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A new low-power microwave plasma source using microstrip technology for atomic emission spectrometry

机译：使用微带技术的新型低功率微波等离子体源用于原子发射光谱法

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A new low-power, compact microwave-induced plasma source for applications in atomic emission spectrometry at atmospheric pressure using microstrip technology is described. The gas channel of about 1 mm(2) is integrated in a fused silica dielectric wafer. The microstrip transmission lines are fabricated by sputtering and electro-plating. For example, a unit operates at an input power of 15 W with an argon gas flow of about 500 ml min(-1) at atmospheric pressure. Rotational (OH) and excitation (Fe) temperatures of 650 K and 8000 K, respectively, were measured at these conditions. The emitted radiation can be taken up by an optical fibre positioned in the plasma-gas channel thus enabling an axial observation and coupling to a miniaturized spectrometer. The first devices showed an operation time of at least several hundred hours. Further investigations will lead to even smaller dimensions and lower power consumption and open the way for integrated microwave plasma sources with low detection limits as integrable parts of miniaturized total analytical systems applications. [References: 13]
机译：描述了一种新的低功率，紧凑的微波感应等离子体源，适用于使用微带技术在大气压下进行原子发射光谱分析。大约1 mm（2）的气体通道集成在熔融石英电介质晶片中。微带传输线通过溅射和电镀制成。例如，一个单元在大气压下以15 W的输入功率运行，氩气流量约为500 ml min（-1）。在这些条件下，测得的旋转（OH）和激发（Fe）温度分别为650 K和8000K。发出的辐射可由位于等离子气体通道中的光纤吸收，因此可以进行轴向观察并耦合到小型化的光谱仪。最初的设备显示出至少数百小时的运行时间。进一步的研究将导致更小的尺寸和更低的功耗，并为检测极限较低的集成微波等离子体源作为小型化总分析系统应用的不可分割的部分开辟道路。 [参考：13]

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