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用于激光直写灰度掩模的二元金属薄膜的制备及光学性质

         

摘要

利用磁控溅射方法制备了Zn/Al二元金属薄膜,得出了制备Zn/Al二元金属薄膜的工艺参数.论述了其在激光直写灰度掩模中的应用.

著录项

  • 来源
    《真空与低温》 |2009年第1期|1-4|共4页
  • 作者单位

    兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000;

    兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000;

    兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000;

    兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000;

    兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000;

    兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 红外光学器件;
  • 关键词

    二元金属薄膜; 磁控溅射; 激光直写; 灰度掩模;

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