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【24h】

レジスト除去用プロセスを装備した半導体や液晶露光マスク洗浄装置（その3）－アルカリ洗浄薬によるマスク劣化について

机译：具备抗蚀剂去除工序的半导体及液晶曝光掩模清洗装置（第3部分）-碱性清洗剂引起的面膜劣化

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この記事は、2011年12月号の同タイトル製品紹介に続く、（その3）である。今回は、アルカリ性マスク洗浄薬液によりマスクガラスやクロムパターンはいくらか溶解、エッチングされる。その程度について実験データで考察する。具体的には、ガラス面やクロムパターンへの侵食または、表面改質や透明度の劣化について検証してみた。このテーマは、マスクの寿命にかかわるので重要である。薬液選定、洗浄条件検討からライフを考慮したレシピ選定に参考になる。検証は、当社が推薦しているTRCシリーズ薬液で行い、当社とパーカーコーポレーションのラボで共同実施した。
机译：本文（第3部分）是2011年12月发行的相同标题的产品。这次，掩模玻璃和铬图案被碱性掩模清洁剂溶解并蚀刻。该程度将在实验数据中考虑。具体来说，我们检查了玻璃表面和铬图案的腐蚀，表面改性以及透明度的下降。这个主题很重要，因为它会影响面罩的寿命。从化学物质的选择和清洁条件的检查中选择考虑寿命的配方将很有帮助。验证是使用我们推荐的TRC系列化学品进行的，并与我们在Parker Corporation的实验室中共同进行。

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