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SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography
SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography
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1.
Metrology of a 50 nm HP wire-grid polarizer: a SEM-scatterometry comparison
机译:
50nm HP线栅极偏振器的计量:SEM散射测定法
作者:
Ruichao Zhu
;
Alexander Munoz
;
S.R.J Brueck
;
Shrawan Singhal
;
S.V. Sreenivasan
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
optical metrology;
scatterometry;
wire-grid polarizer;
SEM;
nanoimprint lithography;
rigorous coupled-wave analysis;
2.
Hybrid metrology implementation: server approach
机译:
混合计量实现:服务器方法
作者:
Carmen Osorio
;
Padraig Timoney
;
Alok Vaid
;
Alex Elia
;
Charles Kang
;
Cornel Bozdog
;
Naren Yellai
;
Eyal Grubner
;
Toru Ikegami
;
Masahiko Ikeno
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
hybrid metrology;
hybrid server;
CD-SEM;
OCD;
HVM;
critical dimension;
co-optimization;
3.
Potential Application of Tip-Enhanced Raman Spectroscopy (TERS) in Semiconductor Manufacturing
机译:
尖端增强拉曼光谱(TERS)在半导体制造中的潜在应用
作者:
P.Y. Hung
;
Thomas E. OLoughlin
;
Aaron Lewis
;
Rimma Dechter
;
Martin Samayoa
;
Sarbajit Banerjee
;
Erin L. Wood
;
Angela R. Hight Walker
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Tip enhanced Raman spectroscopy;
TERS;
defect metrology;
strained Si;
4.
The development and advantages of helium ion microscopy for the study of block copolymer nanopatterns
机译:
氦离子显微镜对嵌段共聚特纳米模式研究的发展及优点
作者:
Alan P. Bell
;
Ramsankar Senthamaraikannan
;
Tandra Ghoshal
;
Atul Chaudhari
;
Matt T. Shaw
;
Michael Leeson
;
Mick A. Morris
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Block Copolymer;
Metrology;
Helium Ion Microscopy;
Directed Self-Assembly;
Resolution;
CD;
SEM;
AFM;
5.
Methodology for determining CD-SEM measurement condition of sub- 20nm resist patterns for 0.33NA EUV lithography
机译:
用于确定0.33NA EUV光刻的20nm抗蚀剂模式的CD-SEM测量条件的方法
作者:
Nobuhiro Okai
;
Erin Lavigne
;
Keiichiro Hitomi
;
Scott Halle
;
Shoji Hotta
;
Shunsuke Koshihara
;
Junichi Tanaka
;
Todd Bailey
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
CD-SEM;
metrology;
EUV;
resist;
shrinkage;
precision;
Taguchi method;
6.
Demonstration of Parallel Scanning Probe Microscope for High Throughput Metrology and Inspection
机译:
高通量计量与检验的平行扫描探针显微镜的演示
作者:
Hamed Sadeghian
;
Bert Dekker
;
Rodolf Herfst
;
Jasper Winters
;
Alexander Eigenraam
;
Ramon Rijnbeek
;
Nicole Nulkes
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
parallel atomic force microscope;
scanning probe microscope;
wafer;
mask;
CD-metrology;
Defect review;
process control;
7.
Signal Response Metrology (SRM) - a new approach for lithography metrology
机译:
信号响应计量(SRM) - 光刻计量的新方法
作者:
Stilian Pandev
;
Fang Fang
;
Young Ki Kim
;
Jamie Tsai
;
Alok Vaid
;
Lokesh Subramany
;
Dzmitry Sanko
;
Vidya Ramanathan
;
Ren Zhou
;
Kartik Venkataraman
;
Ronny Haupt
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Metrology;
Focus;
Dose;
CD;
Accuracy;
Lithography;
8.
Solving next generation (1X node) metrology challenges using advanced CDSEM capabilities: tilt, high energy and backscatter imaging Xiaoxiao Zhanga, Patrick Snowa, Alok Vaida, Eric Soleckya
机译:
使用高级CDSEM功能解决下一代(1X节点)计量挑战:倾斜,高能和后散射成像Xiaoxiao Zhanga,Patrick Snowa,Alok Vaida,Eric Soleckya
作者:
Xiaoxiao Zhang
;
Patrick Snow
;
Alok Vaid
;
Eric Solecky
;
Hua Zhou
;
Zhenhua Ge
;
Shay Yasharzade
;
Ori Shoval
;
Ofer Adan
;
Ishai Schwarzband
;
Maayan Bar-Zvi
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
CD-SEM;
3D metrology;
tilt-beam;
BSE;
SAV;
SEM-based overlay;
9.
Overlay Improvement Using Legendre/Zernike Model-Based Overlay Corrections and Monitoring with Interpolated Metric
机译:
使用基于Legendre / Zernike模型的覆盖校正和监控具有内插指标的覆盖改进
作者:
Md Zakir Ullah
;
Rajanish Javvaji
;
Alan Lim
;
Lieu Chia Chuen
;
Boris Habets
;
Stefan Buhl
;
Georg Erley
;
Steven Tottewitz
;
Enrico Bellmann
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Overlay;
High Order;
Orthogonal;
HVM;
Zernike;
Legendre;
Correlation;
OVALiS;
Transformation Matrix;
Metric;
Over-correction;
Under-determinedness;
10.
Hybrid-enabled Thin Film Metrology using XPS and Optical
机译:
使用XPS和光学启用混合的薄膜计量
作者:
Alok Vaid
;
Givantha Iddawela
;
Sridhar Mahendrakar
;
Michael Lenahan
;
Mainul Hossain
;
Padraig Timoney
;
Abner F. Bello
;
Cornel Bozdog
;
Heath Pois
;
Wei Ti Lee
;
Mark Klare
;
Michael Kwan
;
Byung Cheol Kang
;
Paul Isbester
;
Matthew Sendelbach
;
Naren Yellai
;
Prasad Dasari
;
Tom Larson
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
OCD;
scatterometry;
virtual metrology;
reference metrology;
hybrid metrology;
HESS;
XPS;
XRF;
11.
Scanning Scattering Contrast Microscopy for Actinic EUV Mask Inspection
机译:
扫描散射对比度显微镜,用于光化EUV面罩检查
作者:
I. Mohacsi
;
P. Helfenstein
;
R. Rajendran
;
Y. Ekinci
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
EUV lithography;
actinic inspection;
lensless imaging;
mask metrology;
defect characterization;
12.
Optimizing noise for defect analysis with through-focus scanning optical microscopy
机译:
通过聚焦扫描光学显微镜优化缺陷分析的噪声
作者:
Ravikiran Attota
;
John Kramar
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
TSOM;
noise optimization;
defect analysis;
13.
Spacer multi-patterning control strategy with optical CD metrology on device structures
机译:
具有光学CD计量的间隔多图案化控制策略在装置结构上
作者:
Jongsu Lee
;
Byoung-Hoon Lee
;
Won-Kwang Ma
;
Sang-Jun Han
;
Young-Sik Kim
;
Noh-Jung Kwak
;
Thomas Theeuwes
;
Wei Guo
;
Yi Song
;
Baukje Wisse
;
Stefan Kruijswijk
;
Hugo Cramer
;
Steven Welch
;
Alok Verma
;
Rui Zhang
;
Yvon Chai
;
Sharon Hsu
;
Giacomo Miceli
;
Kyu-Tae Sun
;
Jin-Moo Byun
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
CDU;
pitch walking;
control;
spacer multi-patterning;
angle resolved scatterometer;
after etch inspection;
14.
Challenges in LER/CDU metrology in DSA: Placement error and cross-line correlations
机译:
DSA中LER / CDU计量中的挑战:放置误差和串联相关性
作者:
Vassilios Constantoudis
;
Vijaya-Kumar Murugesan Kuppuswamy
;
Evangelos Gogolides
;
Alessandro Vaglio Pret
;
Hari Pathangi
;
Roel Gronheid
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Line Edge Roughness (LER);
Line Width Roughness (LWR);
Line Center Roughness (LCR);
Directed Self-Assembly Lithography (DSAL);
correlation length;
placement error;
cross-line correlations;
line wiggling;
15.
Design-based metrology: Beyond CD/EPE metrics to evaluate printability performance
机译:
基于设计的计量:超越CD / EPE指标,以评估可打印性能
作者:
Sandip Halder
;
Julien Mailfert
;
Philippe Leray
;
David Rio
;
Yi-Hsing Peng
;
Bart Laenens
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
CD-SEM;
contours;
image analysis;
sectorization;
process window;
EPE;
16.
Electric Fields in Scanning Electron Microscopy Simulations
机译:
扫描电子显微镜模拟中的电场
作者:
K. T. Arat
;
J. Bolten
;
T. Klimpel
;
N. Unal
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
SEM;
Monte Carlo Simulation;
Multigrid Method;
Charging;
SEM Metrology;
SEM Inspection;
Cleanroom Experiments;
17.
Scatterometry modeling for gratings with roughness and irregularities
机译:
粗糙度和脱模光栅的散射测定模型
作者:
Joerg Bischoff
;
Karl Hehl
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
sinusoidal;
measurements;
techniques;
18.
Metrology target design simulations for accurate and robust scatterometry overlay measurements
机译:
计量目标设计模拟,用于精确且稳健的散射仪覆盖测量
作者:
Guy Ben-Dov
;
Inna Tarshish-Shapir
;
David Gready
;
Mark Ghivovker
;
Mike Adel
;
Eitan Herzel
;
Soonho Oh
;
DongSub Choi
;
Sang Hyun Han
;
Mohamed El Kodadi
;
Chan Hwang
;
Jeongjin Lee
;
Seung Yoon Lee
;
Kuntack Lee
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
optical metrology;
target design;
overlay;
scatterometry;
overlay simulations;
SCOL;
DBO;
OCD;
MTD;
19.
Resist 3D model based OPC for 28nm metal process window enlargement
机译:
基于3D模型的OPC为28nm金属工艺窗口扩大
作者:
P. Fanton
;
J.C. Le Denmat
;
C. Gardiola
;
A. Pelletier
;
F. Foussadier
;
C. Gardin
;
J. Planchot
;
A. Szucs
;
O. Ndiaye
;
N. Martin
;
L. Depre
;
F. Robert
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
dimensional;
simulations;
designs;
20.
Innovative scatterometry approach for Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP) process control
机译:
自对准四重型图案(SAQP)过程控制的创新散射方法
作者:
Anil Gunay-Demirkol
;
Efrain Altamirano Sanchez
;
Stephane Heraud
;
Stephane Godny
;
Anne-Laure Charley
;
Philippe Leray
;
Ronen Urenski
;
Oded Cohen
;
Igor Turovets
;
Shay Wolfling
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Scatterometry;
SAQP;
pitch walk;
process control;
holistic/hybrid metrology;
nominal/skewed pitch;
FEOL;
fin patterning;
21.
Proposed approach to drive wafer topography for advanced lithography
机译:
提出驾驶先进光刻晶圆形貌的方法
作者:
John F. Valley
;
Andrey Melnikov
;
John A. Pitney
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
nanotopography;
flatness;
wafer;
22.
A Novel Mask Structure for Measuring the Defocus of Scanner
机译:
一种用于测量扫描仪散焦的新型掩模结构
作者:
Lisong Dong
;
Zhiyang Song
;
Xiaojing Su
;
Yayi Wei
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Focus;
phase shift;
grating;
measuring;
lithography;
23.
Assessments of Image-based and Scatterometry-based Overlay Targets
机译:
基于图像和散射仪的覆盖目标的评估
作者:
Chiew-seng Koay
;
Nelson Felix
;
Bassem Hamieh
;
Scott Halle
;
Chumeng Zheng
;
Stuart Sieg
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
overlay;
scatterometry;
true overlay;
qualification;
QMerit;
simulation;
Blossom;
segmentation;
24.
Overlay metrology performance prediction fidelity: The factors enabling a successful target design cycle
机译:
覆盖计量性能预测保真度:实现目标设计周期的因素
作者:
Inna Tarshish-Shapir
;
Eitan Hajaj
;
Greg Gray
;
Jeffery Hodges
;
Jianming Zhou
;
Sarah Wu
;
Sam Moore
;
Guy Ben-Dov
;
Chen Dror
;
Zeev Lindenfeld
;
David Gready
;
Mark Ghinovker
;
Mike Adel
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
optical metrology;
target design;
overlay;
scatterometry;
overlay simulations;
film measurement;
SCOL;
DBO;
OCD;
MTD;
25.
Gaining insight into effective metrology height through the use of a compact CDSEM model for lithography simulation
机译:
通过使用紧凑的CDSEM模型来获得有效计量高度的洞察力模拟
作者:
Chao Fang
;
Trey Graves
;
Alessandro Vaglio Pretb
;
Stewart Robertson
;
Mark Smith
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
CD-SEM Simulator;
photolithography simulation;
metrology height;
EPE;
26.
Study on Overlay AEI-ADI Shift on Contact Layer of Advanced Technology Node
机译:
高级技术节点接触层覆盖AEI-ADI转换的研究
作者:
Guogui Deng
;
Jingan Hao
;
Lihong Xiao
;
Bin Xing
;
Yuntao Jiang
;
Kaiting He
;
Qiang Zhang
;
Weiming He
;
Chang Liu
;
Yi-Shih Lin
;
Qiang Wu
;
Xuelong Shi
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
investigating;
responsible;
correlation;
27.
Metrology target design (MTD) solution for diagonally orientated DRAM layer
机译:
对角导向DRAM层的计量目标设计(MTD)解决方案
作者:
Myungjun Lee
;
Mark D. Smith
;
Michael E. Adel
;
Chia-Hung Chen
;
Chin-Chang Huang
;
Hao-Lun Huang
;
Hsueh-Jen Tsai
;
I-Lin Wang
;
Jen-Chou Huang
;
Jo-Lan Chin
;
Kuo-Yao Chou
;
Yuan-Ku Lan
;
Hsien-Yen Lung
;
Jui-Chin Yang
;
Tal Itzkovich
;
Healthy Huang
;
Yaniv Abramovitz
;
Jinyan Song
;
Chen Dror
;
Harvey Cheng
;
Ady Levy
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Overlay metrology target design;
OPC;
Lithography;
Pattern placement error (PPE);
Process Window(PW);
Dipole illumination;
Bossung tilt;
Depth of focus (DOF);
SCOL;
AIM;
SADP;
Zernike polynomials;
28.
Lithography-aware overlay metrology target design method
机译:
光刻感知叠加计量计量目标设计方法
作者:
Myungjun Lee
;
Mark D. Smith
;
Joonseuk Lee
;
Mirim Jung
;
Honggoo Lee
;
Youngsik Kim
;
Sangjun Han
;
Michael E. Adel
;
Kangsan Lee
;
Dohwa Lee
;
Dongsub Choi
;
Zephyr Liu
;
Tal Itzkovich
;
Vladimir Levinski
;
Ady Levy
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Overlay metrology target design;
OPC;
Lithography;
Pattern placement error (PPE);
Process Window(PW);
Dipole illumination;
Bossung tilt;
Depth of focus (DOF);
SCOL;
AIM;
SADP;
29.
Optical Metrology Solutions for 10nm Films Process Control Challenges
机译:
10NM薄膜过程控制挑战的光学计量解决方案
作者:
Sridhar Mahendrakar
;
Alok Vaid
;
Kartik Venkataraman
;
Michael Lenahan
;
Steven Seipp
;
Fang Fang
;
Shweta Saxena
;
Dawei Hu
;
Nam Hee Yoon
;
Da Song
;
Janay Camp
;
Zhou Ren
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Thickness;
in-line metrology;
Ellipsometry;
multi-channel;
FinFET;
Films on grating;
30.
Next generation of decision making software for nanopatterns characterization: application to semiconductor industry
机译:
下一代决策软件用于纳米模式表征:在半导体行业的应用
作者:
A.Dervillé
;
A.Labrosse
;
Y.Zimmermann
;
J.Foucher
;
R.Gronheid
;
C.Boeckx
;
A.Singh
;
P.Leray
;
S.Halder
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
metrology software;
image processing;
data analysis;
process characterization;
defect inspection;
31.
Monitoring of ion implantation in microelectronics production environment using multi-channel reflectometry
机译:
利用多通道反射测量监测微电子生产环境中的离子植入
作者:
Peter Ebersbach
;
Adam M. Urbanowicz
;
Dmitriy Likhachev
;
Carsten Hartig
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Implantation control;
multi-channel reflectometry;
optical modeling;
scatterometry;
OCD;
high-k technology;
32.
Detection of Electrical Defects with SEMVision in Semiconductor Production Mode Manufacturing
机译:
半导体生产模式制造中半导体的电缺陷检测电缺陷
作者:
Travis Newell
;
Brock Tillotson
;
Haim Pearl
;
Andrei Miller
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Electrical Defects;
Hot Spots;
Patterning Defects;
Underetching;
Efficient Line Sampling;
Automatic Process Inspection;
SEM Automatic Review;
33.
GPU accelerated Monte-Carlo simulation of SEM images for metrology
机译:
GPU加速Monte-Carlo Month Moverogy SEM图像模拟
作者:
T. Verduin
;
S. R. Lokhorst
;
C. W. Hagen
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Simulation;
Monte Carlo methods;
CUDA;
Dimensional metrology;
Scanning electron microscopy;
34.
Excursion detection using leveling data
机译:
使用调平数据进行偏移检测
作者:
MinGyu Kim
;
Jaewuk Ju
;
Boris Habets
;
Georg Erley
;
Enrico Bellmann
;
Seop Kim
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Focus;
Leveling;
Monitoring;
Chuck Fingerprints;
Chuck Cleaning;
Pre-Process Influence;
Overlay;
HVM;
Wafer Edge;
Obsidian;
OVALiS;
35.
A diffractometer for quality control in nano fabrication processing based on subwavelength diffraction
机译:
基于亚壳衍射的纳米制造处理中质量控制的衍射仪
作者:
Martin Kreuzer
;
Jordi Gomis Bresco
;
Marianna Sledzinska
;
Clivia M. Sotomayor Torres
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Diffraction;
Nanofabrication;
Polymers;
Scattering;
Sensors;
Visible radiation;
Nanostructuring;
Diffraction gratings;
Fabrication;
36.
Development of a comprehensive metrology platform dedicated to dimensional measurements of CD atomic force microscopy tips
机译:
开发专用于CD原子力显微镜提示的尺寸测量的全面计量平台
作者:
Johann Foucher
;
Sebastian W. Schmidt
;
Aurelien Labrosse
;
Alexandre Dervillé
;
Sandra Bos
;
Sebastian Schade
;
Bernd Irmer
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
AFM tip dimensions;
automatic image analysis;
CD AFM;
reference metrology;
data fusion;
37.
Improved scatterometry time-to-solution using virtual reference
机译:
使用虚拟参考改进散射时间到解决方案
作者:
Alok Vaid
;
Givantha Iddawela
;
Jamie Tsai
;
Gilad Wainreb
;
Paul Isbester
;
Byung Cheol (Charles) Kang
;
Michael Klots
;
Yinon Katz
;
Cornel Bozdog
;
Matt Sendelbach
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
OCD;
scatterometry;
virtual metrology;
reference metrology;
time to solution;
TEM;
38.
Influence of the process-induced asymmetry on the accuracy of overlay measurements
机译:
过程诱导的不对称对覆盖测量精度的影响
作者:
Tetyana Shapoval
;
Bernd Schulz
;
Tal Itzkovich
;
Sean Durran
;
Ronny Haupt
;
Agostino Cangiano
;
Barak Bringoltz
;
Matthias Ruhm
;
Eric Cotte
;
Rolf Seltmann
;
Tino Hertzsch
;
Eitan Hajaj
;
Carsten Hartig
;
Boris Efraty
;
Daniel Fischer
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Overlay;
Target design;
Accuracy;
Qmerit;
Metrology;
TMU;
Asymmetry;
39.
Application of Frequency Domain Line Edge Roughness Characterization Methodology in Lithography
机译:
频域线边缘粗糙度表征方法在光刻中的应用
作者:
Lei Sun
;
Wenhui Wang
;
Genevieve Beique
;
Obert Wood
;
Ryoung-han Kim
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Line edge roughness;
line width roughness;
power spectral density;
wiggling;
wiggling factor;
frequency domain;
standard deviation;
lithography;
40.
Induced e-Beam charge impact on spatial orientation of Gate-All-Around Silicon wires device fabricated on Boron Nitride substrate
机译:
诱导电子束充电对氮化硼衬底制造的栅极 - 全部硅线路装置的空间取向影响
作者:
Shimon Levi
;
Konstantin Chirko
;
Ofer Adan
;
Guy M. Cohen
;
Sarunya Bangsaruntip
;
Leathen Shi
;
Alfred Grill
;
Deborah Neumayer
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
charging;
Coulomb;
orientation;
41.
Through Pitch monitoring by optical scatterometry
机译:
通过光学散射测量法通过音高监测
作者:
R.Melzer
;
C. Hartig
;
G. Grasshoff
;
B. Sass
;
F. Koch
;
Z.-Q. Xu
;
Z. Shen
;
J. Engelmann
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
SCD;
scatterometry;
optical metrology;
chamber matching;
through pitch;
Etch compensation;
42.
Comprehensive BEOL Control using Scatterometry and APC
机译:
使用散射测定法和APC进行全面的BEOL控制
作者:
Padraig Timoney
;
Jamie Tsai
;
Sudhir Baral
;
Laertis Economikos
;
Alok Vaid
;
Haibo Liu
;
Byungcheol Kang
;
Paul Isbester
;
Prasad Dasari
;
Roy Kort
;
Naren Yellai
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
3D Scatterometry;
CMP;
RIE;
BEOL;
APC;
43.
Stack and topography verification as an enabler for computational metrology target design
机译:
堆栈和地形验证作为计算计量目标设计的启动器
作者:
Michael E. Adel
;
Inna Tarshish-Shapir
;
David Gready
;
Mark Ghinovker
;
Chen Dror
;
Stephane Godny
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
overlay metrology;
computational metrology target design;
stack and topography verification;
44.
Improvement of Process Control using Wafer Geometry for Enhanced Manufacturability of Advanced Semiconductor Devices
机译:
使用晶圆几何进行过程控制的改进,以提高高级半导体器件的可制造性
作者:
Honggoo Lee
;
Jongsu Lee
;
Sangmin Kim
;
Changhwan Lee
;
Sangjun Han
;
Myoungsoo Kim
;
Wontaik Kwon
;
Sung-Ki Park
;
Pradeep Vukkadala
;
Amartya Awasthi
;
JH Kim
;
Sathish Veeraraghavan
;
DongSub Choi
;
Kevin Huang
;
Prasanna Dighe
;
Cheouljung Lee
;
Jungho Byeon
;
Soham Dey
;
Jaydeep Sinha
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Silicon wafers;
Process-induced overlay;
local stress;
wafer geometry;
IPD;
local shape curvature;
feedforward;
45.
Target design optimization for overlay scatterometry to improve on-product overlay
机译:
覆盖散射测定法的目标设计优化,以改善产品覆盖物
作者:
Henk-Jan H. Smilde
;
Richard J.F. van Haren
;
Willy van Bu?l
;
Lars H.D. Driessen
;
Jér?me Dépré
;
Jan Beltman
;
Florent Dettoni
;
Julien Ducoté
;
Christophe Dezauzier
;
Yoann Blancquaert
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Target design optimization;
overlay;
in-die;
metrology;
scatterometry;
MT-OPC;
small target;
edge effect;
46.
Pattern recognition and data mining techniques to identify factors in wafer processing and control determining overlay error
机译:
模式识别和数据挖掘技术识别晶片处理中的因素和控制确定覆盖误差
作者:
Auguste Lam
;
Alexander Ypma
;
Maxime Gatefait
;
David Deckers
;
Arne Koopman
;
Richard van Haren
;
Jan Beltman
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
On-product overlay;
Pattern Recognition;
Data mining;
Principal Component Analysis;
Machine Learning;
Partial Least-Squares regression;
Support Vector Machines;
Reticle Heating;
47.
High-speed AFM for 1x node metrology and inspection: Does it damage the features?
机译:
1x节点计量和检查的高速AFM:它是否会损坏功能?
作者:
Hamed Sadeghian
;
Teun C. van den Dool
;
Yoram Uziel
;
Ron Bar Or
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
AFM;
atomic force microscope;
cantilever;
tip sample interaction;
wafer;
resist;
damage;
metrology;
inspection;
48.
Transient Tip-Sample Interactions in High-Speed AFM Imaging of 3D nano structures
机译:
3D纳米结构高速AFM成像中的瞬态尖端样本相互作用
作者:
Aliasghar Keyvani
;
Hamed Sadeghian
;
Hans Goosen
;
Fred van Keulen
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Tapping mode AFM;
Tip-sample interactions;
Peak repulsive Force;
Hertz model;
Contact stress;
49.
Intra-field patterning control using high-speed and small-target optical metrology of CD and focus
机译:
使用CD和焦点的高速和小型靶光学计量的现场图案化控制
作者:
Hugo Cramer
;
Stefan Petra
;
Bastiaan Onne Fagginger Auer
;
Henk-Jan Smilde
;
Baukje Wisse
;
Steven Welch
;
Stefan Kruijswijk
;
Paul Hinnen
;
Bart Segers
;
Christian Leewis
;
Frank Staals
;
Maryana Escalante Marun
;
Stuart Young
;
Wei Guo
;
Arie den Boef
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Scatterometry;
focus control;
CD control;
profile control;
CD metrology;
focus metrology;
optical metrology;
50.
Scatterometry or Imaging Overlay a Comparative Study
机译:
散射测定法或成像覆盖一个比较研究
作者:
Simon C. C. Hsu
;
Yuan Chi Pai
;
Charlie Chen
;
Chun Chi Yu
;
Henry Hsing
;
Robert (Hsing-Chien) Wu
;
Kelly T. L. Kuo
;
Nuriel Amir
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Overlay;
Accuracy;
process robustness;
IBO;
SCOL;
DBO;
uDBO;
51.
High Order Overlay Modeling and APC simulation with Zernike- Legendre Polynomials
机译:
具有Zernike-Legendre多项式的高阶覆盖建模和APC仿真
作者:
JawWuk Ju
;
MinGyu Kim
;
JuHan Lee
;
Stuart Sherwin
;
George Hoo
;
DongSub Choi
;
Dohwa Lee
;
Sanghuck Jeon
;
Kangsan Lee
;
David Tien
;
Bill Pierson
;
John C. Robinson
;
Ady Levy
;
Mark D. Smith
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Overlay;
Accuracy;
Zernike;
Legendre;
52.
CD Uniformity Improvement of Dense Contact Array in Negative Tone Development Process
机译:
阴性开发过程中密集接触阵列的CD均匀性改进
作者:
Fengnien Tsai
;
Teng-hao Yeh
;
C. C. Yang
;
Elvis Yang
;
T. H. Yang
;
K. C. Chen
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
pattern density;
CDU;
NTD;
chemical flare;
optical flare;
53.
Lithography process controllers and photoresist monitoring by signal response metrology (SRM)
机译:
光刻过程控制器和信号响应计量的光致抗蚀剂监测(SRM)
作者:
He Rong Yang
;
Tang Chun Weng
;
Wei-Jhe Tzai
;
Chien-Hao Chen
;
Chun-Chi Yu
;
Wei-Yuan Chu
;
Sungchul Yoo
;
Chien-Jen Huang
;
Chao-Yu Cheng
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Photolithography;
scatterometry;
focus;
dose;
spectrum;
photoresist;
54.
Fast analytical modeling of SEM images at a high level of accuracy
机译:
高精度的SEM图像快速分析模拟
作者:
S. Babin
;
S.S. Borisov
;
V.P. Trifonenkov
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
SEM;
metrology;
SEM simulation;
critical dimensions;
analytic model;
compact model;
Monte Carlo;
lithography simulation;
electron scattering;
charging;
55.
Optimizing Hybrid Metrology: Rigorous Implementation of Bayesian and Combined Regression
机译:
优化杂交计量:严格实施贝叶斯和综合回归
作者:
Mark-Alexander Henn
;
Richard M. Silver
;
John S. Villarrubia
;
Nien Fan Zhang
;
Hui Zhou
;
Bryan M. Barnes
;
Bin Ming
;
András E. Vladár
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
hybrid metrology;
electromagnetic simulation;
sensitivity and uncertainty evaluation;
Bayesian data analysis;
56.
Overlay Improvement by Exposure Map based Mask Registration Optimization
机译:
基于曝光地图的掩模注册优化覆盖改进
作者:
Irene Shi
;
Eric Guo
;
Ming Chen
;
Max Lu
;
Gordon Li
;
Rivan Li
;
Eric Tian
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
mask registration;
in-die;
SOV (sources of variation);
exposure map;
pattern density;
POSCOR (position correction);
57.
Simulating Massively Parallel Electron Beam Inspection for sub-20 nm Defects
机译:
模拟亚20 nm缺陷的大型平行电子束检验
作者:
Benjamin D. Bunday
;
Maseeh Mukhtar
;
Kathy Quoi
;
Brad Thiel
;
Matt Malloy
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
JMONSEL;
defect detection;
multi-column;
electron-beam defect inspection;
EBI;
SEM;
particle inspection;
massively parallel;
58.
Analytical Linescan Model for SEM Metrology
机译:
SEM Metrology的分析线模型
作者:
Chris A. Mack
;
Benjamin D. Bünday
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Scanning electron microscope;
SEM;
linescan model;
critical dimension;
JMONSEL;
CD-SEM;
edge detection;
59.
Scatterometry-based Defect Detection for DSA In-line Process Control
机译:
基于散射测定的DSA在线过程控制的缺陷检测
作者:
Robin Chao
;
Chi-Chun Liu
;
Cornel Bozdog
;
Aron Cepler
;
Matthew Sendelbach
;
Oded Cohen
;
Shay Wolfling
;
Todd Bailey
;
Nelson Felix
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
OCD;
scatterometry;
CD-SEM;
DSA;
defects;
1X node;
imaging;
60.
The effect of sidewall roughness on line edge roughness in top-down scanning electron microscopy images
机译:
自上而下扫描电子显微镜图像中侧壁粗糙度对线边缘粗糙度的影响
作者:
T. Verduin
;
S. R. Lokhorst
;
P. Kruit
;
C. W. Hagen
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Metrology;
Scanning electron microscopy;
Line edge roughness;
Sidewall roughness;
Power spectral density;
Monte Carlo methods;
61.
Silicon Fin Line Edge Roughness Determination and Sensitivity Analysis by Mueller Matrix Spectroscopic Ellipsometry based Scatterometry
机译:
硅翅片线边缘粗糙度粗糙度测定和敏感性分析壳体基质光谱椭圆椭圆形散射测定法
作者:
Dhairya Dixit
;
Samuel OMullane
;
Sravan Sunkoju
;
Erik R. Hosler
;
Vimal Kamineni
;
Moshe Preil
;
Nick Keller
;
Joseph Race
;
Gangadhara Raja Muthinti
;
Alain C. Diebold
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
LER;
LWR;
Mueller matrix ellipsometry;
Scatterometry;
Optical CD metrology;
DSA Si fins;
62.
Investigating SEM metrology effects using a detailed SEM simulation and stochastic resist model
机译:
使用详细的SEM仿真和随机抗蚀剂模型来研究SEM计量效应
作者:
Richard A. Lawson
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
photoresists;
scanning electron microscopy;
electron scattering;
sidewall roughness;
line edge roughness;
film thickness effects on LER;
sidewall angle;
stochastic photoresist model;
63.
Electrostatic risks to reticles and damage prevention methodology
机译:
静电风险与栓塞和损伤预防方法
作者:
Gavin C. Rider
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Reticle ESD;
progressive defects;
reticle damage;
electrostatic damage;
EFM;
CD degradation;
chrome migration;
Reticle protection;
64.
Sensitivity Study and Parameter Optimization of OCD Tool for 14 nm FinFET Process
机译:
14 nm FinFET过程OCD工具的敏感性研究与参数优化
作者:
Zhensheng Zhang
;
Huiping Chen
;
Shiqiu Cheng
;
Yunkun Zhan
;
Kun Huang
;
Yaoming Shi
;
Yiping Xu
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Scatterometry;
critical dimension;
FinFET;
sensitivity;
OCD;
65.
Generalized measurement configuration optimization for accurate reconstruction of periodic nanostructures using optical scatterometry
机译:
光学散射法精确重建定期重建的广义测量配置优化
作者:
Jinlong Zhu
;
Yating Shi
;
Shiyuan Liu
;
Lynford L. Goddard
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
scatterometry;
measurement configuration optimization;
Mueller matrix ellipsometer;
66.
Virtual rough samples to test 3D nanometer-scale scanning electron microscopy stereo photogrammetry
机译:
虚拟粗糙样本以测试3D纳米级扫描电子显微镜立体声摄影测量
作者:
J.S. Villarrubi
;
V.N. Tondare
;
A.E. Vladár
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
critical dimension (CD);
dimensional metrology;
model-based metrology;
scanning electron microscopy(SEM);
simulation;
stereo photogrammetry;
surface roughness;
virtual sample;
67.
Material analysis techniques used to drive down in-situ mask contamination sources
机译:
用于驱动原位掩模污染源的材料分析技术
作者:
Harm Dillen
;
Gerard Rebel
;
Jennifer Massier
;
Dominika Grodzinka
;
Richard J. Bruls
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Mask defectivity;
Defect Characterization;
SEM;
EDS;
Elemental mapping;
Mask defectivity;
EUV lithography;
68.
Controlling Bridging and Pinching with Pixel-based Mask for Inverse Lithography
机译:
用基于像素的掩模控制桥接和捏合的逆光刻
作者:
Sergey Kobelkov
;
Alexander Tritchkov
;
JiWan Han
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Inverse lithography;
Local printability enhancement;
Process window;
Printability defects;
Hotspots;
69.
Modeling Metrology for Calibration of OPC Models
机译:
OPC型号校准的建模计量
作者:
Chris A. Mack
;
Ananthan Raghunathan
;
John Sturtevant
;
Yunfei Deng
;
Christian Zuniga
;
Kostas Adam
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
OPC;
optical proximity correction;
modeling;
metrology;
analytical linescan model;
calibration;
70.
Advanced CD-SEM metrology for qualification of DSA patterns using coordinated line epitaxy (COOL) process
机译:
使用协调线外延(COOL)流程的DSA模式资格的高级CD-SEM计量
作者:
Takeshi Kato
;
Junko Konishi
;
Masami Ikota
;
Satoru Yamaguchi
;
Yuriko Seino
;
Hironobu Sato
;
Yusuke Kasahara
;
Tsukasa Azuma
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
DSA;
BCP;
PS-b-PMMA;
CD-SEM;
FER;
LER;
LPR;
PSD;
71.
Electromagnetic field modeling for defect detection in 7 nm node patterned wafers
机译:
7 NM节点缺陷检测的电磁场模型图案晶圆
作者:
Jinlong Zhu
;
Kedi Zhang
;
Nima Davoudzadeh
;
Xiaozhen Wang
;
Lynford L. Goddard
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
boundary element method;
defect inspection;
electromagnetic field modeling;
72.
Improvements to the Analytical Linescan Model for SEM Metrology
机译:
SEM Metrology的分析线模型的改进
作者:
Chris A. Mack
;
Benjamin D. Bunday
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Scanning electron microscope;
SEM;
linescan model;
critical dimension;
JMONSEL;
CD-SEM;
edge detection;
73.
Comparison of Left and Right Side Line Edge Roughness in Lithography
机译:
光刻中左侧线边缘粗糙度的比较
作者:
Lei Sun
;
Nicole Saulnier
;
Genevieve Beique
;
Erik Verduijn
;
Wenhui Wang
;
Yongan Xu
;
Hao Tang
;
Yulu Chen
;
Ryoung-han Kim
;
John Arnold
;
Nelson Felix
;
Matthew Colburn
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Line edge roughness;
power spectral density;
lithography;
etch;
e-beam scan;
74.
Study of correlation between overlay and displacement measured by Coherent Gradient Sensing (CGS) interferometry
机译:
通过相干梯度传感(CGS)干涉测量覆盖与位移之间的相关性研究
作者:
Jeffrey Mileham
;
Yasushi Tanaka
;
Doug Anberg
;
David M. Owen
;
Byoung-Ho Lee
;
Eric Bouche
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
displacement;
overlay;
Coherent Gradient Sensing (CGS);
75.
Simulation of shotnoise induced side-wall roughness in electron lithography
机译:
电子光刻中射击诱导侧壁粗糙度的仿真
作者:
T. Verduin
;
S. R. Lokhorst
;
C. W. Hagen
;
P. Kruit
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Simulation;
Monte Carlo methods;
Dimensional metrology;
Lithography;
Shotnoise;
76.
Within-Wafer CD Variation Induced by Wafer Shape
机译:
晶片形状引起的晶晶段内变化
作者:
Chi-hao Huang
;
Mars Yang
;
Elvis Yang
;
T. H. Yang
;
K. C. Chen
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
within wafer CD variation;
wafer shape;
film stress;
3D NAND;
DoseMapper;
77.
Automatic pattern localization across layout database and photolithography mask
机译:
布局数据库和光刻掩模的自动模式本地化
作者:
Philippe Morey
;
Frederic Brault
;
Eric Beisser
;
Oliver Ache
;
Klaus-Dieter R?th
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Mask registration;
pattern placement;
intra-field wafer overlay;
multi-patterning lithography;
automatic pattern matching;
database clipping;
78.
Studying Post-etching Silicon Crystal Defects on 300 mm Wafer by Automatic Defect Review AFM
机译:
通过自动缺陷综述AFM研究300 mm晶圆上的蚀刻后硅晶体缺陷
作者:
Ardavan Zandiatashbar
;
Patrick A. Taylor
;
Byong Kim
;
Young-kook Yoo
;
Keibock Lee
;
Ahjin Jo
;
Ju Suk Lee
;
Sang-Joon Cho
;
Sang-il Park
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
AFM;
defect review;
defect inspection;
defect inspection;
etching;
light scattering;
metrology;
process control;
SEM;
79.
Process tool monitoring and matching using interferometry technique
机译:
使用干涉测量技术进行过程工具监控和匹配
作者:
Doug Anberg
;
David M. Owen
;
Jeffrey Mileham
;
Byoung-Ho Lee
;
Eric Bouche
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
process tool monitoring;
chamber matching;
CGS interferometry;
topography measurement;
stress measurement;
displacement;
80.
Detection of Metallic Buried Void by Effective Density Contrast Mode
机译:
通过有效密度对比模式检测金属掩埋空隙
作者:
Ming Lei
;
Kevin Wu
;
Qing Tian
;
Kewen Gao
;
Yaqiong Chen
;
Haokun Hu
;
Derek Tomlinson
;
Chris Lei
;
Yan Zhao
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
EBI;
effective density contrast;
backscattering electron;
buried void;
81.
Large dynamic range Atomic Force Microscope for overlay improvements
机译:
用于覆盖改进的大动态范围原子力显微镜
作者:
Stefan Kuiper
;
Erik Fritz
;
Will Crowcombe
;
Thomas Liebig
;
Geerten Kramer
;
Gert Witvoet
;
Tom Duivenvoorde
;
Ton Overtoom
;
Ramon Rijnbeek
;
Erwin van Zwet
;
Anton van Dijsseldonk
;
Arie den Boef
;
Marcel Beems
;
Leon Levasier
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Scanning probe microscopy;
SPM;
Atomic Force Microscopy;
AFM;
overlay;
82.
Process Window Optimizer for pattern based defect prediction on 28nm Metal Layer
机译:
基于模式的缺陷预测处理窗口优化器28nm金属层
作者:
P. Fanton
;
R. La Greca
;
V. Jain
;
C. Prentice
;
J-G. Simiz
;
S. Hunsche
;
B. Le-Gratiet
;
L. Depre
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
prediction;
improvement;
increasingly;
83.
Advanced Overlay: Sampling and Modeling for Optimized Run-to-Run Control
机译:
高级覆盖:优化运行控制的采样和建模
作者:
Lokesh Subramany
;
Woong Jae Chung
;
Pavan Samudrala
;
Haiyong Gao
;
Nyan Aung
;
Juan Manuel Gomez
;
Karsten Gutjahr
;
DongSuk Park
;
Patrick Snow
;
Miguel Garcia-Medina
;
Lipkong Yap
;
Onur Nihat Demirer
;
Bill Pierson
;
John C. Robinson
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Overlay;
84.
Improving OCD Time to Solution using Signal Response Metrology
机译:
使用信号响应计量改善解决方案的OCD时间
作者:
Fang Fang
;
Xiaoxiao Zhang
;
Alok Vaid
;
Stilian Pandev
;
Dimitriy Sanko
;
Vidya Ramanathan
;
Kartik Venkataraman
;
Ronny Haupt
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Modeless optical metrology;
in-line metrology;
Lithography;
Etch;
Focus;
Dose;
CD;
Accuracy;
85.
Advanced In-line Metrology Strategy for Self-Aligned Quadruple Patterning
机译:
自我对齐四重图案的高级在线计量策略
作者:
Robin Chao
;
Mary Breton
;
Benoit Lherron
;
Brock Mendoza
;
Raja Muthinti
;
Florence Nelson
;
Abraham De La Pena
;
Fee li Le
;
Eric Miller
;
Stuart Sieg
;
James Demarest
;
Peter Gin
;
Matthew Wormington
;
Aron Cepler
;
Cornel Bozdog
;
Matthew Sendelbach
;
Shay Wolfing
;
Tom Cardinal
;
Sivananda Kanakasabapathy
;
John Gaudiello
;
Nelson Felix
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Metrology;
SAQP;
CDSEM;
OCD;
XRD;
pitch walk;
86.
Process window limiting hot spot monitoring for high-volume manufacturing
机译:
流程窗口限制高批量生产的热点监测
作者:
Marinus Jochemsen
;
Roy Anunciado
;
Vadim Timoshkov
;
Stefan Hunsche
;
Xinjian Zhou
;
Chris Jones
;
Neal Callan
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
lithographic;
correction;
patterning;
87.
Mixed-mode, high-order multi-patterning control strategy with smallspot, optical CD metrology on device structures
机译:
混合模式,高阶多图案化控制策略,小号,光学CD计量在设备结构上
作者:
Hugo Cramer
;
Baukje Wisse
;
Stefan Kruijswijk
;
Thomas Theeuwes
;
Yi Song
;
Wei Guo
;
Alok Verma
;
Rui Zhang
;
Yvon Chai
;
Sharon Hsu
;
Rahul Khandelwal
;
Giacomo Miceli
;
Steven Welch
;
Kyu-Tae Sun
;
Taeddy Kim
;
Jin-Moo Byun
;
Sang-Hoon Jung
;
Moo-Young Seo
;
Hyun-Sok Kim
;
Dong-Gyu Park
;
Jong-Mun Jeong
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
OCD;
Scatterometry;
CD control;
Target size;
DRAM;
In-cell metrology;
SADP;
pitch walking;
88.
Root Cause Analysis of Overlay metrology excursions with Scatterometry overlay technology (SCOL)
机译:
散射测量覆盖技术(SCOL)覆盖物质偏移的根本原因分析
作者:
Karsten Gutjahr
;
Dongsuk Park
;
Yue Zhou
;
Winston Cho
;
Ki Cheol Ahn
;
Patrick Snow
;
Richard McGowan
;
Tal Marciano
;
Vidya Ramanathan
;
Pedro Herrera
;
Tal Itzkovich
;
Janay Camp
;
Michael Adel
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
SCOL;
Diffraction based overlay;
Root Cause Analysis;
overlay;
target design;
accuracy;
litho metrology;
89.
Triple AIM Evaluation and Application in Advanced Node
机译:
在高级节点中的三重目标评估和应用
作者:
Gary Ch Wang
;
En Chuan Lio
;
Yuting Hung
;
Charlie Chen
;
Sybil Wang
;
Tang Chun Weng
;
Bill Lin
;
Chun Chi Yu
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Overlay;
Accuracy;
Triple AIM;
Data average;
Process monitor;
90.
Highly sensitive focus monitoring technique based on illumination and target co-optimization
机译:
基于照明和目标共同优化的高敏感聚焦监测技术
作者:
Myungjun Lee
;
Mark D. Smith
;
Pradeep Subrahmanyan
;
Ady Levy
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Focus monitoring technique;
Off-axis illumination;
Process control;
Focus variation;
and Pattern placement error (PPE);
Non-telecentricity;
91.
Non-contact distance measurement and prolometry using thermal near-field radiation towards a high resolution inspection and metrology solution
机译:
非接触距离测量和胃肠测量使用热近场辐射朝向高分辨率检查和计量溶液
作者:
Roy Bijster
;
Hamed Sadeghian
;
Fred van Keulen
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
thermal microscopy;
near field;
high resolution inspection;
92.
An evaluation of edge roll off on 28nm FDSOI (Fully Depleted Silicon on Insulator) product
机译:
在28nm FDSOI(绝缘体上完全耗尽硅)产品的边缘滚动评价
作者:
M. Gatefait
;
B. Le-Gratiet
;
C. Prentice
;
T. Hasan
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Edge roll off;
scanner levelling;
NXT:1950i;
FDSOI;
93.
Modeling ellipsometric measurement of novel 3D structures with RCWA and FEM simulations
机译:
用RCWA和FEM模拟建模新型3D结构的椭圆测量
作者:
Samuel OMullane
;
Nick Keller
;
Alain C. Diebold
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Ellipsometry;
scatterometry;
plasmonics;
RCWA;
FEM;
94.
Free surface BCP self-assembly process characterization with CDSEM
机译:
使用CDSEM自由表面BCP自组装过程表征
作者:
Shimon Levi
;
Yakov Weinberg
;
Ofer Adan
;
Michael Klinov
;
Maxime Argoud
;
Guillaume Claveau
;
Raluca Tiron
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
rearrangement;
segmentation;
temperatures;
95.
A new approach to process control using Instability Index
机译:
使用不稳定索引来处理控制的新方法
作者:
Jeffrey Weintraub
;
Scott Warrick
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2016年
关键词:
Statistical process control;
run length distribution;
average run length;
geometric approximation to run length distribution;
sampling distribution of observed average run length;
automated instability detection;
96.
Enabling Quantitative Optical Imaging for In-die-capable Critical Dimension Targets
机译:
使能功能的临界尺寸目标的定量光学成像
作者:
B.M. Barnes
;
M.-A. Henn
;
M. Y. Sohn
;
H. Zhou
;
R. M. Silver
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
optical metrology;
electromagnetic simulation;
normalized sensitivities;
parametric uncertainties;
phase sensitive measurements;
through-focus three-dimensional field;
97.
Co-optimization of RegC~? and TWINSCAN~(TM) corrections to improve the intra-field on-product overlay performance
机译:
Regc的共同优化〜?和Twinscan〜(TM)更正,以改善现场内覆盖性能
作者:
Kujan Gorhad
;
Ofir Sharoni
;
Vladimir Dmitriev
;
Avi Cohen
;
Richard van Haren
;
Christian Roelofs
;
Hakki Ergun Cekli
;
Emily Gallagher
;
Philippe Leray
;
Dirk Beyer
;
Thomas Trautzsch
;
Steffen Steinert
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
Registration Error;
Overlay;
Reticle;
Mask;
RegC~?;
LIS;
Fingerprint Correction;
Scanner actuators;
OPO;
98.
Recipe Creation for Automated Defect Classification with a 450mm Surface Scanning Inspection System Based on the Bidirectional Reflectance Distribution Function of Native Defects
机译:
基于原生缺陷的双向反射率分布函数,使用450mm表面扫描检测系统自动缺陷分类的配方创建
作者:
Nithin Yathapu
;
Steve McGarvey
;
Justin Brown
;
Alexander Zhivotovsky
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2016年
关键词:
feasibility;
Automated;
expenditure;
99.
HVM Capabilities of CPE Run-to-Run Overlay Control
机译:
CPE运行到运行覆盖控制的HVM功能
作者:
Lokesh Subramany
;
Woong Jae Chung
;
Karsten Gutjhar
;
Miguel Garcia-Medina
;
Christian Sparka
;
Lipkong Yap
;
Onur Demirer
;
Ramkumar Karur-Shanmugan
;
Brent Riggs
;
Vidya Ramanathan
;
John C. Robinson
;
Bill Pierson
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
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2015年
关键词:
Overlay;
CPE;
Residual;
Scanner;
Overlay Control;
Field-by-Field Correction;
Correction per Exposure;
Baseline control;
K-T Analyzer;
100.
Overlay Accuracy Investigation for advanced memory device
机译:
高级内存设备覆盖准确性调查
作者:
Honggoo Lee
;
Byongseog Lee
;
Sangjun Han
;
Myoungsoo Kim
;
Wontaik Kwon
;
Sungki Park
;
DongSub Choi
;
Dohwa Lee
;
Sanghuck Jeon
;
Kangsan Lee
;
Roie Volkovich
;
Tal Itzkovich
;
Eitan Herzel
;
Mark Wagner
;
Mohamed ElKodadi
会议名称:
《SPIE Conference on Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography》
|
2015年
关键词:
Overlay;
Accuracy;
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