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レーザー励起EUV光源最適化にむけたプラズマ駆動レーザーの吸収測定

机译：等离子驱动激光器的吸收测量，用于优化激光泵极紫外光

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レーザー生成プラズマからの軟X線·極端紫外線（Extreme Ultraviolet：EUV）領域の放射は本解説で取り上げるEUVリソグラフィ（波長13.5 nm）［1］や水の窓領域（波長2.3-4.4nm）の顕微鏡光源［2］への応用などで注目を集めている．これらの研究分野では，光源の高輝度化が最重要課題の1つとなっている．産業界の求めるEUV露光での最先端半導体量産用の光源出力は250W が必要とされている．2016年7月，ギガフォトン（本社：栃木県）により250W光源出力の達成が報じられたが，このときのレーザーエネルギーからEUVエネルギーへの変換効率（以下単に変換効率と呼ぶ）は4%だったそうである．2000年代前半には1%以下であった変換効率は5.2%（ギガフォトンの成果）まで飛躍的に伸びていることが報告されている．ここに至るまでには適切なレーザー波長に関する研究［3］，スズのマイクロドロップレットと呼ばれる数十μm程度の液滴の射出技術開発［4］，ダブルパルス法を代表とするレーザー照射法の開発［5］など様々な研究がなされてきた．
机译：极紫外（EUV）区域中激光产生的等离子体的发射是用于本说明中讨论的EUV光刻（波长13.5 nm）[1]和水窗区域（波长2.3-4.4 nm）的显微镜光源。它在[2]中的应用引起了关注。在这些研究领域中，增加光源的亮度是最重要的问题之一。在行业所需的EUV曝光条件下，大规模生产尖端半导体所需的光源输出为250W。 2016年7月，Gigaphoton（总部位于To木县）报告称实现了250W光源输出，但是从激光能量到EUV能量的转换效率（以下简称转换效率）为4％。那就对了。据报道，转换效率在2000年代上半年还不到1％，但已大大提高到5.2％（Gigaphoton的结果）。为此，研究适当的激光波长[3]，开发几十μm的称为锡微滴的液滴的注入技术[4]，开发双脉冲法等激光照射方法。已经进行了诸如[5]的各种研究。

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