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首页> 外文期刊>Applied optics >Optical constants of magnetron-sputtered boron carbide thin films from photoabsorption data in the range 30 to 770 eV
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Optical constants of magnetron-sputtered boron carbide thin films from photoabsorption data in the range 30 to 770 eV

机译：根据光吸收数据，磁控溅射碳化硼薄膜的光学常数在30到770 eV之间

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This work discusses the experimental determination of the optical constants (refractive index) of DC-magnetron-sputtered boron carbide films in the 30-770 eV photon energy range. Transmittance measurements of three boron carbide films with thicknesses of 54.2, 79.0, and 112.5 nm were performed for this purpose. These are believed to be the first published experimental data for the refractive index of boron carbide films in the photon energy range above 160 eV and for the near-edge x-ray absorption fine structure regions around the boron K (188 eV), carbon K (284.2 eV), and oxygen K (543.1 eV) absorption edges. The density, composition, surface chemistry, and morphology of the films were also investigated using Rutherford backscattering, x-ray photoelectron spectroscopy, atomic force microscopy, scanning electron microscopy, and extreme ultraviolet reflectance measurements.
机译：这项工作讨论了在30-770 eV光子能量范围内直流磁控溅射碳化硼薄膜的光学常数（折射率）的实验确定。为此，对三个厚度为54.2、79.0和112.5 nm的碳化硼薄膜进行了透射率测量。据信，这是关于在160 eV以上的光子能量范围内的碳化硼薄膜的折射率以及在硼K（188 eV）和碳K周围的近边缘x射线吸收精细结构区域的首次公开实验数据。 （284.2 eV）和氧气K（543.1 eV）吸收边缘。还使用卢瑟福背散射，X射线光电子能谱，原子力显微镜，扫描电子显微镜和极紫外反射率测量研究了薄膜的密度，组成，表面化学性质和形态。

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