lee Phing
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
37.
Yield Prediction Techniques Based on DFM Rules and Criticality for 65nm Technology and Beyond
机译:
基于DFM规则和65nm技术及以后的临界的产量预测技术
作者:
Tsutomu Kojima
;
S. Kyou
;
H. Murakami
;
K. Honda
;
T. Nakayama
;
F. Matsuoka
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
38.
Low contact-resistance metallization process for a nickel self-aligned contact of beyond 65nm node CMOS
机译:
低接触电阻金属化工艺,用于超出65nm节点CMOS的镍自对准接触
作者:
Takuya Futase
;
Naoto Hashikawa
;
Takeshi Hayashi
;
Hiroshi Tobimatsu
;
Hirohiko Yamamoto
;
Hidehiko Kozawa
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
39.
Optimization of semiconductor manufacturing equipment seals for enhanced performance
机译:
优化半导体制造设备密封件,用于增强性能
作者:
Foggiato John
;
Thrash Aaron
;
Freerks Fred
;
Al-Saleem Furat
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
40.
Development of a Xenon recycling and supply system for plasma process
机译:
等离子体过程的氙回收源和供应系统的开发
作者:
Yamawaki M.
;
Urakami T.
;
Ishihara Y.
;
Shirai Y.
;
Teramoto A.
;
Ohmi T.
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
41.
Development of automatic recipe creation system for exposure tools
机译:
曝光工具自动配方创建系统的开发
作者:
Hiroyuki Morinaga
;
Hidenori Kakinuma
;
Takema Ito
;
Arata Inoue
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
42.
Extending the life of TTL-alignment steppers to 65-nm technology
机译:
将TTL对准步骤的寿命扩展到65纳米技术
作者:
Yazdani Nabil R.
;
Apelgren Eric M.
;
Edwards Richard D.
;
Simmons Michelle A.
;
Brown Stuart E.
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
43.
Impact of lot release strategies on #x2018;make-to-order#x2019; production line performance
机译:
批次释放策略对“按订单”生产线的影响
作者:
Murray S.
;
Young P.
;
Geraghty J.
;
Sievwright S.
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
44.
Using electrostatic repulsion to prevent adhesion of infinitesimal particles
机译:
利用静电排斥以防止无限粒子的粘附性
作者:
Junji Oikawa
;
Terumi Yamashita
;
Hidefumi Matsui
;
Akitake Tamura
;
Teruyuki Hayashi
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
45.
Development of an automatic CD control system for Cu damascene etching
机译:
Cu镶嵌蚀刻自动CD控制系统的开发
作者:
Hidetaka Nambu
;
Takeshi Akimoto
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
46.
A study of Time Variable Multiple Objectives scheduler for wafer fabrication
机译:
晶圆制造时间可变多目标调度器的研究
作者:
Lee Yen-Fei
;
Jiang Zhibin
;
Zhang Huai
;
Ko Chen-Pin
;
Mohamad Zamri Darudin
;
Yi Deer
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
47.
Analysis of Balance Management at the Leading Edge - Competition and Collaboration for Semiconductor Industry
机译:
领先优势的平衡管理分析 - 半导体产业竞争与合作
作者:
Masayuki Iino
;
Yojiro Matsumoto
;
Sumika Arima
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
48.
A new process and tool for metal/high-#x043A; gate dielectric stack for sub-45 nm CMOS manufacturing
机译:
金属/高К栅极介质堆栈的新工具,用于SUB-45 NM CMOS制造
作者:
Venkateshan A.
;
Singh R.
;
Poole K.F.
;
Senter H.
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
49.
Update of the EPSON Method for PFC Measurement using FT-IR
机译:
使用FT-IR更新PFC测量的EPSON方法
作者:
Isamu Namose
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
50.
Managing sunset #x00026; closure of a semiconductor technology parallel to aggressive new process ramp
机译:
管理日落和关闭半导体技术与积极的新工艺斜坡
作者:
Bouhnik Sylvain
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
关键词:
Capacity planning;
Process Deramp;
Process ramp;
Technology sunset;
WIP management;
51.
Improved Electrical Performance for 65nm Node and Beyond Through the Integration of HARP O{sub}3/TEOS Oxide Films for STI, PMD, and Thin Film Applications
机译:
通过用于STI,PMD和薄膜应用的HARP O {SUB} 3 / TEOS氧化膜的整合,改善了65nm节点的电气性能
作者:
Gary Ching
;
Harry Whitesell
;
Shankar Venkataraman
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
52.
Estimate on CO
2
emissions reduction effects achieved by the adoption of a water spray humidification system to clean rooms
机译:
通过将水喷雾加湿系统进行洁净室实现估算CO
2 INF>排放效应
作者:
Uemura Satoshi
;
Kazuaki Iijima
;
Migaku Takahashi
;
Tadahiro Ohmi
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
53.
Development of an Automatic CD Control system for Cu damascene etching
机译:
Cu镶嵌蚀刻自动CD控制系统的开发
作者:
Hidetaka Nambu
;
Takeshi Akimoto
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
54.
Application of Robust Design for the Tuning of Resistance-Temperature Characteristics in Diodes
机译:
鲁棒设计在二极管中调整电阻温度特性的应用
作者:
N. Kuramochi
;
K. Mochiduki
;
M. Tsuchitani
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
55.
A Study of Time Variable Multiple Objectives Scheduler for Wafer Fabrication
机译:
晶圆制造时间可变多目标调度器的研究
作者:
Lee Yen-Fei
;
Jiang Zhibin
;
Zhang Huai
;
Ko Chen-Pin
;
Mohamad Zamri Darudin
;
Yi Deer
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
56.
Fast characterization of electrical fails overlaying to inline defect inspection during 90 nm copper logic technology development
机译:
电气的快速表征在90 nm铜逻辑技术开发期间覆盖到内联缺陷检查
作者:
Weiss Volkmar
;
Fuhrmann Erik
;
Junge Axel
;
Lutz Robert
;
Rochel Markus
;
Seider-Schmidt Martina
;
Unger Ralph-Stephan
;
Wallace Christine
;
Kuei Johnny
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
57.
Impact of Lot Release Strategies on 'Make-to-Order' Production Line Performance
机译:
批次释放策略对“按订单”生产线的影响
作者:
S. Murray
;
P. Young
;
J. Geraghty
;
S. Sievwright
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
58.
Managing Sunset Closure of a Semiconductor Technology parallel to aggressive new process Ramp
机译:
管理日落和关闭半导体技术与积极的新工艺斜坡
作者:
Sylvain Bouhnik
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
关键词:
Technology sunset;
Process ramp;
Process De-ramp;
Capacity planning;
WIP management;
59.
Investigation of PDA process to improve electrical characteristics of HfO
x
N
y
High-k dielectric formed by ECR plasma oxidation of HfN
机译:
通过ECN血浆氧化改善HFO
X / ING> N
Y IM>高k电介质电气特性的PDA工艺研究
作者:
Shun-ichiro Ohmi
;
Yusuke Nakano
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
60.
Statistical multi-objective optimization and its application to IC layout design for E-Tests
机译:
统计多目标优化及其在电子试验中的IC布局设计中的应用
作者:
Chen Argon
;
Chen Vic
;
Hsu Chris
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
61.
Improved electrical performance for 65nm node and beyond through the integration of HARP O
3
/TEOS oxide films for STI, PMD, and thin film applications
机译:
通过用于STI,PMD和薄膜应用的HARP O
3 IM> / TEOS氧化膜的整合,改善了65nm节点的电气性能
作者:
Cary Ching
;
Whitesell Harry
;
Shankar Venkataraman
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
62.
Statistical Multi-Objective Optimization and Its Application to IC Layout Design for E-Tests
机译:
统计多目标优化及其在电子试验中的IC布局设计中的应用
作者:
Argon Chen
;
Vic Chen
;
Chris Hsu
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
63.
Estimate on CO{sub}2 Emissions Reduction Effects Achieved by the Adoption of a Water Spray Humidification System to Clean Rooms
机译:
通过采用水喷雾加湿系统来清洁室内估算{Sub} 2减少效应
作者:
Uemura Satoshi
;
Kazuaki Iijima
;
Migaku Takahashi
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
64.
Fast Characterization of Electrical Fails Overlaying to Inline Defect Inspection During 90nm Copper Logic Technology Development
机译:
电气的快速表征在90nm铜逻辑技术开发期间覆盖到内联缺陷检查失败
作者:
Votkmar Weifl
;
Erik Fuhrmann
;
Axel Junge
;
Robert Lutz
;
Markus Rochel
;
Martina Seider-Schmidt
;
Ralph-Stephan Unger
;
Christine Wallace
;
Johnny Kuei
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
65.
Novel Dispatching Rule of Phase-mix and Product-mix for Cost-free Productivity Improvement
机译:
相位混合和产品混合的新型调度规则,无需生产效率提高
作者:
Tomoya Saito
;
Yuta Satou
;
Sumika Arima
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
66.
Analysis of the Front-End Wet Strip Efficiency Performance for Productivity
机译:
生产力前端湿带效率性能分析
作者:
Paht Te Quek
;
Boon Ping Gan
;
Song Lian Tan
;
Chan Lai Peng
;
Bart v. d. Heijden
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
67.
Optimization of Semiconductor Manufacturing Equipment Seals for Enhanced Performance
机译:
优化半导体制造设备密封件,用于增强性能
作者:
John Foggiato
;
Aaron Thrash
;
Fred Freerks
;
Furat Al-Saleem
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
68.
A sensitive technique to enable technology transfer and fab matching in deep sub-micron technologies
机译:
一种敏感的技术在深次微米技术中实现技术转移和FAB匹配
作者:
Bin Wang
;
Paulsen Ron
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
69.
Development of Automatic Recipe Creation System for Exposure Tools
机译:
曝光工具自动配方创建系统的开发
作者:
Hiroyuki Morinaga
;
Hidenori Kakinuma
;
Takema Ito
;
Arata Inoue
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
70.
Application of Cathodoluminescence to SiGe Epitaxial Process Control
机译:
阴极发光在SiGe外延过程控制中的应用
作者:
Tatsuhiko Koide
;
Ryuichi Susie
;
Yoshikazu Ibara
;
Yoshio Miyai
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
71.
An Approach of Dynamic Bottleneck Machine Dispatching for Semiconductor Wafer Fab
机译:
一种用于半导体晶片Fab的动态瓶颈机的方法
作者:
Zhang Huai
;
Jiang Zhibin
;
Lee Yen-Fei
;
Ko Chen-Pin
;
Luke Choo Ooi Tuck
;
Lim Lee Phing
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
72.
Low contact-resistance metallization process for a nickel self-aligned contact of beyond 65nm node CMOS
机译:
低接触电阻金属化工艺,用于超出65nm节点CMOS的镍自对准接触
作者:
Takuya Futase
;
Naoto Hashikawa
;
Takeshi Hayashi
;
Hiroshi Tobimatsu
;
Hirohiko Yamamoto
;
Hidehiko Kozawa
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
73.
On the use of wafer positional and spatial pattern analysis to identify process marginality and to de-convolute counterintuitive experimental results
机译:
关于晶圆定位和空间模式分析的使用,识别过程边际和去旋转逆行的实验结果
作者:
Klein Greg
;
Kohler Laurence
;
Wiseman Joseph
;
Dunham Brian
;
Anh-Thu Tran
;
Brown Stacie
;
Masaki Shingo
;
Burki Ibrahim
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
74.
On The Use of Wafer Positional and Spatial Pattern Analysis to Identify Process Marginality and to De-Convolute Counterintuitive Experimental Results
机译:
关于晶圆定位和空间模式分析的使用,识别过程边际和去旋转逆行的实验结果
作者:
Greg Klein
;
Laurence Kohler
;
Joseph Wiseman
;
Brian Dunham
;
Anh-Thu Tran
;
Stacie Brown
;
Masaki Shingo
;
Ibrahim Burki
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
75.
On-demand inspection recipe to detect defects of interest using Mahalanobis distance
机译:
按需检测配方以检测使用Mahalanobis距离的利益缺陷
作者:
Makoto Ono
;
Junko Konishi
;
Tomohiro Funakoshi
;
Hitoshi Sugahara
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
76.
Oil-Demand Inspection Recipe to Detect Defects of Interest using Mahalanobis Distance
机译:
使用Mahalanobis距离检测利息缺陷的油价检查配方
作者:
Makoto Ono
;
Junko Konishi
;
Tomohiro Funakoshi
;
Hitoshi Sugahara
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
77.
Efficiency AMHS for twin FAB manufacture
机译:
双翼流制造的效率AMHS
作者:
Liu Alex
;
Kuo Chia-Cheng
;
Chien-Chih Chiu
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
78.
Feed-forward run-to-run control for reduced parametric transistor variation in CMOS logic 0.13#x03BC;m technology
机译:
对CMOS逻辑0.13μm技术的降低参数晶体管变化的前馈运行控制
作者:
Jedidi Nader
;
Sallagoity Pascal
;
Roussy Agnes
;
Dauzere-Peres Stephane
;
Pinaton Jacques
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
79.
Extending HDP for STI Fill to 45nm with IPM
机译:
扩展HDP以便STI填充到45nm与IPM
作者:
Anchuan Wang
;
Jason Bloking
;
Linlin Wang
;
Manoj Vellaikal
;
Jin Ho Jeon
;
Young S. Lee
;
Harry S. Whitesell
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
80.
Efficiency AMHS For Twin FAB Manufacture
机译:
双翼流制造的效率AMHS
作者:
Alex Liu
;
Kuo Chia-Cheng
;
Chien-Chih Chiu
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
81.
Feed-Forward Run-to-Run Control for Reduced Parametric Transistor Variation in CMOS Logic 0.13μm Technology
机译:
对CMOS逻辑0.13μm技术的降低参数晶体管变化的前馈运行控制
作者:
Nader Jedidi
;
Pascal Sallagoity
;
Ames Roussy
;
Steohane Dauzere-Peres
;
Jacques Pinaton
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
82.
Extending HDP for STI fill to 45nm with IPM
机译:
扩展HDP以便STI填充到45nm与IPM
作者:
Anchuan Wang
;
Bloking Jason
;
Linlin Wang
;
Manoj Vellaikal
;
Jin Ho Jeon
;
Lee Young S
;
Whitesell Harry S
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
83.
Manufacturing constraints #x2014; reducing Volatile Organic Compound air emissions
机译:
制造限制 - 减少挥发性有机复合空气排放
作者:
Stewart Scott
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
84.
Clean room Airborne Molecular Contamination (AMC) on damascene Cu interconnects
机译:
洁净室空气中的分子污染(AMC)在镶嵌Cu互连
作者:
Brennan Bill
;
Kin Sang Lam
;
Beckage Pete
;
Hance Bryon
;
ISSM
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
85.
Manufacturing Constraints - Reducing Volatile Organic Compound Air Emissions
机译:
制造限制 - 减少挥发性有机复合空气排放
作者:
Scott Stewart
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
86.
Clean Room Airborne Molecular Contamination (AMC) on Damascene Cu Interconnects
机译:
洁净室空气中的分子污染(AMC)在镶嵌Cu互连
作者:
Bill Brennan
;
Kin Sang Lam
;
Pete Beckage
;
Bryon Hance
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
87.
Process Start/End Event Detection and Dynamic Time Warping Algorithms for Run-by-Run Process Fault Detection
机译:
流程开始/结束事件检测和动态时间翘曲算法,用于运行逐行过程故障检测
作者:
Ja Young Choi
;
Jong Myoung Ko
;
Chang Ouk Kim
;
Yoon Seong Kang
;
Seung Jun Lee
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2007年
88.
High-temperature-resistant interconnection by using Nickel Nano-particles for power devices packaging
机译:
使用镍纳米颗粒用于电力器件包装的高温互连
作者:
Tomonori Iizuka
;
Yasunori Tanaka
;
Kazuhito Kamei
;
Masakazu Inagaki
;
Norihiro Murakawa
;
Kohei Tatsumi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Bonding;
Nickel;
Silicon carbide;
Nanoparticles;
Packaging;
Atmosphere;
Oxidation;
89.
Development of an energy-saving controller for sub apparatus
机译:
用于子装置的节能控制器的开发
作者:
Toshiya Ozaki
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Energy consumption;
Manufacturing;
Production facilities;
Plasma density;
Productivity;
Timing;
90.
Generalized Overall Equipment Effectiveness for integrated scheduling and process control
机译:
集成调度和过程控制的广义整体设备有效性
作者:
Yu-Ting Kao
;
Shi-Chung Chang
;
Jakey Blue
;
Stéphane Dauzère-Pérès
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Tools;
Production;
Process control;
Temperature measurement;
Schedules;
Resource management;
Standards;
91.
Advanced Fault Detection Method for Chemical Mechanical Polisher
机译:
化学机械抛光机的先进故障检测方法
作者:
Yohei Hamaguchi
;
Tetsuya Tayama
;
Hajime Suzuki
;
Shinji Nakaguma
;
Hidehiko Kawaguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Torque;
Current measurement;
Mathematical model;
Fault detection;
Monitoring;
Image edge detection;
Standards;
92.
Fab labor productivity improvement through a combined modeling approach
机译:
通过组合建模方法改进Fab劳动生产率
作者:
Marino Arturo
;
Ariel Meyuhas
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Tools;
Productivity;
Floors;
Personnel;
Time-frequency analysis;
Load modeling;
Inspection;
93.
Improving process tool productivity by correct sealing material selection for plasma processes
机译:
通过对等离子体工艺进行正确的密封材料选择,提高工艺工具生产率
作者:
Murat Gulcur
;
Knut Beekmann
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Plasmas;
Seals;
Polymers;
Resistance;
Chemistry;
Surface contamination;
94.
Optimal production and capacity planning for Make-to-order type semiconductor production systems
机译:
按订单类型半导体生产系统的最佳生产和容量规划
作者:
Sumika Arima
;
Huizhen Bu
;
Yujia Ye
;
Kota Kitamoto
;
Keishi Shimada
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Loading;
Capacity planning;
Resource management;
Production systems;
Manufacturing;
Semiconductor device modeling;
95.
Visualization technique of maintenance work with a motion capture sensor
机译:
使用运动捕获传感器的维护可视化技术
作者:
Munehito Kagaya
;
Satoshi Tanaka
;
Hidefumi Matsui
;
Tsuyoshi Moriya
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Maintenance engineering;
Particle measurements;
Fluctuations;
Atmospheric measurements;
Motion measurement;
Optical imaging;
Optical sensors;
96.
Particle adsorption onto Si wafers in ultrapure water; its mechanism and effect of carbon dioxide
机译:
颗粒吸附在超纯水中的Si晶片上;其二氧化碳的机制和效果
作者:
Koji Nakata
;
Takeo Fukui
;
Tatsuo Nagai
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Adsorption;
Silicon;
Semiconductor device modeling;
Mathematical model;
Impurities;
Velocity control;
Cleaning;
97.
Electrical characterisation of metal contacts to 4H-SiC enhanced by pre-metalisation surface treatment
机译:
通过预金属化表面处理,金属触点的电气表征至4H-SIC
作者:
Stanley Luong
;
Mohammad Alnassar
;
Cao Dao
;
DeMingZhu
;
James Wang
;
Anthony Holland
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Rough surfaces;
Surface roughness;
Carbon;
Contacts;
Sea surface;
Etching;
98.
Particle removal efficiency evaluation of filters in IPA
机译:
IPA中滤波器的颗粒去除效率评估
作者:
Tomoyuki Takakura
;
Shuichi Tsuzuki
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Gold;
Chemicals;
Effluents;
Cleaning;
Springs;
Surface treatment;
Semiconductor devices;
99.
Study for phosphorus contamination to high voltage transistors
机译:
高压晶体管磷污染研究
作者:
Li Liang
;
Luo Qiong
;
Wu Zeng Yuan
;
Tan Yun Ling
;
See Alex
;
Chua Soo Cheng
;
Troy Zhu
;
Cheng Chor Shu
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Phosphorus;
Silicon;
Cleaning;
Furnaces;
Monitoring;
Threshold voltage;
Surface treatment;
100.
STI Si damage defect reduction by HDP profile optimizations
机译:
STI SI损害HDP配置文件优化减少缺陷
作者:
Shinya Ito
;
Mamoru Ohzeki
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Silicon;
Sputtering;
Ions;
Resists;
Strips;
Optimization;
Process control;
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