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首页> 外文期刊>Journal of Non-Crystalline Solids: A Journal Devoted to Oxide, Halide, Chalcogenide and Metallic Glasses, Amorphous Semiconductors, Non-Crystalline Films, Glass-Ceramics and Glassy Composites >Water diffusion in silica film during silicon wet oxidation
【24h】

Water diffusion in silica film during silicon wet oxidation

机译：硅湿氧化过程中水在二氧化硅膜中的扩散

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Water diffusion in silica glass is explained in terms of the migration of molecular water and its reaction with the silica network to form immobile hydroxyl water. It is assumed that the reaction is fast at high temperatures, and a local reaction equilibrium is maintained during water diffusion. While this mechanism appears to explain water diffusion in silica glasses determined from hydroxyl profiles reasonably well, we found that water diffusion-promoted phenomena, such as the oxidation of silicon, require a small quantity of molecular water diffusing into silica glasses ahead of the hydroxyl diffusion front, unrestricted by the local equilibrium. This was demonstrated by studying oxidation kinetics of silicon with a thick (similar to 15 mu m) oxide layer and measuring the delay time before the steady-state oxidation. (c) 2007 Elsevier B.V. All rights reserved.
机译：二氧化硅玻璃中的水扩散是根据分子水的迁移及其与二氧化硅网络的反应生成固定的羟基水来解释的。假定该反应在高温下是快速的，并且在水扩散期间保持了局部反应平衡。尽管这种机理似乎可以很好地解释由羟基分布决定的二氧化硅玻璃中的水扩散，但我们发现水扩散促进的现象（例如硅的氧化）需要少量的分子水在羟基扩散之前扩散到二氧化硅玻璃中不受局部均衡限制。通过研究具有厚（约15微米）氧化层的硅的氧化动力学并测量稳态氧化之前的延迟时间可以证明这一点。 （c）2007 Elsevier B.V.保留所有权利。

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