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Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario
Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario
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1.
A COMPARISON OF COMMONALITIES AND DIFFERENCES OF SILICON-BASED THIN FILMS CVD PROCESSES FOR ULSI DEVICE TECHNOLOGY
机译:
硅基薄膜技术在硅基薄膜工艺中的共性和差异比较
作者:
Vladislav Y. Vassiliev
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
2.
EFFECT OF CARBON PREDEPOSITION ON NUCLEATION OF QUANTUM DOTS
机译:
碳沉积对量子点成核的影响
作者:
Q. Zhao
;
D.W. Greve
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
3.
Chemical Vapor Deposition of MoS_2 on and in TiN Coatings
机译:
TiN涂层及其上的MoS_2的化学气相沉积
作者:
H.Keune
;
G. Wahl
;
W. Lacom
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
4.
ATOMIC LAYER DEPOSITION OF HIGH-k OXIDES
机译:
高k氧化物的原子层沉积
作者:
Mikko Ritala
;
Kaupo Kukli
;
Marko Vehkamaeki
;
Timo Haenninen
;
Timo Hatanpaeae
;
Petri I. Raeisaenen
;
Markku Leskelae
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
5.
IMPROVEMENT OF TEMPERATURE UNIFORMITY IN RAPID THERMAL CVD SYSTEMS USING MULTIVARIABLE CONTROL
机译:
利用多变量控制改进快速热CVD系统中温度均匀性
作者:
F.B.M. Van Bilsen
;
R.M.C. De Keyser
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
6.
Simplified CMP Planarization Process Module for Shallow Trench Isolation Applications
机译:
浅沟槽隔离应用的简化CMP平面化处理模块
作者:
Kerem Kapkin
;
Martin Mogaard
;
Todd Curtis
;
Johan deRuiter
;
Claude Artufel
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
7.
SILICON FILMS MORPHOLOGY DESIGN THROUGH MULTISCALE CVD MODELING
机译:
通过多尺度CVD建模的硅膜形态学设计
作者:
M. Masi
;
C. Cavallotti
;
V. Bertani
;
S. Carra
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
8.
THREE-DIMENSIONAL COMPUTER SIMULATION OF WSi_x CVD VLSI PROCESSING - EFFECT OF OUTLET POSITIONK
机译:
WSi_x CVD超大规模集成电路工艺的三维计算机仿真-出口位置的影响
作者:
Sugawara
;
M. Kunishige
;
T. Muranushi
;
Y. K. Chae
;
Y. Shimogaki
;
H. Komiyama
;
Y. Egashira
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
9.
USE OF Ti(dpm)_2(OPr')_2 PRECURSOR TO OBTAIN TiO_2 FILM
机译:
使用Ti(dpm)_2(OPr')_ 2前驱体获得TiO_2膜
作者:
V.V. Krisyuk
;
A.E. Turgambaeva
;
I.K. Igumenov
;
V.G. Bessergenev
;
I.V.Khmelinskii
;
R.J.F.Pereira
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
10.
SYSTEMATIC APPROACH TO CONTROLLING ABNORMAL STRUCTURES GROWTH IN CVD - SIMULATION OF NODULE STRUCTURE EVOLUTION -
机译:
控制CVD中异常结构增长的系统方法-结节结构演化的模拟-
作者:
Y.Egashira
;
T.Mina
;
K.Ueyama
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
11.
VAPOR PHASE EPITAXY OF MAGNESIUM OXIDE ON SILICON USING METHYLMAGNESIUM ALKOXIDES
机译:
甲基镁烷基氧化物在硅上氧化镁的气相相表位
作者:
Sun S. Lee
;
Sung Y. Lee
;
Chang G. Kim
;
Yunsoo Kim
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
12.
THE DYNAMICS OF THIN FILM GROWTH: A MODELING STUDY
机译:
薄膜生长的动力学:模型研究
作者:
M. A. Gallivan
;
R. M. Murray
;
D. G. Goodwin
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
13.
THE PROFILE CONTROL OF n-TYPE DOPING IN LOW AND HIGH TEMPERATURE Si EPITAXY FOR HIGH FREQUENCY BIPOLAR TRANSISTORS
机译:
高频双极晶体管的低温Si高温下n型掺杂的轮廓控制
作者:
H. H. Radamson
;
B. Mohadjeri
;
B. G. Malm
;
J. V. Grahn
;
M. Oestling
;
G. Landgren
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
14.
SURFACE ADSORPTION OF WF_6 ON Si AND SiO_2 IN SELECTIVE W-CVD
机译:
选择性W-CVD中WF_6在Si和SiO_2上的表面吸附。
作者:
Yuji YAMAMOTO
;
Takashi MATSUURA
;
Junichi MUROTA
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
关键词:
adsorption;
WF_6;
SiH_4;
W-CVD;
selective growth;
15.
SURFACE ANALYSIS of Al FILM PREPARED FROM DIMETHYL-ALUMINUM-HYDRIDE
机译:
由二甲基铝氢化物制备的铝膜的表面分析
作者:
M. Sugiyama
;
H. Ogawa
;
H. Itoh
;
J. Aoyama
;
Y. Horiike
;
H. Komiyama
;
Y. Shimogaki
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
16.
SiO_2 Depostion Mechanism in Photo-Chemical Vapor Deposition Using Vacuum Ultraviolet Excimer Lamp
机译:
真空紫外准分子灯在光化学气相沉积中的SiO2沉积机理
作者:
Junichi Miyano
;
Yoshikazu Motoyama
;
Kiyohiko Toshikawa
;
Tetsurou Yokoyama
;
Hiroyuki Mutou
;
Kou Kurosawa
;
Atsushi Yokotani
;
Wataru Sasaki
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
关键词:
photo-chemical vapor deposition;
vacuum ultraviolet (VUV);
excimer lamp;
tetraethoxyorthosilicate (TEOS), SiO_2;
17.
Stability of RuO_2 Bottom Electrode and its Effect on the Ba-Sr-Ti Oxide Film Quality
机译:
RuO_2底电极的稳定性及其对Ba-Sr-Ti氧化物膜质量的影响
作者:
Youn-Jin Oh
;
Sang Heup Moon
;
Chan-Hwa Chung
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
18.
SIMULATION OF SURFACE DIFFUSION OF SILICON AND HYDROGEN ON SINGLE CRYSTAL SILICON SURFACES
机译:
单晶硅表面上硅和氢的表面扩散模拟
作者:
Sweta Somasi
;
Bamin Khomami
;
Ronald Lovett
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
19.
DETERMINATION OF ENERGY TRANSFER EFFECTS FOR MOLECULAR DECOMPOSITION
机译:
分子分解的能量转移效应的测定
作者:
Wing Tsang
;
Vladmir Mokrushin
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
20.
DEVELOPMENT OF CVD MULLITE COATINGS
机译:
CVD莫来石涂层的开发
作者:
S.N. Basu
;
V.K. Sarin
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
21.
CVD-EPITAXIAL GROWTH ON POROUS Si FOR ELTRAN~R SOI-EPI WAFERS~(TM)
机译:
ELTRAN〜R SOI-EPI WAFERS〜(TM)在多孔Si上的CVD-表观生长
作者:
Nobuhiko SATO
;
Shigeaki ISHII
;
Takao YONEHARA
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
22.
CVD OF Zr-Sn-Ti-O FOR CAPACITOR APPLICATIOS
机译:
用于电容器应用的Zr-And-Ti-O的CVD
作者:
Yoshihide Senzaki
;
Glenn B. Alers
;
Arthur K. Hochberg
;
David A. Roberts
;
John A. T. Norman
;
Robert M. Fleming
;
Henry Krautter
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
23.
Characteristics of silicon oxy-nitride thin films deposited by Electron Cyclotron Resonance Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition
机译:
电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法沉积氮氧化硅薄膜的特性
作者:
C. Simionescu
;
F. Bounasri
;
S. G. Wallace
;
H.K. Haugen
;
J.A. Davies
;
P. Mascher
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
24.
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF TITANIUM NITRIDE AND TITANIUM SILICON NITRIDE THIN FILMS FROM TETRAKIS-(DIMETHYLAMIDO)TITANIUM AND HYDRAZINE AS A CO-REACTANT
机译:
四(二甲基氨基)钛与肼作为共反应物的氮化钛和氮化硅氮化硅薄膜的化学气相沉积。
作者:
Derk A. Wierda
;
Carmela Amato-Wierda
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
25.
CVD OF MOLECULE-BASED CONDUCTORS AND MAGNETS
机译:
分子导体和磁体的CVD
作者:
LYDIE VALADE
;
DOMINIQUE DE CARO
;
HELENE CASELLAS
;
MARIO BASSO-BERT
;
CHRISTOPHE FAULMANN
;
JEAN-PIERRE LEGROS
;
PATRICK CASSOUX
;
LUCIEN Aries
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
26.
CVD OF SiC FROM CH_3SiCl_3 IN A HOT-WALL-REACTOR SYSTEM: TRANSPORT PHENOMENA AND KINETIC ASPECTS
机译:
热壁反应器系统中CH_3SiCl_3中SiC的化学气相沉积:传输现象和动力学方面
作者:
V. K. Wunder
;
N. Popovska
;
H. Gerhard
;
G. Emig
;
P. Kaufmann
;
L. Kadinski
;
F. Durst
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
27.
CVD Tungsten Via Void Minimization for Sub 0.25 μm Technology
机译:
低于0.25μm技术的通过空隙最小化的CVD钨
作者:
Asad M. Haider
;
David J. Rose
;
Jeffery R. D. Debord
;
Steven P. Zuhoski
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
关键词:
via;
contact;
CVD W;
tungsten void;
seam, metal;
interconnect;
plug fill;
28.
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND MAGNETORESISTANCE OF GRANULAR CU-CO FILMS
机译:
颗粒状Cu-CO薄膜的化学气相沉积和磁致电阻
作者:
Ilya S. Chuprakov
;
Klaus-Hermann Dahmen
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
29.
Nanocrystals Formation and Microstructure Evolution of Amorphous Si and Si_(0.7)Ge_(0.3) by Using Low Pressure Chemical Vapor Deposition
机译:
低压化学气相沉积法制备非晶态Si和Si_(0.7)Ge_(0.3)的纳米晶体及其组织演变
作者:
Tae-Sik Yoon
;
Dong-Hoon Lee
;
Jang-Yeon Kwon
;
Ki-Bum Kim
;
Seok-Hong Min
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
30.
MEASUREMENT OF THE RETARDING EFFECT OF HCL ON THE RATE OF CVD OF TITANIUMDIBORIDE
机译:
盐酸对二硼化钛化学气相沉积速率的抑制作用
作者:
Ch.-Ho Yu
;
E. Zimmermann
;
D. Neuschuetz
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
31.
INFLUENCE OF CARBON PRECURSOR ON THE GAS-PHASE CHEMISTRY OF THE Ti-C-Cl-H SYSTEM
机译:
碳前驱物对Ti-C-Cl-H体系气相化学性质的影响
作者:
Stephanie de Persis
;
Francis Teyssandier
;
Anthony H. McDaniel
;
Mark D. Allendorf
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
32.
In-situ preparation of Ti-containing Ta_2O_5-films by halide CVD
机译:
卤化物CVD原位制备含Ti的Ta_2O_5-薄膜
作者:
Katarina Forsgren
;
Anders Harsta
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
33.
KINETIC AND MECHANISTIC STUDIES OF THE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF Ti-Si-N THIN FILMS WITH Ti(NMe_2)_4 (TDMAT), NH_3, and SiH_4
机译:
Ti(NMe_2)_4(TDMAT),NH_3和SiH_4的Ti-Si-N薄膜化学气相沉积的动力学和机理研究
作者:
Edward T. Norton
;
Carmela Amato-Wierda
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
34.
KINETIC GROWTH OF AL_2O_3 THIN FILMS USING ALUMINUM DIMETHYLISOPROPOXIDE AS PRECURSOR
机译:
以铝二异丙基异丙醇为前驱体的Al_2O_3薄膜的动力学生长
作者:
D. Barreca
;
G.A. Battiston
;
R. Gerbasi
;
E. Tondello
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
关键词:
MOCVD;
Al_2O_3;
kinetics;
FT-IR;
35.
INVESTIGATIONS OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF GaN USING SYNCHROTRON RADIATION
机译:
同步加速器辐射研究GaN的化学气相沉积
作者:
Carol Thompson
;
G.B. Stephenson
;
J.A. Eastman
;
A. Munkholm
;
O. Auciello
;
M.V. Ramana Murty
;
P. Fini
;
S. P. DenBaars
;
J. S. Speck
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
36.
GROWTH KINETICS AND MECHANISTIC STUDIES OF GaN THIN FILMS GROWN BY OMVPE USING (N_3)_2Ga(CH_2)_3NMe_2 AS SINGLE SOURCE PRECURSOR
机译:
以(N_3)_2Ga (CH_2)_3NMe_2为单源前驱体的OMVPE生长GaN薄膜的生长动力学和机理研究
作者:
A. Wohlfart
;
A. Devi
;
W. Rogge
;
R. A. Fischer
;
J. Schaefer
;
J. Wolfrum
;
M. D. Allendorf
;
C.F. Melius
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
关键词:
OMVPE;
group-III nitrides;
single source precursors;
azides;
mechanistic studies;
37.
GAS-PHASE CHEMISTRY IN THE CVD OF SILICON CARBIDE: THEORETICAL STUDY OF THE REACTIONS SIH_2+CH_4, SIH_2+C_2H_4, AND SIH_2+C_2H_2
机译:
碳化硅CVD中的气相化学:SIH_2 + CH_4,SIH_2 + C_2H_4和SIH_2 + C_2H_2反应的理论研究
作者:
C. Raffy
;
M.D. Allendorf
;
E. Blanquet
;
C.F. Melius
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
38.
FACTORS AFFECTING THE AMOUNT OF CARBON IN TITANIUM CARBIDE FILMS MADE BY CVD
机译:
影响CVD法制备碳化钛薄膜中碳含量的因素。
作者:
Carmela C.Amato-Wierda
;
Kathryn E. Versprille
;
Philip Ramsey
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
39.
EVALUATION OF VARIOUS HYPOTHESES ON THE INFLUENCE OF NITROGEN ON DIAMOND GROWTH IN AN OXY-ACETYLENE TORCH REACTOR
机译:
氮假设对氧-乙炔炬反应器中金刚石生长的影响
作者:
M. Okkerse
;
M.H.J.M. de Croon
;
C.R. Kleijn
;
G.B. Marin
;
H.E.A. van den Akker
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
40.
EVALUATION OF PRECURSORS FOR THE CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION OF TIN OXIDE
机译:
氧化锡化学气相沉积的前驱物评估
作者:
A.M.B. van Mol
;
G. R. Alcott
;
M.H.J.M. de Croon
;
C.I.M.A. Spee
;
J.C. Schouten
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
41.
EVALUATION OF GAS PHASE REACTION RATE CONSTANT BY DEPOSITION PROFILE ANALYSIS FOR IN-SITU COUNTER DIFFUSION CVD
机译:
原位对流扩散CVD沉积物谱分析估算气相反应速率常数
作者:
Y.Egashira
;
H.Tanaka
;
T.Mina
;
N.Mori
;
K.Ueyama
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
42.
EFFECT OF GAS PHASE NUCLEATION ON SILICON CARBIDE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
机译:
气相成核对碳化硅化学气相沉积的影响
作者:
A.N.Vorobev
;
A.E.Komissarov
;
M.V.Bogdanov
;
S.Yu.Karpov
;
A.A.Lovtsus
;
Yu.N. Makarov
;
S.A. Lowry
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
43.
DISLOCATIONS GENERATION IN SELECTIVE AND NON-SELECTIVE SiGe EPITAXY
机译:
选择性和非选择性SiGe外延中的位移生成
作者:
C. Fellous
;
F. Romagna
;
D. Dutartre
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
44.
DIAGNOSTICS OF METALOROANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF (Ba,Sr)TiO_3 FILMS BY MICRODIS- CHARGE OPTICAL EMISSION SPECTROSCOPY
机译:
微放电光发射光谱法诊断(Ba,Sr)TiO_3薄膜的金属有机化学气相沉积
作者:
Shun Momose
;
Toshihiro Nakamura
;
Kunihide Tachibana
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
45.
A TWO-DIMENSIONAL SIMULATION MODEL FOR OXY-ACETYLENE FLAME CVD OF DIAMOND FILMS
机译:
金刚石薄膜氧乙炔火焰CVD的二维模拟模型
作者:
M. Okkerse
;
C.R. Kleijn
;
H.E.A. van den Akker
;
M.H.J.M. de Croon
;
G.B. Marin
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
46.
A STAGNATION-FLOW MOCVD REACTOR FOR INTELLIGENT DEPOSITION OF YBCO THIN FILMS
机译:
一种用于YBCO薄膜智能沉积的稳定流MOCVD反应器
作者:
A.B. Tripathi
;
D.A. Boyd
;
M.A. Gallivan
;
H.A. Atwater
;
R.M. Murray
;
D.G. Goodwin
;
L.R. Raja
;
R.J. Kee
;
J. Musolf
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
47.
A BENCHMARK SOLUTION FOR MULTI-DIMENSIONAL THERMAL CVD MODELING WITH DETAILED CHEMISTRY
机译:
具有详细化学特征的多维热CVD建模的基准解决方案
作者:
C.R. Kleijn
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
48.
MONITORING OF MOCVD FABRICATION OF LAF_3 FILMS USING THE NOVEL LA(HFAC)_3contre dot DIGLYME ADDUCT AND 'IN SITU' SYNTHESIZED LA(HFAC)_3 ANHYDROUS PRECURSOR
机译:
使用新颖的LA(HFAC)_3对映点二聚体产物和“原位”合成的LA(HFAC)_3无水前体对LAF_3膜的MOCVD制备进行监测
作者:
Guglielmo G. Condorelli
;
Ignazio L. Fragala
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
49.
MULTILAYERS FOR THE GROWTH OF HTc SUPERCONDUCTING TAPE: A FULL MOCVD APPROACH
机译:
HTc超导带生长的多层:全MOCVD方法
作者:
Raffaella Lo Nigro
;
Graziella Malandrino
;
Ignazio L. Fragala
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
50.
MOSFET EVALUATION OF ULTRACLEAN-CVD Si AND SiGe GROWN AT 550t; ON SIMOX
机译:
550t的超CVD Si和SiGe生长的MOSFET评估;在SIMOX
作者:
Kiyohisa Fujinaga
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
51.
MODELING AND SYSTEM DESIGN FOR ATMOSPHERIC PRESSURE CVD OF YSZ
机译:
YSZ大气压CVD的建模与系统设计
作者:
T. M. Besmann
;
V. G. Varanasi
;
T. L. Starr
;
T. J. Anderson
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
52.
MOCVD OF WN_x THIN FILMS USING NOVEL IMIDO PRECURSORS
机译:
使用新型IMIDO前导器对WN_x薄膜进行MOCVD
作者:
Steven W. Johnston
;
Carlos G. Ortiz
;
Omar J. Bchir
;
Yue Zhang
;
Lisa McElwee-White
;
Timothy J. Anderson
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
53.
MOCVD OF CHROMIUM CARBIDE FROM BIS-ETHYL- BENZENE-CHROMIUM
机译:
从双乙基-苯-铬中碳化铬的化学气相沉积
作者:
V. K. Wunder
;
M. Satschko
;
N. Popovska
;
H. Gerhard
;
G. Emig
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
54.
NEW LIQUID PRECURSORS FOR CVD OF METAL-CONTAINING MATERIALS
机译:
含金属材料CVD的新型液体前体
作者:
Roy G. Gordon
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
55.
LPCVD of Optical Interference Coatings for Micro-Optical Applications
机译:
用于微光学应用的光学干涉涂层的LPCVD
作者:
Mark A. George
;
Don Z. Rogers
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
56.
RUTHENIUM DOPED INDIUM PHOSPHIDE GROWTH BY LOW PRESSURE HYDRIDE VAPOR PHASE EPITAXY
机译:
低压氢化物蒸气相表观生长的D掺杂磷化铟
作者:
D. Soederstroem
;
S. Lourdudoss
;
M. Wallnaes
;
A. Dadgar
;
O. Stenzel
;
D. Bimberg
;
H. Schumann
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
57.
QUASI-THERMODYNAMIC MODELS OF SURFACE CHEMISTRY: APPLICATION TO MOVPE OF III-V TERNARY COMPOUNDS
机译:
表面化学的准热力学模型:在III-V三元化合物运动中的应用
作者:
S.Yu. Karpov
;
E.V. Yakovlev
;
R.A. Talalaev
;
Yu.A. Shpolyanskiy
;
Yu.N. Makarov
;
S.A. Lowry
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
58.
REACTIONS OF bis-(2,4-PENTANEDIONATO) M(II) (M= Ni, Cu) UNDER LOW PRESSURE CVD CONDITIONS
机译:
低压CVD条件下双-(2,4-戊二酮基)M(II)(M = Ni,Cu)的反应
作者:
C. R. Vestal
;
H. M. Sturgill
;
T.C. DeVore
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
59.
Optimization of LPCVD Nitride deposition conditions for Non Volatile Memory inter poly dielectric applications
机译:
用于非易失性存储间多晶硅介电应用的LPCVD氮化物沉积条件的优化
作者:
M.J. Teepen
;
M.A.A.M. van Wijck
;
H. Sprey
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
60.
PLASMA-ENHANCED MOCVD OF SMOOTH NANOMETERSIZED METAL/SILICON SINGLE- AND MULTILAYERFILMS
机译:
光滑纳米金属/硅单层和多层的等离子体增强化学气相沉积
作者:
F. Hamelmann
;
G. Haindl
;
A. Aschentrup
;
A. Klipp
;
U. Kleineberg
;
P. Jutzi
;
U. Heinzmann
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
61.
Thermodynamic Analysis of Selective Epitaxial Growth of Silicon
机译:
硅选择性外延生长的热力学分析
作者:
Woo-Seock Cheong
;
Joon-Ho Joung
;
Jin-Won Park
;
Dong-Joon Ahn
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
62.
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF COPPER USING (hfac)Cu~((I))DMB(3,3-dimethyl-1-butene) LIQUID PRECURSOR
机译:
(hfac)Cu〜((I))DMB(3,3-二甲基-1-丁烯)液体前体的化学气相沉积铜
作者:
Kyeong-Keun Choi
;
Shi-Woo Rhee
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
63.
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF ALUMINUM ON SILICON CARBIDE FOR THE INVESTIGATION OF THE INTERFACIAL MICROSTRUCTURE IN DISCONTINUOUSLY REINFORCED ALUMINUM
机译:
用于不连续增强铝中界面微结构研究的碳化硅在铝上的化学气相沉积
作者:
Pablo Ortiz
;
Djar Oquab
;
Constantin Vahlas
;
Ian W. Hall
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
64.
CHARACTERISATION OF TI-W-C THIN FILMS DEPOSITED BY CVD
机译:
CVD沉积的TI-W-C薄膜的表征
作者:
Carmela C. Amato-Wierda
;
Hua Xia Ji
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
65.
SIH_4 REACTION MECHANISM RESEARCH USING A FAST WAFER-ROTATING REACTOR
机译:
快速晶片旋转反应器的SIH_4反应机理研究
作者:
Yuusuke SATO
;
Naoki TAMAOKI
;
Toshimitsu OHMINE
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
66.
ULTRA THIN TiO_2 FILMS DEPOSITED BY ATOMIC LAYER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
机译:
原子层化学气相沉积法制备超薄TiO_2薄膜
作者:
Mikael Schuisky
;
Kaupo Kukli
;
Aleks Aidla
;
Jaan Aarik
;
Mikael Ludvigsson
;
Anders Harsta
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
67.
DEVELOPMENT OF GAS PHASE AND SURFACE KINETIC SCHEMES FOR THE MOCVD OF CdTe, ZnS AND ZnSe
机译:
CdTe,ZnS和ZnSe的气相气相和表面动力学方案的发展
作者:
Carlo Cavallotti
;
Valeria Bertani
;
Maurizio Masi
;
Sergio Carra
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
68.
Cosmo-Mimetic Carbon Micro-coils
机译:
仿宇宙碳微线圈
作者:
S. Motojima
;
X. Chen
;
W. In-Hwang
;
T. Kuzuya
;
M. Kohda
;
Y. Hishikawa
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
69.
Characterisation of Ta_2O_5 films prepared by ALCVD
机译:
用ALCVD法制备的Ta_2O_5薄膜的表征
作者:
Katarina Forsgren
;
Jonas Sundqvist
;
Anders Harsta
;
Kaupo Kukli
;
Jaan Aarik
;
Aleks Aidla
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
70.
BISMUTH TITANATE THIN FILMS GROWN BY HALIDE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
机译:
卤化物化学气相沉积法生长的钛酸铋薄膜
作者:
Mikael Schuisky
;
Anders Harsta
;
Sergey Khartsev
;
Alex Grishin
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
71.
Atomistic Modeling of Chemical Vapor Deposition: NO on the Si (001) (2x1) reconstructed surface
机译:
化学气相沉积的原子建模:Si(001)(2x1)重建表面上的NO
作者:
Noppawan Tanpipat
;
Jan Andzelm
;
Bernard Delley
;
Anatoli A. Korkin
;
Alexander Demkov
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
72.
ATOMIC LAYER DEPOSITION OF METAL OXIDE FILMS BY USING METAL ALKOXIDES AS AN OXYGEN SOURCE0
机译:
金属烷氧化物作为氧源的金属氧化物膜原子层沉积
作者:
PETRI.I. RAeISAeNEN
;
KAUPO KUKLI
;
ANTTI RAHTU
;
MIKKO RITALA
;
MARKKU LESKELAe
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
73.
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF LOW TRAP DENSITY SiGe QUANTUM WELL LAYERS ON SILICON
机译:
硅上低陷阱密度SiGe量子阱层的化学气相沉积
作者:
S. Kar
;
P. Zaumseil
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
74.
METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF NICKEL FILMS: INVESTIGATION OF A NEW PRECURSOR, Ni(tmen)(μ-tfa)(tfa)_2(μ-H_2O)
机译:
镍膜的金属有机化学汽相沉积:一种新的前体Ni(tmen)(μ-tfa)(tfa) _ 2(μ-H_2O)的研究
作者:
Jin-Kyu Kang
;
Francois Senocq
;
Alain Oleizes
;
Shi-Woo Rhee
;
Constantin Vahlas
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
75.
MEASUREMENT OF THE KINETICS OF THE HIGH TEMPERATURE OXIDATION OF TiCl_4
机译:
TiCl_4高温氧化动力学的测定
作者:
Ram Raghavan
;
David C. Lee
;
Deborah A. Conrad
;
Philip W. Morrison
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
76.
Reactor Scale Simulation of Metal Oxide Deposition from an Inorganic Precursor
机译:
无机前驱体中金属氧化物沉积的反应器规模模拟
作者:
J. Vernon Cole
;
Amit Nangia
;
Thodoris Mihopoulos
;
Rama Hegde
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
77.
REACTION-TRANSPORT MODELS OF THE METALORGANIC VAPOR PHASE EPITAXY OF GALLIUM NITRIDE
机译:
氮化镓的金属汽相表位反应的反应-传输模型
作者:
R.P. Pawlowski
;
C. Theodoropoulos
;
A.G. Salinger
;
H.K. Moffat
;
T.J. Mountziaris
;
J.N. Shadid
;
E.J. Thrush
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
78.
In-situ Measurement of the Decomposition of GaN OMVPE Precursors by Raman Spectroscopy
机译:
用拉曼光谱法原位测量GaN OMVPE前体的分解
作者:
Chinho Park
;
Soonae Lee
;
Jeongchan Seo
;
Min Huang
;
Timothy J. Anderson
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
79.
INTEGRATION OF A QUADRUPOLE MASS SPECTROMETER AND A QUARTZ CRYSTAL MICROBALANCE FOR 77V SITU CHARACTERIZATION OF ATOMIC LAYER DEPOSITION PROCESSES IN FLOW TYPE REACTORS
机译:
流动型反应器中原子层沉积过程的77V原位表征的四极质谱仪和石英晶体微积分的集成
作者:
Antti Rahtu
;
Mikko Ritala
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
80.
GLOBAL MODEL OF SILICON CHEMICAL VAPOR DEPOSITION IN CENTURA REACTORS
机译:
中枢反应器硅化学气相沉积的全球模型
作者:
A.S. Segal
;
A.V. Kondratyev
;
A.O. Galyukov
;
S.Yu. Karpov
;
Yu.N. Makarov
;
W. Siebert
;
P. Storck
;
S. Lowry
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
81.
GROWTH OF HEXAGONAL GaN FILMS BY MOCVD USING NOVEL SINGLE PRECURSORS
机译:
新型单前驱体通过化学气相沉积法生长六角氮化镓薄膜
作者:
Chang G. Kim
;
Seung H. Yoo
;
Joo H. Lee
;
Young K. Lee
;
Myung M. Sung
;
Yunsoo Kim
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
82.
EXPERIMENTAL AND NUMERICAL STUDY OF InGaAsP MATERIALS GROWTH KINETICS AND COMPOSITION
机译:
InGaAsP材料生长动力学和组成的实验与数值研究
作者:
O. Feron
;
M. Sugiyama
;
Y. Nakano
;
Y. Shimogaki
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
83.
EFFECT OF H_2S ON THE MICROSTRUCTURE AND DEPOSITION CHARACTERISTICS OF CHEMICALLY VAPOUR DEPOSITED A1_2O_3
机译:
H_2S对化学气相沉积A1_2O_3的微观结构和沉积特性的影响
作者:
S. Ruppi
;
A. Larsson
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
84.
NUMERICAL SIMULATION OF SILICON CARBIDE DEPOSITION IN A COLD WALL CVD REACTOR
机译:
冷壁CVD反应器中碳化硅沉积的数值模拟
作者:
G. Chaix
;
A. Dollet
;
M. Matecki
;
S. de Persis
;
Y. Wang
;
F. Teyssandier
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
85.
NOVEL MOCVD PROCESS FOR THE LOW TEMPERATURE DEPOSITION OF THE CHROMIUM NITRIDE PHASES
机译:
低温氮化铬相沉积的新型MOCVD工艺
作者:
F. Maury
;
D. Duminica
;
F. Senocq
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
86.
ACTIVATION ENERGY STUDY FOR THE NUCLEATION AND GROWTH STAGES OF Cu(TMVSXHFAC) SOURCED COPPER CVD
机译:
Cu(TMVSXHFAC)来源的铜CVD的成核和生长阶段的活化能研究
作者:
D. Yang
;
J. Hong
;
D. F. Richards
;
T. S. Cale
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
87.
MOLECULAR BEAM MASS SPECTROMETRY STUDIES OF THE THERMAL DECOMPOSITION OF TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)TITANIUM
机译:
四(二甲基氨基)钛钛热分解的分子束质谱研究
作者:
Carmela C. Amato-Wierda
;
Edward T. Norton
;
Derk A. Wierda
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
88.
MULTICOMPONENT TRANSPORT AND MIXED CONVECTION FLOWS IN CVD REACTORS
机译:
CVD反应器中的多组分传输和混合对流
作者:
Alexandre Ern
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
89.
Morphology of Carbon Micro-coils Grown by Catalytic Decomposition of Hydrocarbons
机译:
碳氢化合物催化分解生长的碳微线圈的形貌
作者:
X. Chen
;
Y. Hishikawa
;
W.-In Hwang
;
T. Kuzuya
;
S. Motojima
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
90.
MODELING PARTICLE NUCLEATION DURING THERMAL CVD OF SILICON FROM SILANE USING KINETIC MONTE CARLO SIMULATION
机译:
动力学蒙特卡洛模拟法模拟硅烷热CVD过程中硅的颗粒成核
作者:
Xuegeng Li
;
Mark T. Swihart
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
91.
MOCVD OF ALUMINOSILICATE CORROSION PROTECTIVE COATINGS
机译:
铝硅酸盐防腐涂料的MOCVD
作者:
Svetlana M. Zemskova
;
J. Allen Haynes
;
Theodore M. Besmarm
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
92.
NANOSTRUCTURES BY CVD ASSISTED METHODS USING INORGANIC PRECURSORS
机译:
使用无机前驱体的CVD辅助方法形成的纳米结构
作者:
P. Doppelt
;
R. Even
;
F. Marchi
;
V. Bouchiat
;
H. Dallaporta
;
S. Safarov
;
D. Tonneau
;
P. Hoffmann
;
F.Cicoira
;
I. Utke
;
B. Dwir
;
K.Leifer
;
E. Kapon
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
93.
LOADING EFFECTS DURING NON-SELECTIVE EPITAXIAL GROWTH OF Si AND SiGe
机译:
Si和SiGe的非选择性外延生长过程中的载荷效应
作者:
J. Pejnefors
;
S.-L. Zhang
;
J. V. Grahn
;
M. Oestling
;
T. Winzell
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
94.
SELECTIVE NUCLEATION AND AREA SELECTIVE OMCVD OF GOLD ON PATTERNED SELF-ASSEMBLED ORGANIC MONOLAYERS: A COMPARISON OF OMCVD AND PVD
机译:
图案化自组装有机单分子膜上金的选择性成核和区域选择性OMCVD:OMCVD和PVD的比较
作者:
R. A. Fischer
;
Carl Winter
;
Ulrike Weckenmann
;
Josua Kaeshammer
;
Volker Scheumann
;
Silvia Mittler
会议名称:
《》
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2000年
关键词:
selective deposition of gold;
self-assembled monolayers of dithiols;
mixed organic monolayers;
microcontact printing;
95.
Quality Improvement of SiO_2-Films by Adding Foreign Gases in Photo-Chemical Vapor Deposition
机译:
在光化学气相沉积中添加异物改善SiO_2薄膜的质量
作者:
Yoshikazu Motoyama
;
Jyun-ichi Miyano
;
Tetsurou Yokoyama
;
Kiyohiko Toshikawa
;
Tadashi Mori
;
Hiroyuki Mutou
;
Kou Kurosawa
;
Atsushi Yokotani
;
Wataru Sasaki
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
关键词:
SiO_2-films;
foreign gas;
photo-chemical vapor deposition;
Xe_2 excimer lamp;
tetraethoxyorthosilicate;
gap filling effect;
leak current characteristics;
96.
PROCESSING OF TUNGSTEN SINGLE CRYSTALS BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
机译:
化学气相沉积法制备钨单晶
作者:
R.H. Zee
;
Z. Xiao
;
H.S. Gale
;
B.A. Chin
;
L.L. Begg
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
97.
ON THE OCCURRENCE OF NON-SYMMETRIC FLOWS IN AXISYMMETRIC CVD REACTORS
机译:
对称CVD反应器中非对称流动的发生
作者:
H. van Santen
;
C.R. Kleijn
;
H.E.A. van den Akker
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
98.
PLATINUM THIN FILMS OBTAINED VIA MOCVD ON QUARTZ AND CaF_2 WINDOWS AS ELECTRODE SURFACES FOR IN SITU SPECTROELECTROCHEMISTRY
机译:
通过石英和CaF_2窗口上的MOCVD获得的铂薄膜作为原位电化学的电极表面
作者:
S. Santi
;
G. Carta
;
S. Garon
;
L. Rizzo
;
G. Rossetto
;
P. Zanella
;
D. Barreca
;
E. Tondello
会议名称:
《Fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition, May 14-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
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