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Annual symposium on photomask technology and management
Annual symposium on photomask technology and management
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1.
Status and trends of laser mask-repair technologies
机译:
激光面膜修复技术的现状和趋势
作者:
James K. Tison
;
John M. OConnor
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
2.
Alignment technique for second-level exposure of phase-shifting masks using 10-kV raster-scan electron-beam lithography system
机译:
使用10-kV光栅扫描电子束光刻系统的相移掩模的第二级暴露的对准技术
作者:
Frank E. Abboud
;
Jorge L. Freyer
;
Andrew Muray
;
Robert J. Naber
;
John T. Poreda
;
John R. Thomas
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
3.
Point-of-use laser inspection
机译:
使用点激光检查
作者:
Mimi Koehler
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
4.
Real and imaginary phase-shifting masks
机译:
真实和虚构的相位换档面具
作者:
Franklin M. Schellenberg
;
Marc D. Levenson
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
5.
Defect reduction methodologies: pellicle yield improvement
机译:
减少缺陷方法:薄膜产量改善
作者:
Susan V. Daugherty
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
6.
Performance data from the EBES4 high-speed reticle generator
机译:
来自EBES4高速掩模版发生器的性能数据
作者:
D.C. Fowlis
;
Darryl W. Peters
;
C.M. Rose
;
A.R. von Neida
;
Herbert A. Waggener
;
William P. Wilson
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
7.
Chrome dry-etching for photomask fabrication
机译:
用于光掩模制造的镀铬干蚀刻
作者:
Warren W. Flack
;
Ken E. Tokunaga
;
Kenneth D. Edwards
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
8.
Implications of 64-MB reticle specifications on metrology tool requirements
机译:
64 MB掩盖规范对计量工具要求的影响
作者:
Bert Plambeck
;
Scott Landstrom
;
Barry Rockwell
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
9.
Initial manufacturing performance of an actively controlled PBS resist development process
机译:
积极控制的PBS抗蚀性开发过程的初始制造性能
作者:
Anthony E. Novembre
;
Regine G. Tarascon
;
Larry F. Thompson
;
Wallace T. Tang
;
C.O. Tange
;
R.A. Bostic
;
D.H. Ahn
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
10.
Understanding CD error sources in optical mask processing
机译:
了解光屏蔽处理中的CD错误源
作者:
Peter D. Buck
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
11.
New role of high-sensitivity database inspection
机译:
高灵敏度数据库检查的新作用
作者:
Rosanne LaVoy
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
12.
Primary processes in e-beam and laser lithographies for phase-shift mask manufacturing II
机译:
相移掩模制造II的电子梁和激光光刻中的主要过程
作者:
Masaaki Kurihara
;
Masumi Arai
;
Hiroshi Fujita
;
Hisashi Moro-oka
;
Yoichi Takahashi
;
Hisatake Sano
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
13.
Interferometer for phase measurements in phase-shift masks
机译:
用于相移掩模的相位测量的干涉仪
作者:
Derek B. Dove
;
T.C. Chieu
;
Amalkumar P. Ghosh
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
14.
Printability of particles on 5x reticles
机译:
粒子在5倍晶粒上的可打印性
作者:
Robert W. Murphy
;
David Flesberg
;
Terrence W. Reilly
;
James A. Reynolds
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
15.
Bottom-line empowerment: lessons from the firing line
机译:
底线赋权:射线的课程
作者:
J.P. Miller
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
16.
Coherence probe metrology for phase-shift masks: initial results
机译:
相变探针计量阶段移位掩码:初始结果
作者:
Mark A. Neil
;
Robert J. Monteverde
;
Stephen Kirkish
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
17.
Optimizing continuous improvement in the semiconductor industry
机译:
优化半导体工业的持续改进
作者:
Patrick Reilly
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
18.
Performance testing and results of the first Etec CORE-2564
机译:
第一个ETEC Core-2564的性能测试和结果
作者:
C.E. Franks
;
Asao Shikata
;
Cathy A. Baker
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
19.
Performance and perspective of the newly developed high-accuracy mask-making EB lithography system JBX-7000MV designed for 64M DRAM production
机译:
新开发的高精度掩模EB光刻系统JBX-7000MV专为64M DRAM生产而设计的性能和透视
作者:
Tadashi Komagata
;
Hitoshi Takemura
;
Nobou Goto
;
Ron Espeseth
;
Michael H. Shearer
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
20.
Status of x-ray mask inspection and repair
机译:
X射线面罩检查和修复的状态
作者:
Steven C. Nash
;
James P. Levin
;
O.De Hodgins
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
21.
Rational argument for the impracticability of 1x reticles
机译:
1x解序的不切实际的理性论证
作者:
Geraint Owen
;
R.F. Pease
;
Nadim I. Maluf
;
Robert L. Hsieh
;
Jun Ye
;
C.N. Berglund
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
22.
Simple method for rim shifter design: the biased self-aligned rim shifter
机译:
轮辋变速器设计简单方法:偏置自排列边缘换档器
作者:
Chris A. Mack
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
23.
Vector modeling of defects and defect repair for phase-shifting masks
机译:
逐步偏移面具缺陷和缺陷修复的矢量建模
作者:
Kevin D. Lucas
;
Andrzej J. Strojwas
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
24.
Edge effects in phase-shifting masks for 0.25-um lithography
机译:
在0.25-UM光刻中相移掩模的边缘效应
作者:
Alfred K. Wong
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Annual symposium on photomask technology and management》
|
1993年
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