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首页> 外文期刊>Journal of Non-Crystalline Solids: A Journal Devoted to Oxide, Halide, Chalcogenide and Metallic Glasses, Amorphous Semiconductors, Non-Crystalline Films, Glass-Ceramics and Glassy Composites >Effect of methane gas on the properties of nitrogenated amorphous carbon films grown by surface wave microwave plasma CVD
【24h】

Effect of methane gas on the properties of nitrogenated amorphous carbon films grown by surface wave microwave plasma CVD

机译：甲烷气体对表面波微波等离子体CVD生长的氮化非晶碳膜性能的影响

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We have studied the influence of the methane gas (CH4) pressure on the surface morphology, composition, structural and electrical properties of nitrogenated amorphous carbon (a-C:N) films grown by surface wave microwave plasma chemical vapor deposition (SWMP-CVD) using Scanning electron microscopy (SEM), Atomic force microscopy (AFM), Auger electron spectroscopy (AES), X-rays photoelectron spectroscopy (XPS), UV-visible spectroscopy and 4-point probe resistance measurement. We have succeed to grow a-C:N films using a novel method of SWMP-CVD at room temperature and found that the surface morphology, bonding, optical and electrical properties of a-C:N films are strongly dependent on the CH4 gas sources and the a-C:N films grown at higher CH4 gas pressure have relatively high electrical conductivity. (c) 2005 Elsevier B.V. All rights reserved.
机译：我们已经研究了甲烷气体（CH4）压力对使用表面波微波等离子体化学气相沉积（SWMP-CVD）生长的氮化非晶碳（aC：N）膜的表面形态，组成，结构和电性能的影响电子显微镜（SEM），原子力显微镜（AFM），俄歇电子能谱（AES），X射线光电子能谱（XPS），紫外可见光谱和4点探针电阻测量。我们已经成功地在室温下使用SWMP-CVD的新方法来生长aC：N薄膜，发现aC：N薄膜的表面形态，键合，光学和电学特性在很大程度上取决于CH4气源和aC：在较高CH4气压下生长的N膜具有相对较高的电导率。 （c）2005 Elsevier B.V.保留所有权利。

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