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【24h】

Design of multiaperture masks for subnanometer correction of ultraprecision optical components

机译：用于超精密光学组件的亚纳米校正的多孔径掩模的设计

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A technique for correction of optical surfaces has recently been reported. The technique involves oscillatingan optical surface back and forth behind a multiaperture mask to deposit a spatially varying dielectric layer onto the optic to create the desired surface profile. Details are reported of a modified mask design that inherently smooths the deposited layer used for these corrections. Results are also reported with regard to a recent correction that resulted in a thickness uniformity of better than lambda/2000 rms over a working aperture of 37.5 mm.
机译：最近已经报道了用于校正光学表面的技术。该技术涉及在多孔径掩模后面来回振荡光学表面，以将空间变化的介电层沉积到光学器件上，以创建所需的表面轮廓。报道了改进的掩模设计的细节，该掩模设计固有地平滑了用于这些校正的沉积层。还报告了最近的校正结果，该校正导致在37.5 mm的工作孔径上的厚度均匀性优于λ/ 2000 rms。

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