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International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings
International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings
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1.
Reordering of implanted amorphous Si layers with low temperature RTA
机译:
重新排序具有低温RTA的植入无晶硅Si层
作者:
Nambu Y.
;
Shibata S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
2.
Formation of shallow P-type layers by dual-implantation of boron and hydrogen ions
机译:
通过双植入硼和氢离子的浅p型层形成
作者:
Yokota K.
;
Terada K.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
3.
A new dose controller for the genus 1510/1520/Kestrel MeV ion implanters
机译:
Genus 1510/1520 / Kestrel MeV离子注入机的新剂量控制器
作者:
Richards S.
;
Cook B.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
4.
Protein adsorption on titanium oxide films synthesized by ion beam assisted deposition
机译:
通过离子束辅助沉积合成的钛氧化钛膜对氧化钛膜的吸附
作者:
Feng Zhang
;
Xianghui Wang
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
5.
Simultaneous ion beam deposition of positive and negative ions for the production of Au-N systems
机译:
阳性和负离子的同时离子束沉积用于生产AU-N系统
作者:
Heck C.
;
Tsubouchi N.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
6.
The effect of implant species and doping level on cobalt silicide contact formation on ultra-shallow junctions
机译:
植入物种和掺杂水平对超浅线钴硅化物接触形成的影响
作者:
Osburn C.M.
;
Ishida E.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
7.
Fullerene ion (C/sub 60//sup +/) implantation in GaAs100 substrate
机译:
GaAs 100衬底中的富勒烯离子(C / Sub 60 // Sup + /)植入
作者:
Nishihara T.
;
Katsumata H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
8.
Simulation of plasma-immersed implantation of trenches
机译:
仿真灌溉沟槽的浸渍植入
作者:
Paulus M.
;
Rauschenbach B.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
9.
3-dimensional implantation profiles: The spatial distribution of Nd in Si
机译:
三维植入型材:Si中Nd的空间分布
作者:
Fink D.
;
Muller M.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
10.
Sputter rate change and surface roughening during oblique and normal incidence O/sub 2//sup +/ bombardment of silicon, with and without oxygen flooding
机译:
倾斜和正常入射期间的溅射率变化和表面粗糙度O / Sub 2 // Sup + /轰击硅,有和没有氧气泛滥
作者:
Magee C.W.
;
Mount G.R.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
11.
A new developed in-line dose monitor
机译:
一个新的开发的在线剂量监测器
作者:
Hisamune T.
;
Niikura K.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
12.
Ion bombardment of organic materials and its potential application
机译:
离子轰击有机材料及其潜在应用
作者:
Biederman H.
;
Slavinska D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
13.
The role of extended defects on the formation of ultra-shallow junctions in ion implanted /sup 11/B/sup +/, /sup 49/BF/sub 2/, /sup 75/As/sup +/ and /sup 31/P/sup +/
机译:
延长缺陷对离子注入/ sup 11 / b / sup + /,/ sup 49 / bf / sub 2 /,/ sup 75 / As / sup + /和/ sup 31 /的延伸缺陷在形成超浅结的作用p / sup + /
作者:
Downey D.F.
;
Jones K.S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
14.
A history-mainly about ion implantation equipment since 1984
机译:
历史 - 主要是自1984年以来的离子植入设备
作者:
Rose P.H.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
15.
A technique for the production of multiple, large, mass analysed ribbon ion beams
机译:
一种用于生产多重,大质量分析的带子离子束的技术
作者:
Aitken D.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
16.
SIMS characterization of ion implanted materials: current status and future opportunities
机译:
SIMS的离子植入材料特征:当前状态和未来机会
作者:
Corcoran S.F.
;
Hunter J.L.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
17.
Author Index
机译:
作者索引
作者:
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
18.
Author Index
机译:
作者索引
作者:
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
19.
Contents
机译:
内容
作者:
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
20.
Progress in computer simulation for ion-solid interaction
机译:
离子固体相互作用计算机仿真进展
作者:
Yamamura Y.
;
Kenmotsu T.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
21.
Progress in ion implantation technology for advanced ULSI device fabrication
机译:
高级Ulsi器件制造中的离子植入技术进展
作者:
Sato S.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
22.
Ion beam processing for silicon-based light emission
机译:
基于硅的光发射的离子束处理
作者:
Skorupa W.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
23.
Progress in device processing for advanced ULSI-impact on lithography
机译:
对光刻的高级Ulsi-Impact的设备处理进展
作者:
Saitou N.
;
Institute of Electric and Electronic Engineer
会议名称:
《International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings》
|
1998年
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