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首页> 外文期刊>Journal of Materials Chemistry, C. materials for optical and electronic devices >Thermal nanoimprint lithography of polymer films on non-adhesive substrates by using mussel-inspired adhesive polymer layerst
【24h】

Thermal nanoimprint lithography of polymer films on non-adhesive substrates by using mussel-inspired adhesive polymer layerst

机译：通过使用贻贝启发式粘合剂聚合物层对非粘合剂基材上的聚合物膜进行热纳米压印光刻

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In this paper, we show the first demonstration of a substrate-independent thermal nanoimprint lithography (T-NIL) process by using a mussel-inspired amphiphilic polymer as an adhesive layer. Since the thin adhesive layer comprised of the mussel-inspired amphiphilic polymer strongly bound substrates and polymer layers, surface patterns successfully transferred onto polymer layers by T-NIL process without any exfoliation even at near the glass transition temperature of the polymer. By using this biomimetic T-NIL process, surface patterns successfully transferred even onto a poly(tetrafluoro-ethylene) (PTFE) substrate, which is one of the most non-adhesive materials.
机译：在本文中，我们通过使用贻贝启发的两亲聚合物作为粘合剂层，首次展示了独立于基材的热纳米压印光刻（T-NIL）工艺。由于由贻贝启发的两亲性聚合物组成的薄粘合剂层牢固地粘合了基材和聚合物层，因此即使在接近聚合物的玻璃化转变温度下，表面图案也可以通过T-NIL工艺成功转移到聚合物层上，而不会发生剥落。通过使用这种仿生T-NIL工艺，表面图案甚至成功转移到了聚四氟乙烯（PTFE）基材上，该基材是最不粘的材料之一。

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