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IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
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1.
Post Implant Strip Optimization for 90nm and Beyond Technologies
机译:
90nm及超出技术的后植入物条优化
作者:
Fuller N.C.M.
;
Chienfan Yu
;
Santiago A.
;
Mello K.
;
Molis S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
2.
Innovative Yield Modeling using Statistics
机译:
使用统计数据的创新产量建模
作者:
Kevin Anderson
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
3.
Si Crystallization Monitoring Using EBSD Technique
机译:
使用EBSD技术进行Si结晶监测
作者:
Youngjee Yoon
;
Jungtaek Lim
;
ChungSam Jun
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
EBSD;
Crystallization;
SRAM;
Single crystal silicon;
4.
A New Category of Particles at 65nm Technology and Below
机译:
在65nm技术和下面的新类别粒子
作者:
Rathei D.
;
Neuber A.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
5.
Si Crystallization Monitoring Using EBSD Technique
机译:
使用EBSD技术进行Si结晶监测
作者:
Youngjee Yoon
;
Jungtaek Lim
;
ChungSam Jun
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
6.
Innovative Yield Modeling using Statistics
机译:
使用统计数据的创新产量建模
作者:
Anderson K.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
7.
Post Implant Strip Optimization for 90nm and Beyond Technologies
机译:
90nm及超出技术的后植入物条优化
作者:
Nicholas C. M. Fuller
;
Anthony Santiago
;
Kevin Mello
;
Chienfan Yu
;
Steve Molis
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Implant;
Plasma Strip;
End Point;
Defectivity;
Yield;
8.
Evaluating deep trench profile by Fourier Transform Infrared spectroscopy
机译:
傅里叶变换红外光谱评估深沟概况
作者:
Mike Wang
;
Tony Cheng
;
Chung-I Chang
;
Tings Wang
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
DRAM;
Deep trench;
FTIR;
Capacitance;
9.
Yield Improvement Using Fail Signature Detection Algorithm (FSDA)
机译:
使用失败签名检测算法(FSDA)产生提高
作者:
Inani A.
;
Burch R.
;
Stine B.
;
Kim J.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
10.
Daily Indicator Review Team (DIRT)
机译:
每日指标审查团队(DIRT)
作者:
Camacho D.
;
Newlon D.
;
Murphy A.
;
Moran M.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
11.
A New Category of Particles at 65nm Technology and Below
机译:
在65nm技术和下面的新类别粒子
作者:
Dieter Rathei
;
Andreas Neuber
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Particle size distribution;
Yield models;
Ultrafine particles;
Semiconductor manufacturing;
Defect density;
12.
Daily Indicator Review Team
机译:
每日指标审查团队
作者:
Dimas Camacho
;
Dave Newlon
;
Anthony Murphy
;
Mike Moran
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Sort;
Continuous Improvement;
Productivity;
Manufacturing Performance;
13.
Evaluating deep trench profile by Fourier Transform Infrared spectroscopy
机译:
傅里叶变换红外光谱评估深沟概况
作者:
Wang M.
;
Cheng T.
;
Chung-I Chang
;
Tings Wang
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
14.
Post-chemical-mechanical planarization cleaning application in metallization
机译:
金属化后化工机械平面化清洁应用
作者:
Huynh C.
;
Chapple-Sokoi J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
15.
Pilot studies of the manufacturing worthiness of mixed chemistry processings in a MERIE plasma tool
机译:
Merie等离子工具中混合化学加工制造价值的试验研究
作者:
Yang J.
;
Zhang L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
16.
GC hard mask open tool CD monitoring and matching
机译:
GC HARD面具打开工具CD监控和匹配
作者:
Chien Yu
;
Bennett D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
17.
The role of retired engineers in pre-college science and mathematics education
机译:
退休工程师在大学前科学和数学教育中的作用
作者:
Zahopoulos C.
;
Weedon D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
18.
Tighter process control and reduced cycle times using off-line recipe setup
机译:
使用离线配方设置更紧密的过程控制和减少的循环时间
作者:
Stevens S.
;
Harper R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
19.
Yield enhancement through understanding the particle adhesion and removal mechanisms in CMP and post-CMP cleaning processes
机译:
通过了解CMP和后CMP清洗方法中的粒子粘附和去除机制来产生增强
作者:
Taylor J.
;
Busnaina A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
20.
Contact size dependence of highly selective self-aligned contact etching with polymer formation and its mechanism
机译:
具有聚合物形成的高选择性自对准蚀刻的接触尺寸依赖性及其机制
作者:
Liu Y.H.
;
Tu Y.L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
21.
The identification and analysis of systematic yield loss
机译:
系统产量损失的鉴定与分析
作者:
Langford R.E.
;
Hsu G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
22.
Trace gas detection with CW cavity ring-down laser absorption spectroscopy
机译:
痕量气体检测CW腔响铃激光吸收光谱
作者:
Wen-Bin Yan
;
Dudek J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
23.
Capacity planning model: the important inputs, formulas, and benefits
机译:
容量规划模式:重要的投入,公式和福利
作者:
Occhino T.J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
24.
Quantifying the capability of a new in-situ interferometer
机译:
量化新的原位干涉仪的能力
作者:
Roberts B.
;
Guerrero J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
25.
In-line wafer inspection data warehouse for automated defect limited yield analysis
机译:
用于自动缺陷有限收益率分析的在线晶圆检测数据仓库
作者:
Iwata H.
;
Ono M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
26.
Case study for root cause analysis of yield problems
机译:
产量问题根本原因分析案例研究
作者:
Malinaric D.
;
Hoffmeister R.R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
27.
Wafer probe process verification tools
机译:
晶圆探测过程验证工具
作者:
Rodriguez E.
;
Cano C.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
28.
Interconnect strategies for deep submicron CMOS manufacture
机译:
深度亚微米CMOS制造的互连策略
作者:
Mark C.
;
Rose K.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
29.
Surface cleaning mechanisms and future cleaning requirements
机译:
表面清洁机制和未来的清洁要求
作者:
Busnaina A.A.
;
Lin H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
30.
Maximizing profitability through easy information transfer
机译:
通过简单的信息传输来最大限度地提高盈利能力
作者:
Weber C.
;
von Hippel E.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
31.
Implementation of best known methods
机译:
实施最着名的方法
作者:
Foster J.
;
Nugent T.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
32.
Improve their workforce productivity through collaboration with community colleges
机译:
通过与社区学院的合作提高劳动力的生产力
作者:
Yu A.
;
Gharib S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
33.
Effects of operator grouping on the VLSI final test facility layout scale
机译:
操作员分组对VLSI最终测试设施布局规模的影响
作者:
Nakamae K.
;
Koga W.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
34.
Residue removal after via-hole etching
机译:
通过孔蚀刻后的残留物去除
作者:
Boumerzoug M.
;
Han Xu
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
35.
Elimination of contamination in the epitaxial process for high-volume power semiconductor device manufacturing
机译:
消除大批量功率半导体器件制造的外延过程中的污染
作者:
Glahn R.
;
Ridley R.S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
36.
Critical area based yield prediction using in-line defect classification information DRAMs
机译:
基于临界区域的产量预测使用在线缺陷分类信息DRAMS
作者:
Segal J.
;
Sagatelian A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
37.
Investigation and elimination of sphere defects
机译:
调查和消除球形缺陷
作者:
Lee F.
;
Newtran M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
38.
Managing arsenic in GaAs fab wastewater
机译:
在Gaas Fab废水中管理砷
作者:
Peterson J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
39.
The impact of tolerance on kill ratio estimation for memory
机译:
容差对记忆杀死比率估计的影响
作者:
Patterson O.D.
;
Hansen M.H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
40.
Effects of dilute HCl wafer cleaning solutions on borophosphosilicate glass films
机译:
稀HCL晶片清洁溶液对硼磷硅酸盐玻璃膜的影响
作者:
Webb R.
;
Glahn R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2000年
41.
Global Consistency of UHP Gas Supply APIMS Certification of On-Site Nitrogen Plants
机译:
UHP气体供应APIMS认证现场氮植物的全局一致性
作者:
Ezell E.
;
Nakayasu T.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
42.
Silicon Glen: the Scottish Electronics Cluster
机译:
硅胶:苏格兰电子集群
作者:
Perry J.A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
43.
Research Directions for VLSI at Minimum Capital Cost
机译:
最低资本成本的VLSI研究方向
作者:
Bois D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
44.
An Evaluation of 4X Reticles for 250nm DUV Lithography
机译:
评估250nm DUV光刻的4X颗粒
作者:
Sewell H.
;
Deluca N.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
45.
Opportunities for Gigascale Integration (GSI) Beyond 2003
机译:
2003年超越吉斯卡尔集成的机会(GSI)
作者:
Meindl J.D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
46.
The Deployment of TPM in the First 8' Wafer Pilot Line in Taiwan
机译:
在台湾前8“晶圆试验线的TPM部署
作者:
Liu D.
;
Yang J.M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
47.
Future Technological and Economic Prospects for VLSI
机译:
VLSI未来的技术和经济前景
作者:
Komiya H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
48.
Framework for an Advanced Inspection Program
机译:
高级检查计划的框架
作者:
Cappel R.
;
Nasr M.B.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
49.
Cost Reduction in U.s. Semiconductor Fabrication Environment
机译:
美国的成本减少半导体制造环境
作者:
Joseph V.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
50.
Technical Feasibility of Self Directed Work Team Concept in Supervisorless Semiconductor Fabrication Environment Using CIM Based Real-Time Productivity Monitors
机译:
基于CIM的实时生产力监视器,基于CIM的监控半导体制造环境中自我定向工作团队概念的技术可行性
作者:
Joseph V.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
51.
Fab of the Future
机译:
未来的工厂
作者:
Art D.
;
OHalloran M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
52.
The MMST Future-Factory Vision
机译:
MMST未来工厂的愿景
作者:
Doering R.R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
53.
Comparative Optical Techniques for Monitoring Metals in Single-Crystal Silicon
机译:
单晶硅中金属监测金属的比较光学技术
作者:
Wenner V.
;
Lowell J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
54.
A New High Density Plasma Etching System Using A Dipole-ring Magnet (DRM)
机译:
一种新的使用偶极环磁铁(DRM)的高密度等离子体蚀刻系统
作者:
Ohiwa T.
;
Hasegawa I.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
55.
Optimization of a High-Volume 200-mm BiCMOS Manufacturing Line
机译:
优化高卷200毫米BICMOS生产线
作者:
Hook T.
;
Chen B.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
56.
Implementation of Real-Time Particle Detection at Post Metal Deposition
机译:
金属沉积后实时粒子检测的实施
作者:
Gildersleeve K.
;
Gonzales S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
57.
A Manufacturing Strategy for Workforce Empowerment
机译:
劳动力赋权的制造策略
作者:
Duncombe J.C.
;
LaMarche B.L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
58.
Production Management System For The Twenty-first Century
机译:
二十一世纪的生产管理系统
作者:
Danziger S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
59.
Cumulative Thin Film Stress From Wafer Fabrication Processes And Its Effect On Post Backgrind Wafer Shape
机译:
晶片制造工艺的累积薄膜应力及其对后磨牙晶片形状的影响
作者:
Kawski J.L.
;
Flood J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
60.
Successful Bushiess-Process improvement with Cross-Functional Teams
机译:
使用跨职业团队成功的Bushiess-Process改进
作者:
Cummings D.
;
Bombardier J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
61.
Designing Work Cells for High Performance
机译:
设计高性能的工作单元
作者:
Pomorski T.
;
Colucci S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
62.
A CFD Model for the Pecvd of Silicon Nitride
机译:
氮化硅PECVD的CFD模型
作者:
Collins D.J.
;
Strojwas A.J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
63.
Optimization of Cost Versus Performance of Gas Distribution Systems through Contamination Modelling
机译:
通过污染建模优化天然气分配系统的成本与性能
作者:
Espitalier-Noel P.
;
Chigirinskiy M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
64.
Inventory Controlled Environment (I.C.E.) Just-In-Time at National Semiconductor
机译:
库存控制环境(I.C.E.)在国家半导体中即时就立即
作者:
Fearon P.A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
65.
Role of System Dynamics in Semiconductor Fabrication
机译:
系统动力学在半导体制造中的作用
作者:
Ravishankar G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
66.
From Drawing Board to Market Place in Two Years: Introduction of an Advanced BiCMOS Product through the use of Cross Functional Teams
机译:
两年内从绘图板到市场:通过使用跨职能团队引入高级BICMOS产品
作者:
Hanley S.E.
;
Wilson D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
67.
Evaluating Destructive Measurements using Gage R R
机译:
使用Gage R&R评估破坏性测量
作者:
Ackermann C.S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
68.
Reflexion Supported Pyrometric Interferometry: Anew tool for in situ, real time temperature control in semiconductor manufacturing
机译:
反射支撑高温干涉测量:用于原位的重组工具,半导体制造中的实时温度控制
作者:
Boebel F.G.
;
Moller H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
69.
Detectivity Performance of Full Field Immersion Photolithography Tool
机译:
全场浸没光刻工具的探测性能
作者:
Katsushi Nakano
;
Shirou Nagaoka
;
Soichi Owa
;
Irfan Malik
;
Tetsuya Yamamoto
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Immersion-specific defects;
Immersion Photolithography;
Immersion resists;
70.
Defectivity Performance of Full Field Immersion Photolithography Tool
机译:
全场浸没光刻工具的缺陷性能
作者:
Nakano K.
;
Malik I.
;
Yamamoto T.
;
Nagaoka S.
;
Owa S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
71.
What Happens to Gas Cylinder Purity as Content is Consumed?
机译:
燃气缸纯度何时消耗液体纯度?
作者:
Albert P.
;
Amato A.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
72.
Partnership Between Education and Industry for Preparing Students for State-of-the-Art Vlsi Technology
机译:
教育和工业之间为学生提供最先进的VLSI技术的伙伴关系
作者:
Prasad K.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
73.
A Monitor Wafer Based Controller For Pecvd Silicon Nitride Process On Amt 5000
机译:
用于PECVD氮化硅氮化物过程的监视器晶片控制器5000
作者:
Mozumder P.K.
;
Saxena S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
74.
Process Capability Improvement in a Student Run Integrated Circuit Factory
机译:
学生运行集成电路工厂的过程能力改进
作者:
Fuller L.F.
;
Waldrop P.C.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
75.
Rational Balance -- Intuition and Reason in Problem Solving
机译:
理性平衡 - 解决问题的直觉与原因
作者:
Tomlinson K.P.
;
Campbell B.L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
76.
Cost of Ownership Benefits Using Multiply Charged Ion Implants on Conventional Medium and High Current Implanters
机译:
使用常规介质和高电流植入机的乘法带电离子植入物的所有权效益
作者:
Steeples K.
;
Tai G.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
77.
Hybrid Lithography System Using E-beam Direct Writer And Optical Stepper
机译:
使用电子束直接作家和光学步进系统的混合光刻系统
作者:
Kaneko T.
;
Shibata Y.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
78.
Effects and Interactions of Wafer Shape and Stepper Chucks on Wafer Flatness Control
机译:
晶片形状和步进夹头对晶圆平整度控制的影响和相互作用
作者:
Goodall R.
;
Kawski J.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
79.
The Significance and Detection of Transmissive Defects on 5X Retitles
机译:
5X Retitles透射缺陷的意义和检测
作者:
Zurbrick L.S.
;
Henke W.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2001年
80.
A Method of Manufacturing a Low Defect, Low Stress Pre-metal Dielectric Stack for High Reliability and MEMs Applications
机译:
一种制造低缺陷,低应力预金属介质堆的方法,用于高可靠性和MEMS应用
作者:
John J. Naughton
;
Mark M. Nelson
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
BPSG;
PSG;
CMP;
PETEOS;
PECVD;
Micro Scratching;
Planarization;
ILD;
Pre Metal Dielectric (PMD);
81.
Deep Trench Resistance and leakage Reduction - Poly 1 Doping Process Optimization in High Volume DRAM Manufacturing for 300mm Factory
机译:
深度沟槽抗性和泄漏减少 - 300mm厂的高批量DRAM制造中的多1掺杂工艺优化
作者:
Min-Soo Kim
;
William Cooper
;
Brian Simonson
;
David Ricks
;
Eric McDaniel
;
Roderick Miller
;
Richard Chapman
;
Thomas Taylor
;
Robert Fuller
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
300mm DRAM manufacturing;
N+ doped poly-silicon;
Deep Trench (DT) technology;
Node leakage;
Signal margin;
Yield enhancement;
Process optimization;
Furnace loading effect;
82.
Optimization of Ultrasonic Cleaning for Erosion-Sensitive Microelectronic Components
机译:
腐蚀敏感微电子元件超声波清洗优化
作者:
Nagarajan R.
;
Diwan M.
;
Awasthi P.
;
Shukla A.
;
Sharma P.
;
Goodson M.
;
Awad S.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
83.
New methodology for ultra-fast detection and reduction of non-visual defects at the 90nm node and below using comprehensive e-test structure infrastructure and inline DualBeam FIB
机译:
使用全面的电子测试结构基础架构和内联双波FIB在90nm节点和下面的超快速检测和减少非视觉缺陷的新方法
作者:
Michael B. Schmidt
;
Hyong H. Kang
;
Larry Dworkin
;
Kenneth R. Harris
;
Sherry F. Lee
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Failure Analysis;
Non-visual Defects;
Defect Localization;
Advanced Metrology;
Yield enhancement;
Voltage Contrast;
84.
New Tool for Targeting Energy Improvements in Semiconductor Manufacturing Equipment
机译:
用于定位半导体制造设备的能量改进的新工具
作者:
Phil Naughton
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Energy;
Energy Conversion Factor;
Total Equivalent Energy;
85.
Control of Contact Hole Distortion by Using Polymer Deposition Process (PDP) for sub-65nm Technology and Beyond
机译:
使用聚合物沉积工艺(PDP)对Sub-65nm技术及更远来控制接触孔失真的控制
作者:
Judy Wang
;
Shing-li Sung
;
Shawming Ma
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
PDP;
Distortion;
Contact etch;
Dielectric etch;
86.
A Best Known Method for Forming a Multi-Fab Cost Reduction Infrastructure and Applying Innovative Cost Reduction Techniques in Diffusion
机译:
一种形成多工厂成本减少基础设施的最佳已知方法,并在扩散中应用创新成本降低技术
作者:
Harel Hershkovitz
;
Manoj Batra
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
87.
Optimization of Ultrasonic Cleaning for Erosion-Sensitive Microelectronic Components
机译:
腐蚀敏感微电子元件超声波清洗优化
作者:
R. Nagarajan
;
M. Diwan
;
P. Awasthi
;
A. Shukla
;
P. Sharma
;
M. Goodson
;
S. Awad
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Ultrasonic;
Cavitation;
Erosion;
Cleaning;
Silicon wafer;
88.
Cycle Time Approximations for the G/G/m Queue Subject to Server Failures and Cycle Time Offsets with Applications
机译:
G / G / M队列的循环时间近似于服务器故障和使用应用程序的循环时间偏移
作者:
Morrison J.R.
;
Martin D.P.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
89.
Challenges and Methodology of Fab-to-fab CD-SEM Matching
机译:
Fab-to-Fab CD-SEM匹配的挑战和方法
作者:
Thomas Marschner
;
Uwe Kramer
;
Kerstin Muehlstaedt
;
Alessandra Navarra
;
Christian Stief
;
Stefano Ventola
;
Dieter Gscheidlen
;
Uwe Groh
;
Jasen Moffitt
;
Tricia Burroughs
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Advanced Metrology;
CD SEM;
Matching;
Litho-Metrology;
90.
The Development of the Non-contact Electrical Leakage Property Measurement System for the High-K Dielectric Materials on DRAM Capacitors
机译:
DRAM电容器高k电介质材料的非接触电漏性能测量系统的开发
作者:
Yusin Yang
;
Byung Sug Lee
;
Misung Lee
;
Chung Sam Jun
;
Tae Sung Kim
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
High-K material;
Al{sub}2O{sub}3;
Hf0{sub}2;
Storage capacitor;
Kelvin probe;
Electrical leakage property;
91.
Cycle Time Approximations for the G/G/m Queue Subject to Server Failures and Cycle Time Offsets with Applications
机译:
G / G / M队列的循环时间近似于服务器故障和使用应用程序的循环时间偏移
作者:
James R. Morrison
;
Donald P. Martin
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Approximate performance evaluation;
G/G/m queue;
Cycle time;
Server failures;
Cycle time offsets;
Hold time;
92.
Control of Contact Hole Distortion by Using Polymer Deposition Process (PDP) for sub-65nm Technology and Beyond
机译:
使用聚合物沉积工艺(PDP)对Sub-65nm技术及更远来控制接触孔失真的控制
作者:
Wang J.
;
Shing-li Sung
;
Shawming Ma
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
93.
Novel Sustainable and Structured Model, System and Methodology for Engineering Competency Development
机译:
工程能力发展的新型可持续和结构化模型,系统和方法
作者:
Ronnie Choo Hean Ng
;
Sook Chien Chan
;
Victor Kam Kien Wong
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Technical Training;
Employee Development;
Emerging Skills;
Increasing Productivity;
Effective recruiting amp;
Hiring;
94.
New methodology for ultra-fast detection and reduction of non-visual defects at the 90nm node and below using comprehensive e-test structure infrastructure and in-line DualBeamTM FIB
机译:
使用全面的电子测试结构基础设施和在线DualbeamTM FIB的超快速检测和降低非快速检测和减少非视觉缺陷的新方法
作者:
Schmidt M.B.
;
Kang H.H.
;
Dworkin L.
;
Harris K.R.
;
Lee S.F.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
95.
A Method of Manufacturing a Low Defect, Low Stress Pre-metal Dielectric Stack for High Reliability and MEMs Applications
机译:
一种制造低缺陷,低应力预金属介质堆的方法,用于高可靠性和MEMS应用
作者:
Naughton J.J.
;
Nelson M.M.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
96.
The Development of the Non-contact Electrical Leakage Property Measurement System for the High-K Dielectric Materials on DRAM Capacitors
机译:
DRAM电容器高k电介质材料的非接触电漏性能测量系统的开发
作者:
Yusin Yang
;
Chung Sam Jun
;
Tae Sung Kim
;
Byung Sug Lee
;
Misung Lee
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
97.
A Best Known Method for Forming a Multi-Fab Cost Reduction Infrastructure and Applying Innovative Cost Reduction Techniques in Diffusion.
机译:
一种形成多工厂成本减少基础设施的最佳已知方法,并在扩散中应用创新成本降低技术。
作者:
Hershkovitz H.
;
Batra M.
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
98.
Novel Sustainable and Structured Model, System and Methodology for Engineering Competency Development
机译:
工程能力发展的新型可持续和结构化模型,系统和方法
作者:
Ronnie Choo Hean Ng
;
Sook Chien Chan
;
Victor Kam Kien Wong
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
99.
Infusion processing for advanced transistor manufacturing
机译:
高级晶体管制造的输液处理
作者:
Wes Skinner
;
Matt Gwinn
;
John Hautala
;
Takashi Kuroi
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
关键词:
Infusion doping;
Ultra shallow junctions;
Poly doping;
SiGe;
100.
Methods for Fast Yield Learning in A DRAM Wafer Fab using a Remote Packaging and Test Site
机译:
使用远程封装和测试站点的DRAM晶圆厂快速收益率的方法
作者:
Robert Trahan
;
Richard Chapman
;
Nathan Gumaer
;
Winford Hill
;
Ana Bicho
;
Marco Gomes
会议名称:
《IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop》
|
2006年
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