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Nanolithography through mixture of block copolymer micelles

机译：通过嵌段共聚物胶束的混合物进行纳米光刻

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Block copolymer micelle lithography is known for producing ordered and uniform nanostructures. In this report, we have combined different types of block copolymer to produce two interpenetrating lattices of micelle nanoreactors, further extending the capacity of block copolymer micelle lithography. Using polystyrene-block-poly(acrylic acid) and polystyrene-block- poly(4-vinylpyridine), we have generated hexagonally packed hybrid micelles. Metal species can preferentially sequester into poly(acrylic acid) and poly(4-vinylpyridine) cores respectively by immersion of the micelle coated substrates into the metal precursor solution. As a result, metal containing nanoparticle hybrids, such as smaller zinc oxide nanoparticles surrounding larger gold nanoparticles, can be generated.
机译：已知嵌段共聚物胶束光刻技术用于产生有序且均匀的纳米结构。在本报告中，我们结合了不同类型的嵌段共聚物，以产生两个相互渗透的胶束纳米反应器晶格，进一步扩展了嵌段共聚物胶束光刻的能力。使用聚苯乙烯嵌段聚（丙烯酸）和聚苯乙烯嵌段聚（4-乙烯基吡啶），我们生成了六边堆积的杂化胶束。通过将胶束涂覆的基材浸入金属前体溶液中，金属物质可以分别优先分别螯合到聚丙烯酸和聚4-乙烯基吡啶核中。结果，可以产生含金属的纳米颗粒杂化物，例如围绕较大的金纳米颗粒的较小的氧化锌纳米颗粒。

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