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Fourier spectrum method to determine dose-to-clear in a photoresist

机译:傅里叶光谱法确定光​​致抗蚀剂的清除剂量

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摘要

A Fourier spectrum method to determine the dose-to-clear in a photoresist is proposed. The frequency content of scanning electron microscope resist images is used to determine whether the resist has been dissolved. Using this method, the dose to clear the resist is calculated automatically instead of via visual inspection, a method in which operator influence can affect the result.
机译:提出了一种傅立叶光谱方法来确定光刻胶中的清除剂量。扫描电子显微镜抗蚀剂图像的频率含量用于确定抗蚀剂是否已溶解。使用此方法,可以自动计算清除抗蚀剂的剂量,而无需通过目测检查,操作人员的影响会影响结果。

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