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Conference on optical/laser microlithography
Conference on optical/laser microlithography
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1.
Experiment and simulation of sub-0.25-um resist processes for 193-nm lithography
机译:
193-NM光刻亚0.25μm抗蚀剂工艺的实验与仿真
作者:
Roderick R. Kunz
;
Mark A. Hartney
;
Richard W. Otten
;
Eytan Barouch
;
Uwe Hollerbach
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
2.
Three-dimensional lithography cases for exploring technology solutions and benchmarking simulators
机译:
用于探索技术解决方案和基准模拟器的三维光刻案例
作者:
John J. Helmsen
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
3.
Design and analysis of a high-NA projection optical system for 0.35-um deep-UV lithography
机译:
0.35μm深紫色光刻的高NA投影光学系统的设计与分析
作者:
Andrew V. Hill
;
James E. Webb
;
Anthony R. Phillips
;
James E. Connors
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
4.
Cost/benefit analysis of mix-and-match lithography for production of half-micron devices
机译:
用于生产半微米器件的混合和匹配光刻的成本/效益分析
作者:
John G. Maltabes
;
Mark Hakey
;
Alan L. Levine
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
5.
TAR processing for CD control in I-line and 248-nm lithography
机译:
I-LINE和248-NM光刻中CD控制的TAR处理
作者:
Christopher F. Lyons
;
Nicholas K. Eib
;
Marina Plat
;
Gary T. Spinillo
;
Kevin M. Welsh
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
6.
Polarization effect of illumination light
机译:
照明光的极化效果
作者:
Yasuyuki Unno
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
7.
Performance of a 0.5 NA broadband DUV step-and-scan system
机译:
0.5 NA宽带DUV步进和扫描系统的性能
作者:
Mark W. Barrick
;
Doug Bommarito
;
Karey L. Holland
;
Katherine C. Norris
;
Bob Patterson
;
Yumiko Takamori
;
Joseph Vigil
;
Timothy Wiltshire
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
8.
Three-dimensional resist profile simulation
机译:
三维抗蚀剂仿真
作者:
Masaya Komatsu
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
9.
Phase-shifting mask topography effects on lithographic image quality
机译:
相移掩模形貌对光刻图像质量的影响
作者:
Christophe Pierrat
;
Alfred K. Wong
;
Sheila Vaidya
;
M.F. Vernon
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
10.
Aerial image-based design of rim phase-shift masks with annular illumination
机译:
基于空中图像的边缘相移掩模设计与环形照明
作者:
David M. Newmark
;
Joseph G. Garofalo
;
Sheila Vaidya
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
11.
Vector aerial image with off-axis illumination
机译:
矢量空中图像与轴轴照明
作者:
Eytan Barouch
;
Daniel C. Cole
;
Uwe Hollerbach
;
Steven A. Orszag
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
12.
Advanced lithography simulation tools for development and analysis of wide-field high numerical aperture projection optical systems
机译:
高级光刻仿真工具,用于开发和分析宽野高数字孔径投影光学系统
作者:
James E. Connors
;
Todd Kos
;
Robert C. Pack
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
13.
New resolution-enhancing mask for projection lithography based on in-situ off-axis illumination
机译:
基于原位离轴照明的投影光刻的新分辨率增强掩模
作者:
Rainer Pforr
;
Rik Jonckheere
;
Wolfgang Henke
;
Kurt Ronse
;
Patrick Jaenen
;
Ki-Ho Baik
;
Luc Van den hove
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
14.
Lithographic performance of a new generation i-line optical system: a comparative analysis
机译:
新一代I线光学系统的光刻性能:比较分析
作者:
Gary E. Flores
;
Warren W. Flack
;
Lynn Dwyer
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
15.
Computer-aided phase-shift mask design with reduced complexity
机译:
计算机辅助相移掩模设计,复杂性降低
作者:
Yong Liu
;
Avideh Zakhor
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
16.
0.35-micron lithography using off-axis illumination
机译:
使用偏离轴照明的0.35微米光刻
作者:
Paul F. Luehrmann
;
Peter van Oorschot
;
Hans Jasper
;
Sunny Stalnaker
;
Steve K. Brainerd
;
J.B. Rolfson
;
Linard Karklin
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
17.
Isolated-grouped linewidth bias on SVGL Micrascan
机译:
SVGL MICRASCAN的孤立分组的线宽偏见
作者:
Vasanti A. Deshpande
;
Karey L. Holland
;
Alexander Hong
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
18.
Vector diffraction analysis of phase-mask imaging in photoresist films
机译:
矢量衍射分析光致抗蚀剂膜中的相膜成像
作者:
Donis G. Flagello
;
Alan E. Rosenbluth
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
19.
Photoresist thin-film effects on alignment process capability
机译:
光刻胶薄膜效应对准过程能力
作者:
Gary E. Flores
;
Warren W. Flack
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
20.
Depth of focus and resolution enhancement of i-line and deep-UV lithography using annular illumination
机译:
使用环形照明的I-Line和Deep-UV光刻的深度和分辨率增强
作者:
William N. Partlo
;
Paul J. Tompkins
;
Paul G. Dewa
;
Paul F. Michaloski
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1993年
21.
High-spectral-brightness operation of narrow-linewidth KrF laser for microlithography
机译:
用于微光刻的窄线宽KRF激光器的高光谱亮度操作
作者:
Alexander N. Novoselov
;
Boris A. Konstantinov
;
Victor G. Nikiforov
;
Boris F. Trinchuk
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
22.
Small-field projection imaging system for deep-UV development
机译:
深紫外线开发的小场投影成像系统
作者:
Richard F. Hollman
;
David J. Elliott
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
23.
Using behavior modeling for proximity correction
机译:
使用行为建模进行邻近校正
作者:
Michael L. Rieger
;
John P. Stirniman
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
24.
Multiple-exposure interferometric lithography
机译:
多曝光干涉式光刻
作者:
Saleem H. Zaidi
;
Steven R. Brueck
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
25.
Attenuating phase-shift mask by thermal oxidation of chrome
机译:
通过铬的热氧化衰减相移掩模
作者:
David S. OGrady
;
Phil B. Wilber
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
26.
High-repetition-rate lasers for advanced DUV exposure tools
机译:
高级DUV曝光工具的高重复速率激光器
作者:
Ulrich Rebhan
;
Rainer Paetzel
;
Hermann Buecher
;
Michael W. Powell
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
27.
Scattered light in photolithographic lenses
机译:
光刻镜片中的散射光
作者:
Joseph P. Kirk
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
28.
Fast proximity correction with zone sampling
机译:
与区域采样快速校正
作者:
John P. Stirniman
;
Michael L. Rieger
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
29.
Phase-shifter edge effects on attenuated phase-shifting mask image quality
机译:
移相器边缘对减振相移掩模图像质量的影响
作者:
Alfred K. Wong
;
Richard A. Ferguson
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
30.
Combination of transmission and absorption mask for 0.3-um lithography
机译:
0.3-UM光刻的变速器和吸收掩模的组合
作者:
Lothar Bauch
;
Joachim J. Bauer
;
M.Boettcher Institut fuer Halbleiterphysik Frankfurt (Oder) GmbH Frankfurt (Oder) Federal Republic of Germany
;
Ulrich A. Jagdhold
;
U.Haak Institut fuer Halbleiterphysik Frankfurt (Oder) GmbH Frankfurt (Oder) Federal Republic of Germany
;
Walter Spiess
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
31.
Experimental study of phase-shifting mask defect detection using phase-shifting interferometry
机译:
相移干涉测量相移掩模缺陷检测的实验研究
作者:
Yiping Xu
;
Donald K. Cohen
;
John M. OConnor
;
Kuo-Ching Liu
;
Martin G. Cohen
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
32.
Polarization and edge effects in photolithographic masks using three-dimensional rigorous simulation
机译:
使用三维严格仿真的光刻掩模中的极化和边缘效应
作者:
Alfred K. Wong
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
33.
Comparison of deep-UV reflection control methods for interconnect layers
机译:
互连层深紫外反射控制方法的比较
作者:
Joseph J. Ferrari
;
Sasha K. Dass
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
34.
New phase-shifting method for high-resolution microlithography
机译:
高分辨率微光刻的新相移方法
作者:
Motoi Kido
;
Gabor Szabo
;
Joseph R. Cavallaro
;
William L. Wilson
;
Frank K. Tittel
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
35.
Practical 0.35-um i-line lithography
机译:
实用0.35-UM I-LINE光刻
作者:
Paul F. Luehrmann
;
Stefan Wittekoek
;
Steven G. Hansen
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
36.
Near-field nanofabrication with pipette-guided ArF excimer laser
机译:
近场纳米纳米制剂与移液管引导ARF准分子激光器
作者:
Michael Rudman
;
Anatoly Shchemelinin
;
Klony Lieberman
;
Aaron Lewis
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
37.
Metal layer resist process optimization by design of experiment
机译:
通过实验设计金属层抗蚀剂处理优化
作者:
Gwo-Yuh Shiau
;
Hao-Tien D. Lee
;
Hwang-Kuen Lin
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
38.
Zone-by-zone optimization of the dummy diffraction mask with auxiliary phase gratings
机译:
带辅助相位光栅的虚设衍射掩模的逐个区域优化
作者:
Yong-Ho Oh
;
Byung-Sun Park
;
Hai Bin Chung
;
Sang-Soo Choi
;
Seong-Hak Choi
;
Hyung J. Yoo
;
Sin-Chong Park
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
39.
Programming of phase-shift mask simulation software and some important aspects
机译:
相移掩模仿真软件的编程和一些重要方面
作者:
Long Que
;
Guoliang Sun
;
Boru Feng
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
40.
Innovative image formation: coherency controlled imaging
机译:
创新的图像形成:一致性控制成像
作者:
Koichi Matsumoto
;
Naomasa Shiraishi
;
Yuichiro Takeuchi
;
Shigeru Hirukawa
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
41.
Impact of attenuated mask topography on lithographic performance
机译:
减毒掩模地形对光刻性能的影响
作者:
Richard A. Ferguson
;
William J. Adair
;
David S. OGrady
;
Ronald M. Martino
;
Antoinette F. Molless
;
Brian J. Grenon
;
Alfred K. Wong
;
Lars W. Liebmann
;
Alessandro Callegari
;
Douglas C. LaTulipe
;
Donna M. Sprout
;
Christopher M. Seguin
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
42.
Fundamental analysis on fabrication of 256-MB DRAM using phase-shift mask technology
机译:
使用相移掩模技术制造256 MB DRAM的根本分析
作者:
Young-Mog Ham
;
Young-Sik Kim
;
Ik-Boum Hur
;
Ki-Yeop Park
;
Hung-Eil Kim
;
Dong-Joon Ahn
;
Soo-Han Choi
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
43.
Correcting for proximity effect widens process latitude
机译:
纠正邻近效果扩大了过程纬度
作者:
Richard C. Henderson
;
Oberdan W. Otto
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
44.
Reticle specific compensations to meet production overlay requirements for 64 MB and beyond
机译:
符合64 MB及以后的生产覆盖要求的标题特定补偿
作者:
Richard Rogoff
;
Syi-Sying Hong
;
Doug Schramm
;
Greg Espin
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
45.
Focusing and leveling based on wafer surface profile detection with interferometry for optical lithography
机译:
基于晶片表面轮廓检测的光学光刻的干涉测量测量和平整
作者:
Masahiro Watanabe
;
Yoshitada Oshida
;
Yasuhiko Nakayama
;
Minoru Yoshida
;
Ryuichi Funatsu
;
Akira Fujii
;
Taku Ninomiya
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
46.
Deep-UV photolithography cluster performance
机译:
深紫色的光刻簇性能
作者:
Noreen Harned
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
47.
Enhanced lumped parameter model for photolithography
机译:
增强的光刻参数模型
作者:
Chris A. Mack
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
48.
Phase-shift mask issues for 193-nm lithography
机译:
193-nm光刻的相移掩模问题
作者:
Bruce W. Smith
;
Suleyman Turgut
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
49.
Overcoming global topography and improving lithographic performance using a transmittance controlled mask
机译:
使用透射率控制的面具克服全球地形和改善光刻性能
作者:
Woo-Sung Han
;
Chang-Jin Sohn
;
Ho-Young Kang
;
Young-Bum Koh
;
Moon-Yong Lee
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
50.
Substrate contamination effects in the processing of chemically amplified DUV photoresists
机译:
基质污染在化学扩增的DUV光致抗蚀剂处理中的污染效应
作者:
John L. Sturtevant
;
Steven J. Holmes
;
Stephen E. Knight
;
Denis Poley
;
Paul Rabidoux
;
Linda Somerville
;
Thomas L. McDevitt
;
Anthony Stamper
;
Ed Valentine
;
Willard E. Conley
;
Ahmad D. Katnani
;
James T. Fahey
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
51.
Optimizing numerical aperture and partial coherence to reduce proximity effect in deep-UV lithography
机译:
优化数值孔径和部分相干性以降低深紫色光刻中的邻近效应
作者:
Raymond A. Cirelli
;
Eric L. Raab
;
Robert L. Kostelak
;
Sheila Vaidya
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
52.
SiOxNy:H high-performance antireflective layer for current and future optical lithography
机译:
SiOxny:H高性能抗反射层,用于当前和未来的光学光刻
作者:
Tohru Ogawa
;
Hiroyuki Nakano
;
Tetsuo Gocho
;
Toshiro Tsumori
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
53.
Attenuated phase-shifting mask with a single-layer absorptive shifter of CrO CrON MoSiO and MoSiON film
机译:
通过CRO Cron Mosio和MoSiOn膜的单层吸收移位器减弱相移掩模
作者:
Masayuki Nakajima
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Junji Miyazaki
;
Haruhiko Kusunose
;
Kunihiro Hosono
;
Hiroaki Morimoto
;
Wataru Wakamiya
;
Keiichi Murayama
;
Yaichirou Watakabe
;
Katsuhiro Tsukamoto
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
54.
Quarter-micrometer i-line lithography using an alternating phase-shift mask
机译:
使用交替相移掩模的四分之一千分尺I线光刻
作者:
Hung-Eil Kim
;
Young-Sik Kim
;
Chul-Seung Lee
;
Young-Mog Ham
;
Dong-Joon Ahn
;
Soo-Han Choi
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
55.
Investigation of proximity effects for a rim phase-shifting mask printed with annular illumination
机译:
环形照明印刷边缘相移掩模的接近效应研究
作者:
David M. Newmark
;
Eric Tomacruz
;
Sheila Vaidya
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
56.
Micrascan II overlay error analysis
机译:
Micrascan II覆盖错误分析
作者:
David J. Cronin
;
Gregg M. Gallatin
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
57.
Effect of shifter edge angle and lens aberration on the pattern profile in the edge-line phase-shift method
机译:
变速器边缘角度和镜头像差在边缘线相移方法中的图案轮廓的影响
作者:
Mitsunori Nakatani
;
Hiroshi Matsuoka
;
Hirofumi Nakano
;
Kazuya Kamon
;
Kazuhiko Sato
;
Osamu Ishihara
;
Shigeru Mitsui
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
58.
Sample-3D benchmarks including high-NA and thin-film effects
机译:
样本 - 3D基准,包括高NA和薄膜效果
作者:
John J. Helmsen
;
Michael S. Yeung
;
Derek Lee
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
59.
New mask evaluation tool: the microlithography simulation microscope aerial image measurement system
机译:
新面膜评估工具:微光线仿真显微镜空中图像测量系统
作者:
Russell A. Budd
;
Derek B. Dove
;
John L. Staples
;
H.Nasse Carl Zeiss Inc. Oberkochen Federal Republic of Germany
;
W.Ulrich Carl Zeiss Inc. Oberkochen Federal Republic of Germany.
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
60.
Systematic design of phase-shifting masks
机译:
逐步偏移面具的系统设计
作者:
Yao-Ting Wang
;
Yagyensh C. Pati
;
Jen-Wei Liang
;
Thomas Kailath
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
61.
Some image modeling issues for I-line 5X phase-shifting masks
机译:
I-Line 5x相移掩模的一些图像建模问题
作者:
Gregory L. Wojcik
;
John Mould
;
Richard A. Ferguson
;
Ronald M. Martino
;
K.K. Low
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
62.
Optimization of modified illumination for 0.25-um resist patterning
机译:
0.25μm抗蚀剂图案化改进照明的优化
作者:
Keiichiro Tounai
;
Shuichi Hashimoto
;
Seiichi Shiraki
;
Kunihiko Kasama
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
63.
Experimental verification of high-numerical-aperture effects in photoresist
机译:
光致抗蚀剂中高值孔径效应的实验验证
作者:
Donis G. Flagello
;
Tom D. Milster
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
64.
I-line photoresist evaluations for contact hole performance with attenuated phase-shift reticles
机译:
具有减毒相移掩模的接触孔性能的I-LINE光致抗蚀剂评估
作者:
William L. Krisa
;
Cesar M. Garza
;
Anthony Yen
;
J.S. Shu
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
65.
Optimizing distortion for a large-field submicrometer lens
机译:
优化大场潜置镜头的失真
作者:
Shiow-Hwei Hwang
;
Bruce J. Ruff
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
66.
Process optimization for 0.35-um i-line lithography
机译:
0.35-UM I线光刻的过程优化
作者:
Cesar M. Garza
;
William L. Krisa
;
Anthony Yen
;
J.S. Shu
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
67.
Comparison of phase-shift mask types for submicrometer contact hole definition
机译:
潜水仪接触孔定义的相移掩模类型的比较
作者:
Zheng Cui
;
Brian Martin
;
Philip D. Prewett
;
Steve Johnson
;
Philip Herman
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
68.
Exposure of a halftone mask by conventional and off-axis illumination
机译:
通过常规和偏离轴照射暴露半色调掩模
作者:
Hye-Keun Oh
;
Jung-Woung Goo
;
Sug-Soon Yim
;
Tak-Hyun Yoon
;
Seung-Wook Park
;
Byung-Sub Nam
;
Ho-Young Kang
;
Cheolhung Kim
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
69.
0.5-um deep-UV photolithography manufacturing
机译:
0.5μm深紫色的光刻制造
作者:
Diana D. Dunn
;
Katherine C. Norris
;
Linda Somerville
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
70.
Effects of transparent and transmission reduction reticle defects
机译:
透明和传输减小掩模缺陷的影响
作者:
Larry S. Zurbrick
;
Steven Schuda
;
James N. Wiley
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
71.
Effective light source optimization with the modified beam for depth-of-focus enhancements
机译:
用改进的光束进行有效光源优化,用于深度焦点增强
作者:
Tohru Ogawa
;
Masaya Uematsu
;
Toshiyuki Ishimaru
;
Mitsumori Kimura
;
Toshiro Tsumori
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
72.
Recent advances of a KrF excimer laser on a plant's practical requirements
机译:
KRF准分子激光对植物实际要求的最新进展
作者:
Yukio Kobayashi
;
Takanobu Ishihara
;
Hiroaki Nakarai
;
Noritoshi Itoh
;
Tomokazu Takahashi
;
Osamu Wakabayashi
;
Hakaru Mizoguchi
;
Yoshiho Amada
;
Jun-ichi Fujimoto
;
Masahiko Kowaka
;
Yasuhiro Nozue
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
73.
Evaluation of new attenuating phase-shifting mask techniques
机译:
评估新衰减相移掩模技术的评价
作者:
Kevin D. Lucas
;
Andrzej J. Strojwas
;
K.K. Low
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
74.
Simulations on step-and-scan optical lithography
机译:
跨扫描光学光刻模拟
作者:
Joerg Bischoff
;
Wolfgang Henke
;
Jan van der Werf
;
Peter Dirksen
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
75.
Techniques for improving overlay on multilayer phase-shift masks
机译:
用于在多层相移掩模上改善叠加的技术
作者:
Henry C. Hamaker
;
Michael J. Bohan
;
Peter D. Buck
;
Claudia H. Geller
;
Takashi Makiyama
;
Francis P. Mathew
;
William S. Neeland
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
76.
Estimation of attenuated phase-shifting mask fabrication latitude using an optical exposure-defocus methodology
机译:
使用光学曝光 - 散焦方法估计减毒相移掩模制造纬度
作者:
Minoru Sugawara
;
Hiroichi Kawahira
;
Keisuke Tsudaka
;
Akihiro Ogura
;
Satoru Nozawa
;
Fumikatsu Uesawa
;
Hideo Shimizu
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
77.
Optimization of optical properties for single-layer halftone masks
机译:
单层半色调面罩的光学性质优化
作者:
Shin-ichi Ito
;
Hiroaki Hazama
;
Takashi Kamo
;
Hideya Miyazaki
;
Hiroyuki Sato
;
Kenji Hayashi
;
Humiaki Shigemitsu
;
Ichiro Mori
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
78.
Comprehensive evaluation of major phase-shift mask technologies for isolated gate structures in logic designs
机译:
逻辑设计中分离栅极结构主要相移掩模技术的综合评价
作者:
Lars W. Liebmann
;
Thomas G. Newman
;
Richard A. Ferguson
;
Ronald M. Martino
;
Antoinette F. Molless
;
Mark O. Neisser
;
J. Tracy Weed
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
79.
Automated determination of CAD layout failures through focus: experiment and simulation
机译:
通过重点自动测定CAD布局故障:实验和仿真
作者:
Christopher A. Spence
;
John L. Nistler
;
Eytan Barouch
;
Uwe Hollerbach
;
Steven A. Orszag
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
80.
Comparison of I-line and deep-UV technologies for 0.35-um lithography
机译:
I-Line和Deep-UV技术对0.35-UM光刻的比较
作者:
Kevin J. Orvek
;
Joseph J. Ferrari
;
Sasha K. Dass
;
Daniel A. Corliss
;
James R. Buchanan
;
MaryAnn Piasecki
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
81.
Analysis of microlithography in an open-architecture TCAD system
机译:
开放式架构TCAD系统中的微光刻分析
作者:
Author(s): V.Axelrad Technology Modeling Associates Inc. Palo Alto CA USA
;
Victor V. Boksha
;
Y.Granik Technology Modeling Associates Inc. Palo Alto CA USA
;
Ognjen Milic
;
Juan C. Rey
;
D.Ward Technology Modeling Associates Inc. Palo Alto CA USA
;
Eduard I. Tochitsky
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
82.
1:1 catadioptric deep-UV optics with a full-circle available field
机译:
1:1具有全圈可用领域的催化深紫外线光学系统
作者:
Yudong Zhang
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
83.
Progression of overlay performance on a 0.5-NA broadband DUV wafer exposure system
机译:
0.5-NA宽带DUV晶片曝光系统覆盖性能的进展
作者:
Joseph Vigil
;
Gerald B. Elder
;
David J. Cronin
;
Stan Draskiewicz
;
Timothy J. Wiltshire
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
84.
Fabrication of phase-shifting masks employing multilayer films
机译:
采用多层薄膜的相移掩模的制造
作者:
T.C. Chieu
;
Kwang K. Shih
;
Derek B. Dove
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
85.
Determining metal interconnect imaging capability
机译:
确定金属互连成像能力
作者:
Stuart L. Brown
;
Greg A. Goodwin
;
Wayne H. Ostrout
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
86.
Large-area phase-shift mask design
机译:
大面积阶段移位面罩设计
作者:
Nicolas B. Cobb
;
Avideh Zakhor
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
87.
Interpreting cost of ownership for mix-and-match lithography
机译:
解释混合和匹配光刻的所有权成本
作者:
Alan L. Levine
;
Albert S. Bergendahl
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
88.
Aerial image of 3D phase-shifted reticle: 3D fast aerial image model
机译:
3D相移掩盖的空中图像:3D快速空中图像模型
作者:
Eytan Barouch
;
Uwe Hollerbach
;
Steven A. Orszag
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
89.
Phase-shifting masks: automated design and mask requirements
机译:
相移掩模:自动设计和掩模要求
作者:
Yagyensh C. Pati
;
Yao-Ting Wang
;
Jen-Wei Liang
;
Thomas Kailath
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
90.
Quarter-micrometer lithography system with oblique illumination and pupil filter
机译:
四分之一千米尺光刻系统,具有斜照明和瞳孔滤光片
作者:
Seiji Orii
;
Tetsuya Sekino
;
Masakatsu Ohta
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
91.
Analyzing deep-UV lens aberrations using aerial image and latent image metrologies
机译:
使用空中图像和潜像算术分析深紫色镜头像差
作者:
Eric L. Raab
;
Christophe Pierrat
;
Charles H. Fields
;
Robert L. Kostelak
;
William G. Oldham
;
Sheila Vaidya
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
92.
Automated optical proximity correction: a rules-based a
机译:
自动化光学邻近校正:基于规则的一个
作者:
Oberdan W. Otto
;
Joseph G. Garofalo
;
K.K. Low
;
Chi-Min Yuan
;
Richard C. Henderson
;
Christophe Pierrat
;
Robert L. Kostelak
;
Sheila Vaidya
;
P.K. Vasudev
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
93.
Minimization of total overlay errors when matching nonconcentric exposure fields
机译:
匹配非康性曝光字段时,最小化总覆盖错误
作者:
Moshe E. Preil
;
Terry M. Manchester
;
Anna M. Minvielle
;
Robert J. Chung
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
94.
Improvement of the focus exposure latitude using optimized illumination and mask design
机译:
使用优化照明和面罩设计改进焦点曝光纬度
作者:
Rainer Pforr
;
Kurt Ronse
;
Patrick Jaenen
;
Rik Jonckheere
;
Luc Van den hove
;
Peter van Oorschot
;
Paul F. Luehrmann
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
95.
Wide-field variable NA lens analysis for high-volume 0.5-um manufacturing
机译:
高卷0.5官制造的宽场变量NA镜头分析
作者:
Paul W. Ackmann
;
Stuart L. Brown
;
Richard Edwards
会议名称:
《Conference on optical/laser microlithography》
|
1994年
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