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1.
TOF-SIMS: a tool for material characterization process control and improvement in a wafer fab
机译:
TOF-SIMS:用于晶圆厂材料表征过程控制和改进的工具
作者:
Paolo Fiorani
;
Texas Instruments Italia SpA
;
Avezzano AQ
;
Italy
;
G.Margutti
;
Texas Instruments Italia SpA
;
Avezzano AQ
;
Italy
;
Giuseppe Mariani
;
Texas Instruments Italia SpA
;
Avezzano AQ
;
Italy
;
S.Matarazzo
;
Texas Instruments Italia SpA
;
Avezzano AQ
;
Ital
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
2.
Technique to analyze large-area surface roughness of a wafer using TXRF
机译:
使用TXRF分析晶圆大面积表面粗糙度的技术
作者:
Brooke Noack
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Tim Z. Hossain
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
3.
Silicon wafer subsurface characterization with blue-laser/microwave and UV-laser/millimeter-wave photoconductivity techniques
机译:
利用蓝激光/微波和紫外激光/毫米波光电导技术对硅晶片进行表面表征
作者:
Yoh-Ichiro Ogita
;
Kanagawa Institute of Technology
;
Atsugi Kanagawa
;
Japan
;
Hiroshi Shinohara
;
Kanagawa Institute of Technology
;
Atsugi
;
Japan
;
Tsuyoshi Sawanobori
;
Kanagawa Institute of Technology
;
Atsugi
;
Japan
;
Masaki Kurokawa
;
Kanagawa Institute of Te
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
4.
Comparison study of lifetime measurement techniques
机译:
寿命测量技术的比较研究
作者:
Gladys G. Quinones
;
Applied Materials
;
San Jose State Univ.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Emily L. Allen
;
San Jose State Univ.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
5.
Contact potential difference methods for full wafer characterization of Si/SiO2 interface defects induced by plasma processing
机译:
接触电势差法用于晶片全刻画等离子处理引起的Si / SiO2界面缺陷
作者:
Piotr Edelman
;
Semiconductor Diagnostics
;
Inc.
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
A.Savchouk
;
Semiconductor Diagnostics
;
Inc.
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
M.Wilson
;
Semiconductor Diagnostics
;
Inc.
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Lubek Jastrzebski
;
Semiconductor Diagnostics
;
Inc.
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Jac
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
6.
Characterization and control of the laser microsoldering process for solid solder deposits using pyrometry
机译:
高温测定法对固态焊料沉积的激光微焊过程进行表征和控制
作者:
Hans-Joerg Pucher
;
Plansee TIZIT GmbH
;
Erlangen
;
Germany
;
Marc Fleckenstein
;
Univ. Erlangen-Nuernburg
;
Erlangen
;
Germany.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
7.
Basic approaches for metal-induced oxide charge on silicon wafer surfacesstudied by AC surface photovoltage techniques,
机译:
通过交流表面光电压技术研究了硅晶片表面金属诱导的氧化物电荷的基本方法,
作者:
Hirofumi Shimizu
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Tokyo
;
Japan
;
Chusuke Munakata
;
Tohoku Institute of Technology
;
Taihaku-ku Sendai
;
Japan.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
8.
Correlating EEPROM end-of-line measurements with PDM in-line charging monitoring for ion implantation
机译:
将EEPROM线下测量与PDM在线充电监控相关联以进行离子注入
作者:
Annemarie S. Bloot
;
Philips Semiconductors
;
Nijmegen
;
Netherlands
;
Edwin H. Satink
;
Philips Semiconductors
;
Nijmegen
;
Netherlands
;
Antonio Cacciato
;
Philips Semiconductors
;
Nijmegen
;
Netherlands
;
Henk Jan F. Peuscher
;
Philips Semiconductors
;
Nijmegen
;
Net
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
9.
Compact FTIR wafer-state sensors: a new way of in-line ULSI characterization
机译:
紧凑型FTIR晶圆状态传感器:在线ULSI表征的新方法
作者:
Victor A. Yakovlev
;
On-Line Technologies Inc.
;
E Hartford
;
CT
;
USA
;
Sylvie Charpenay
;
On-Line Technologies Inc.
;
East Hartford
;
CT
;
USA
;
Matthew Richter
;
On-Line Technologies Inc.
;
East Hartford
;
CT
;
USA
;
Peter A. Rosenthal
;
On-Line Technologies Inc.
;
Eas
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
10.
Scanning auger microscopy studies of microelectronic features
机译:
扫描螺旋显微镜对微电子特征的研究
作者:
Sandro Santucci
;
INFM
;
Univ. degli Studi dellAquila
;
Coppito AQ
;
Italy
;
Luca Lozzi
;
INFM
;
Univ. degli Studi dellAquila
;
Coppito AQ
;
Italy
;
Davide Pacifico
;
INFM
;
Univ. degli Studi dellAquila
;
Coppito AQ
;
Italy
;
P.Picozzi
;
INFM
;
Univ. degli Studi dellAquil
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
11.
Optical fiber profilometer with submicronic accuracy
机译:
亚微米精度的光纤轮廓仪
作者:
Yasser Alayli
;
Compiegne Univ. of Technology
;
Compiegne Cedex
;
France
;
Danping Wang
;
Compiegne Univ. of Technology
;
Compiegne
;
France
;
Marc Bonis
;
Compiegne Univ. of Technology
;
Compiegne Cedex
;
France.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
12.
Locating defects on wafers for analysis by SEM/EDX AFM and other microanalysis techniques
机译:
定位晶圆上的缺陷以通过SEM / EDX AFM和其他微分析技术进行分析
作者:
Patrick D. Kinney
;
MicroTherm
;
LLC
;
Minneapolis
;
MN
;
USA
;
Yuri Uritsky
;
Applied Materials
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
13.
Investigation of rod-like defects in MOS 12
机译:
MOS 12中的棒状缺陷研究
作者:
Ray Goodner
;
MOS
;
Die Manufacturing
;
Chandler
;
AZ
;
USA
;
Ping Wang
;
MOS
;
Die Manufacturing
;
Chandler
;
AZ
;
USA
;
Fourmun Lee
;
MOS
;
Die Manufacturing
;
Chandler
;
AZ
;
USA
;
Ron Ceton
;
MOS
;
Die Manufacturing
;
Chandler
;
AZ
;
USA
;
John Rios
;
MOS
;
Die Manufacturing
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
14.
Enhanced defect detection capability using combined brightfield/darkfield imaging
机译:
结合使用明场/暗场成像增强的缺陷检测能力
作者:
Mark M. Altamirano
;
Applied Materials
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Andrew Skumanich
;
Applied Materials
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
15.
Plasma damage monitoring for PECVD deposition: a contact potential difference study and device yield analysis
机译:
PECVD沉积的等离子体损伤监测:接触电势差研究和器件良率分析
作者:
Zhiwei Xu
;
Applied Materials
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Chris Bencher
;
Applied Materials
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Maggie Le
;
Applied Materials
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Chris Ngai
;
Applied Materials
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
16.
Basic approaches for metal-induced oxide charge on silicon wafer surfaces studied by AC surface photovoltage techniques
机译:
交流表面光电压技术研究硅片表面金属诱导的氧化物电荷的基本方法
作者:
Author(s): Hirofumi Shimizu Hitachi Ltd. Tokyo Japan
;
Chusuke Munakata Tohoku Institute of Technology Taihaku-ku Sendai Japan.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
17.
Noncontact COS charge analysis for in-line monitoring of wet cleaning processes
机译:
非接触式COS电荷分析,用于在线监测湿法清洗过程
作者:
Xiafang Zhang
;
Vishay Siliconix
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Min Juang
;
Vishay Siliconix
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Sung-Shan Tai
;
Vishay Siliconix
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Kuo-in Chen
;
Vishay Siliconix
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Ejigu Wossen
;
Vishay Siliconix
;
Santa Cla
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
18.
Noncontact surface potential measurements for charging reduction during TEOS deposition and ion implantation
机译:
非接触表面电势测量,可在TEOS沉积和离子注入过程中减少电荷
作者:
Antonio Cacciato
;
Philips Semiconductors
;
Nijmegen
;
Netherlands
;
Peter Schumbera
;
Philips Semiconductors
;
Nijmegen
;
Netherlands
;
Arne Heessels
;
Philips Semiconductors
;
Nijmegen
;
Netherlands
;
Jan R. Luchies
;
Philips Semiconductors
;
Nijmegen
;
Netherlands
;
M
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
19.
Metal layer process characterization: statistical and computational methods for handling interpreting and reacting to inline critical dimension information
机译:
金属层工艺表征:用于处理解释和对内联关键尺寸信息作出反应的统计和计算方法
作者:
Joyce Oey
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Patricia F. Mack
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Chris A. Mack
;
FINLE Technologies
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
20.
Microprocessor technology challenges through the next decade
机译:
未来十年微处理器技术的挑战
作者:
George E. Sery
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
21.
In-line inspection optimization using a yield management system
机译:
使用良率管理系统进行在线检查优化
作者:
Fumio Mizuno
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ibaraki-ken
;
Japan
;
Seiji Isogai
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ibaraki-ken
;
Japan.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
22.
In-line x-ray fluorescence metrology of metals and ultrathin barrier layers for ULSI a
机译:
用于ULSI a的金属和超薄阻挡层的在线X射线荧光计量
作者:
Yosi Y. Shacham-Diamand
;
Tel-Aviv Univ.
;
Tel-Aviv
;
Israel
;
Boris Yokhin
;
Jordan Valley Applied Radiation Ltd.
;
Migdal-Haemek
;
Israel
;
Itzhak Mazor
;
Jordan Valley Applied Radiation Ltd.
;
Migdal-Haemek
;
Israel
;
Avishai Kepten
;
Tower Semiconductors Ltd.
;
Mig
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
23.
Foundry technology trend
机译:
铸造技术趋势
作者:
Jack Y. Sun
;
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.
;
Hsin-Chu
;
Taiwan.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
24.
Value added with in-line electrical characterization: fact or fiction?
机译:
在线电气特性增加的价值:事实还是虚构?
作者:
Steven R. Weinzierl
;
Keithley Instruments
;
Inc.
;
Cleveland
;
OH
;
USA
;
Tim E. Turner
;
Keithley Instruments
;
Inc.
;
Cleveland
;
OH
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
25.
Strategy for a flexible and inexpensive defect density line monitoring for microchip manufacturing
机译:
用于微芯片制造的灵活且廉价的缺陷密度线监控策略
作者:
Friedbald Kiel
;
Siemens
;
Corbeil Essonnes
;
France
;
Olga Andrianaivo-Golz
;
Siemens
;
Corbeil Essonnes
;
France
;
Doron Solomon
;
Applied Materials France
;
Le Coudray-Montceaux
;
France
;
Gerard Bekaert
;
IBM SA
;
Corbeil Esconnes
;
France.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
26.
Scanning capacitance microscope an in-line nondestructive technique for SiO2 characterization
机译:
扫描电容显微镜-一种用于SiO2表征的在线无损技术
作者:
F.Bordoni
;
Univ. degli Studi dellAquila
;
Coppito
;
Italy
;
Rosario De Tommasis
;
Texas Instruments Italia SpA
;
Avezzano AQ
;
Italy
;
A.Di Giacomo
;
Texas Instruments Italia SpA
;
Avezzano
;
Italy
;
L.Fasciani
;
Univ. degli Studi dellAquila
;
Coppito
;
Italy
;
Giusep
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
27.
Co
机译:
什么
作者:
Daniel C. Edelstein
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
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1998年
28.
Phosphorous-outgassing-induced threshold voltage in p-channel power MOSFET devices
机译:
P沟道功率MOSFET器件中磷放气引起的阈值电压
作者:
Fuyu Lin
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Richard De Souza
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Richard Dynes
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Shifeng Lu
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Pat Schay
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Loren Grizzard
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Tim Plutino
;
Motorola
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
29.
Novel method to quantify defect-limited yield loss mechanisms on a mixed-mode analog/digital process
机译:
在混合模式模拟/数字过程中量化缺陷受限良率损失机制的新方法
作者:
Sandra Healy
;
Analog Devices
;
Limerick
;
Ireland.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing II》
|
1998年
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