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机译:结合湿法蚀刻和实时损伤事件成像,发现熔融石英中最危险的激光损伤引发剂
机译:结合湿法蚀刻和实时损伤事件成像,发现熔融石英中最危险的激光损伤引发剂
机译:通过结合反应离子束刻蚀和动态化学刻蚀来无痕地减轻熔融石英表面上的激光损伤前体
机译:湿化学蚀刻对熔融二氧化硅刮擦形态和激光损伤性的影响
机译:通过湿化学蚀刻技术提高熔融石英光学器件的UV激光损伤阈值
机译:熔融石英中的高功率激光损坏。
机译:反应离子刻蚀过程中紫外激光损伤对熔融石英光学器件中污染物浓度的影响
机译:HF / HNO $ _3 $和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学元件的抗激光损伤性和表面质量的影响
机译:研究抛光,蚀刻,裂解和水浸对熔融石英紫外激光损伤的影响