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【24h】

Sub-15 nm linewidth gratings using roll-to-roll nanoimprinting and plasma trimming to fabricate flexible wire-grid polarizers with low colour shift

机译：使用卷对卷纳米压印和等离子微调的亚15纳米线宽光栅，以制造具有低色偏的柔性线栅偏振器

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Sub-15 nm-wide gratings with a high aspect ratio of up to 16:1 were fabricated using roll-to-roll nanoimprinting and plasma trimming to achieve high optical performance (up to 12 000:1 extinction ratio with an average transmittance of 82%) and low colour shift (transmittance variation less than 3%) flexible wire-grid polarizers for display applications. We applied two imprint platforms onto glass and plastic substrates to identify the optical properties and characteristics of each fabrication process. To enhance the tolerance, reproducibility, and optical performance of the process, the grating profile symmetry and varying residual layer thicknesses were precisely simulated and controlled to achieve the design targets.
机译：使用卷对卷纳米压印和等离子微调制造了高纵横比高达16：1的亚15纳米宽光栅，以实现高光学性能（高达1200：1的消光比，平均透射率为82 ％）和低色偏（透射率变化小于3％）的柔性线栅偏振器，用于显示应用。我们在玻璃和塑料基板上应用了两个压印平台，以识别每个制造过程的光学特性和特征。为了提高工艺的公差，可重复性和光学性能，精确模拟和控制光栅轮廓的对称性和变化的残留层厚度，以达到设计目标。

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