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Analysis of the thickness uniformity improved by using wire masks for coating optical bandpass filters

机译:通过使用金属掩膜涂覆光学带通滤光片改善厚度均匀性的分析

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摘要

Layer uniformity was improved by using a wire mask in the fabrication of a coarse wavelength division multiplexer (CWDM) filter. Theoretical simulations determined the optimal diameter of the wire to be placed just below the substrate, which was rotated at 800 rpm during E-beam evaporation. This simulation also demonstrated the correction of the thickness distribution by the etching effect of ion-assisted deposition. In the corresponding experiment, a distribution uniformity of 0.083% in the radial range from 35 to 65 mm was achieved by the coating of the CWDM filter.
机译:通过在粗波分复用器(CWDM)滤波器的制造中使用金属丝掩模来提高层的均匀性。理论模拟确定了放置在基板正下方的最佳导线直径,该导线在电子束蒸发过程中以800 rpm的速度旋转。该模拟还证明了通过离子辅助沉积的蚀刻效应来校正厚度分布。在相应的实验中,通过涂覆CWDM过滤器,在35到65 mm的径向范围内实现了0.083%的分布均匀性。

著录项

  • 来源
    《Applied optics》 |2014年第7期|共7页
  • 作者

    Jin-Cherng Hsu;

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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