【24h】

A protective layer on As2S3 film for photo-resist patterning

机译:As2S3膜上的保护层,用于光刻胶构图

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摘要

We have developed an effective fabrication process for As2S3 planar waveguides. A bottom anti-reflection coating provides a layer that not only protects the As2S3 film from attack by the alkaline developer but also improves line edge roughness of photo-resist patterns which is a pre-requisite for waveguides with smooth sidewalls.
机译:我们已经开发出一种有效的As2S3平面波导制造工艺。底部抗反射涂层提供的层不仅可以保护As2S3膜免受碱性显影剂的侵蚀,而且还可以改善光致抗蚀剂图案的线边缘粗糙度,这是具有光滑侧壁的波导的先决条件。

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