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Spot distribution measurement using a scanning nanoslit

机译：使用扫描纳米缝进行光斑分布测量

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A scanning and rotating nanoslit is used to measure submicrometer features in focused spot distributions. Using a filtered backprojection technique, a highly accurate reconstruction is demonstrated. Experimental results are confirmed by simulating the scanning slit technique using a physical optics simulation program. Analysis of various error mechanisms is reported, and the reconstruction algorithm is determined to be very resilient. The slit is 125 nm wide and 50 (mu)m long and is fabricated on a 120 nm thick layer of aluminum. The size of the image field is 15 (mu)m, and simulations indicate that 200 nm Rayleigh resolution is possible with an infinitely narrow slit.
机译：扫描和旋转纳米狭缝用于测量聚焦点分布中的亚微米特征。使用滤波反投影技术，展示了一种高度精确的重建方法。通过使用物理光学模拟程序模拟扫描狭缝技术来确认实验结果。报告了各种错误机制的分析，并且确定了重建算法非常灵活。该狭缝宽125nm，长50μm，并在120nm厚的铝层上制造。像场的大小是15μm，并且模拟表明利用无限窄的狭缝可以实现200nm的瑞利分辨率。

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