クラスターイオン衝突における非線形照射効果とそのプロセス応用

松尾二郎; 瀬木利夫; 青木学聡; Jiro MATSUO; Toshio SEKI; Takaaki AOKI

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クラスターイオン衝突における非線形照射効果とそのプロセス応用

机译：团簇离子碰撞中的非线性辐照效应及其工艺应用

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イオンビ鵬ムは，運動エネルギーを容易に変えることができるので，エネルギーに応じた様々な葉過程を利用でき，半導体のイオン注入や微細加工さらには薄膜形成など様々な分野に応用されている。しかし，電子·光デバイスに代表される近年の急速な進歩は，そのデバイスを作り出すプロセスに革新的な進歩を求めており，新しい原理に基づくプロセス技術の開発が急務となっている。

机译：由于可以容易地改变运动能，因此离子束可以根据能量利用各种叶片工艺，并且被应用于各种领域，例如半导体的离子注入，精细处理和薄膜形成。然而，近年来，以电子和光学设备为代表的飞速发展需要在设备制造过程中的创新进步，并且迫切需要开发基于新原理的处理技术。

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来源
《高温学会志》 |2003年第5期|共6页
作者
松尾二郎; 瀬木利夫; 青木学聡; Jiro MATSUO; Toshio SEKI; Takaaki AOKI;
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作者单位

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 jpn
中图分类高压与高温物理学;
关键词
Ion; Cluster; Process; Non-Linear; Impact;

机译：离子;簇;过程;非线性;影响;

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