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Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.
Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.
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1.
Study of natural oxidation of ultra-thin aluminum layers with in-situ resistance measurement
机译:
原位电阻法研究超薄铝层的自然氧化
作者:
C. Fery
;
W.E. Bailey
;
K. Yamada
;
S.X. Wang
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
2.
Remote true temperature pyrometry of Si wafers: theoretical and practical considerations
机译:
硅晶片的远程真实温度高温测定法:理论和实践考虑
作者:
E. Glazman
;
A. Glazman
;
A. Thon
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
3.
Modeling and validation of sensor and actuator dynamics for, and real-time feedback control of thermal chlorine etching of gallium arsenide
机译:
用于砷化镓热氯蚀刻的传感器和执行器动力学建模以及实时反馈控制
作者:
I. G. Rosen
;
T. Parent
;
R. Mancera
;
P. Chen
;
A. Madhukar
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
4.
Modeling and real-time process monitoring of organometallic chemical vapor deposition of iii-v phosphides and nitrides at low and high pressures
机译:
在低压和高压下对iii-v磷化物和氮化物进行有机金属化学气相沉积的建模和实时过程监控
作者:
K.J. Bachmann
;
B.H. Cardelino
;
C.E. Moore
;
C.A. Cardelino
;
N. Sukidi
;
S. Mccall
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
5.
In situ growth studies of artificial layered (ba,sr,ca)cuo_2 on quasi-ideal SrTiO_3 substrates by high pressure rheed
机译:
高压大麦在准理想SrTiO_3基体上原位生长(ba,sr,ca)cuo_2人工层的研究
作者:
Gertjan Koster
;
Guus J.H.M. Rijnders
;
Dave H.A. Blank
;
Horst Rogalla
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
6.
Combined spectroscopic ellipsometry and ion beam surface analysis for in-situ real-time characterization of complex oxide film growth
机译:
椭圆偏振光谱法和离子束表面分析相结合,用于实时实时表征复杂氧化物膜的生长
作者:
A.H. Mueller
;
Y. Gao
;
E.A. Irene
;
O. Auciello
;
A.R. Krauss
;
J.A. Schultz
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
7.
In-situ optical characterization of titanium nitride thin films for applications in microelectronics
机译:
用于微电子学的氮化钛薄膜的原位光学表征
作者:
P. Patsalas
;
S. Logothetidis
;
C.A. Dimitriadis
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
8.
In-situ observation of uv/ozone oxidation of silicon using spectroscopic ellipsometry
机译:
椭圆偏振光谱法原位观察硅的紫外/臭氧氧化
作者:
T. Saitoh
;
D. Kobayashi
;
D. Kimura
;
K. Asai
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
9.
In-situ spectroscopy of ion-induced photon emission during metal manoparticle formation in silica glass with high-flux Cu implantation
机译:
高通量铜注入的石英玻璃中金属微粒形成过程中离子诱导光子发射的原位光谱
作者:
Thi Thi Lay
;
H. Amekura
;
Y. Takeda
;
n. Kishimoto
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
10.
In situ spectroscopic elipsometry studies of the interaction process of ethene with Si surfaces during SiC formation
机译:
SiC形成过程中乙烯与Si表面相互作用过程的原位分光光度法研究
作者:
T. Wohner
;
Th. Stauden
;
V. Cimalla
;
G. Eichhorn
;
J.A. Schaefer
;
J. Pezoldt
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
11.
In-situ real-time ellipsometry study of dynamic processes of YBa_xCu_3O_(7-x) thin films
机译:
YBa_xCu_3O_(7-x)薄膜动力学过程的原位实时椭圆仪研究
作者:
Y. Gao
;
A.H. Mueller
;
E.A. Irene
;
O. Auciello
;
A.R. Krauss
;
J.A. Schultz
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
12.
In situ design of experiments for a reactive ion etching process
机译:
反应性离子蚀刻工艺的实验原位设计
作者:
Cecilia G. Galarza
;
Pete Klimecky
;
Pramod P. Khargonekar
;
Fred L. Terry
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
13.
Real-time x-ray scattering study of sputter-deposited LaNiO_3 thin films on Si substrates
机译:
硅衬底上溅射沉积LaNiO_3薄膜的实时X射线散射研究
作者:
Hsin-Yi Lee
;
Chih-Hao Lee
;
Keng S. Liang
;
Tai-Bor Wu
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
14.
Real tme characterization of non-ideal surfaces and thin film growth by advanced elipsometric spectroscopies
机译:
先进的椭偏光谱法对非理想表面和薄膜生长的真实tme表征
作者:
R. W. Colins
;
P. I. Rovira
;
A. S. Ferlauto
;
Joohyun Koh
;
Ilsin An
;
J. A. Zapien
;
R. Meeier
;
C. R. Wronski
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
15.
Real-time monitoring by spectroscopic ellipsometry and desorption mass spectroscopy during molecular beam epitaxy of AlGaAs/GaAs at high substrate temperatures
机译:
AlGaAs / GaAs分子束外延期间在高衬底温度下通过椭圆偏振光谱和解吸质谱进行实时监控
作者:
W. T. Taferner
;
K. Mahalingam
;
D. L. Dorsey
;
K. G. Eyink
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
16.
Real-time spectroscopic ellipsometry study of the thermal cleaning process for silicon epitaxial growth by uhv-cvd
机译:
通过UHV-CVD对硅外延生长进行热清洗的实时光谱椭圆仪研究
作者:
K. Nozawa
;
K. Katayama
;
Y. Kanzawa
;
G. Sugahara
;
T. Saitoh
;
M. Kubo
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
17.
Modeling the evolution of ellipsometric data during the thermally induced Pt-silicide formation: activation energies and prefactors
机译:
热诱导铂硅化物形成过程中椭偏数据演变的模型:活化能和前置因子
作者:
L. Ley
;
T. Stark
;
M. Hundhausen
;
H. Gruenleitner
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
18.
Micromechanical thin-film characterization
机译:
微机械薄膜表征
作者:
M. Scherge
;
O. Mollenhauer
;
F. Spiller
;
J. A. Schaefer
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
19.
In situ, real-time studes of fim growth processes using ion scattering and direct recoil spectroscopy techniques
机译:
使用离子散射和直接反冲光谱技术对fim生长过程进行实时现场研究
作者:
V.S. Smentkowski
;
A. R. Krauss
;
O. Auciello
;
J. Im
;
D.M. Gruen
;
J. Holecek
;
K. Waters
;
J. A. Schultz
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
20.
In situ diagnostics of methane/hydrogen plasma interactions with Si(100)
机译:
甲烷/氢等离子体与Si(100)相互作用的原位诊断
作者:
H. L. Duan
;
Stacey F. Bent
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
21.
In-situ high temperature optical microscopic observations of crystalization mechanism in NdBa2Cu_3O_x
机译:
NdBa2Cu_3O_x晶化机理的原位高温光学显微镜观察
作者:
D.K. Aswal
;
M. Shinmura
;
Y. Hayakawa
;
M. Kumagawa
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
22.
Manufacturablelarge area DdS thin films for solar cell applications monitored with optical emission spectroscopy
机译:
可制造的大面积DdS薄膜,用于通过光发射光谱法监控的太阳能电池应用
作者:
L. Wang
;
I. Eisgruber
;
R. Hollingsworth
;
C. DeHart
;
T. Wangensteen
;
R. E. Treece
;
P. Bhat
;
W. N. Shafarman
;
Robert W. Birkmire
;
T. J. Gillespie
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
23.
Extension of multichannel spectroscopic ellipsometry into the ultraviolet for real time characterization of the growth of wide bandgap materials from 1.5 to 6.5 eV
机译:
将多通道椭圆偏振光谱仪扩展到紫外线中,以实时表征1.5到6.5 eV的宽带隙材料的生长
作者:
J. A. Zapien
;
R. W. Collins
;
R. Meesier
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
24.
In-situ real time studies of nickel silicide formation
机译:
硅化镍形成的原位实时研究
作者:
M. Tinani
;
E.A. Irene
;
Y.Z. Hu
;
S.P. Tay
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
25.
In-Situ spectroscopic ellipsometry and optical emission studies of cf_4/o_2 plasma etching of silicon nitride
机译:
氮化硅的cf_4 / o_2等离子体蚀刻的原位光谱椭圆偏振法和光发射研究
作者:
T. Parent
;
J. Tie
;
A. Madhukar
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
26.
In situ etch rate measurements by alpha-particle energy loss
机译:
通过α粒子能量损失进行原位蚀刻速率测量
作者:
Y. Levy
;
A. Ballestad
;
M. Davies
;
Y. Feng
;
I. Kelson
;
W.J. Mandeville
;
V. Pacradouny
;
A. Schmalz
;
T. Tiedje
;
J.F. Young
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
27.
In-situ real-time depth profiling by elastic recoil detection and its application to ion nitriding of stainless steel
机译:
弹性反冲检测技术在现场进行实时深度剖析及其在不锈钢离子渗氮中的应用
作者:
O. Kruse
;
S. Parascandola
;
R. Groetzschel
;
W. Moeller
会议名称:
《Symposium on In Situ Process Diagnostics and Modelling held April 6-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A.》
|
1999年
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