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机译:通过催化化学气相沉积(Cat-CVD)形成低温膜
Catalytic chemical vapor deposition (Cat-CVD); Hot-wire chemical vapor deposition (HWCVD); Low-temperature film formation; Amorphous silicon (a-Si); Polycrystalline silicon (poly-Si); Silicon nitride (SiN{sub}x);
机译:通过催化化学气相沉积(Cat-CVD)形成低温膜
机译:催化化学气相沉积(CAT-CVD)低温膜形成
机译:通过催化化学气相沉积法制备的a-Si膜的闪光灯退火,在网纹玻璃基板上形成微米级厚度的多晶硅膜
机译:通过激光化学气相沉积形成低温非晶硅和结晶膜
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:不锈钢上碳酸薄膜的大气压等离子体化学气相沉积减少了大肠杆菌和金黄色葡萄球菌的形成
机译:催化化学气相沉积薄膜形成(CAT-CVD)
机译:金属有机化学气相沉积法测定RuO(sub 2)薄膜的低温生长和取向控制