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Optical properties of Al_(2)O_(3) thin films grown by atomic layer deposition

机译：通过原子层沉积法生长的Al_（2）O_（3）薄膜的光学性质

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We employed the atomic layer deposition technique to grow Al_(2)O_(3) films with nominal thicknesses of 400, 300, and 200 nm on silicon and soda lime glass substrates. The optical properties of the films were investigated by measuring reflection spectra in the 400-1800 nm wavelength range, followed by numerical fitting assuming the Sellmeier formula for the refractive index of Al_(2)O_(3). The films grown on glass substrates possess higher refractive indices as compared to the films on silicon. Optical waveguiding is demonstrated, confirming the feasibility of high-index contrast planar waveguides fabricated by atomic layer deposition.
机译：我们采用原子层沉积技术在硅和钠钙玻璃基板上生长标称厚度为400、300和200 nm的Al_（2）O_（3）膜。通过测量400-1800 nm波长范围内的反射光谱来研究薄膜的光学特性，然后通过数值拟合来假设Al_（2）O_（3）的折射率为Sellmeier公式。与在硅上的膜相比，在玻璃基板上生长的膜具有更高的折射率。证明了光波导，证实了通过原子层沉积制造高折射率对比平面波导的可行性。

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