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Comparisons between laser damage and optical electric field behaviors for hafnia/silica antireflection coatings

机译：氧化//二氧化硅减反射膜的激光损伤与光电场行为的比较

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We compare designs and laser-induced damage thresholds (LIDTs) of hafnia/silica antireflection (AR) coatings for 1054nm or dual 527 nm/1054 nm wavelengths and 0 deg to 45 deg angles of incidence (AOIs). For a 527 nm/1054 nm, 0 deg AOI AR coating, LIDTs from three runs arbitrarily selected over three years are approx20 J/cm~(2) or higher at 1054 nm and <10 J/cm~(2) at 527 nm. Calculated optical electric field intensities within the coating show two intensity peaks for 527 nm but not for 1054 nm, correlating with the lower (higher) LIDTs at 527 nm (1054 nm). For 1054 nm AR coatings at 45 deg and 32 deg AOIs and S and P polarizations (Spol and Ppol), LIDTs are high for Spol (>35 J/cm~(2)) but not as high for Ppol (>30 J/cm~(2) at 32 deg AOI; approx15 J/cm~(2) at 45 deg AOI). Field intensities show that Ppol discontinuities at media interfaces correlate with the lower Ppol LIDTs at these AOIs. For Side 1 and Side 2 dual 527 nm/1054 nm AR coatings of a diagnostic beam splitter at 22.5 deg AOI, Spol and Ppol LIDTs (>10J/cm~(2) at 527nm; >35J/cm~(2) at 1054 nm) are consistent with Spol and Ppol intensity behaviors.
机译：我们比较了波长为1054nm或波长为527 nm / 1054 nm的双波长和0度至45度入射角（AOI）的氧化ha /二氧化硅减反射（AR）涂层的设计和激光诱导损伤阈值（LIDT）。对于527 nm / 1054 nm，0度AOI AR涂层，三年内任意选择的三个运行的LIDT在1054 nm时约为20 J / cm〜（2）或更高，而在527 nm时<10 J / cm〜（2） 。涂层中计算出的光电场强度在527 nm处显示两个强度峰，但在1054 nm处未显示，这与527 nm（1054 nm）处的较低（较高）LIDT相关。对于在45度和32度AOI以及S和P极化（Spol和Ppol）下的1054 nm增透膜，Spol的LIDT很高（> 35 J / cm〜（2）），而Ppol的LIDT却不高（> 30 J / cm）。在32度AOI下为cm〜（2）;在45度AOI下约为15 J / cm〜（2）。场强表明，介质界面处的Ppol不连续性与这些AOI处的较低Ppol LIDT相关。对于22.5度AOI的诊断分束器的侧面1和侧面2双重527 nm / 1054 nm增透膜，Spol和Ppol LIDT（在527nm时> 10J / cm〜（2）;在1054时> 35J / cm〜（2）） nm）与Spol和Ppol强度行为一致。

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